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「position mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索
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position markの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2640



例文

The position and/or the shape of at least one mark in an image to be printed is determined by using prepress data.例文帳に追加

印刷される画像における少なくとも1つのマークの位置および/または形状が、プリプレスデータを用いて決定される。 - 特許庁

To correct the read position of an original by using a detection mark arranged on one side in the scanning direction of an original mounting section.例文帳に追加

原稿載置部の走査方向の片側に配置された検出マークを用いて、原稿の読取位置を補正すること。 - 特許庁

A first mark 11 is made in the floor surface 10 of a building to indicate a position to be provided with a partition panel 1.例文帳に追加

建物の床面10に付された間仕切パネル1を設けるべき位置を表す第1の印11を備える。 - 特許庁

The position of the spot, the label or the mark may be determined, in accordance with parameters of the diffracting mechanism and/or the cavity.例文帳に追加

スポット、標識またはマークの位置は、回折機構および/または空洞のパラメータに従って決定することができる。 - 特許庁

例文

Then, the bulb is pressed down to cover it on the mount up to a required position, and a point mark 6 is sealed on the bulb 3.例文帳に追加

次にバルブ3を押し下げてマウント1にバルブ3を所望の位置まで被せ、ポイントマーク6をバルブ3に捺印する。 - 特許庁


例文

To provide an apparatus, method and mark for easily and accurately detecting a position.例文帳に追加

簡便に且つ正確に位置を検出できる位置検出装置、位置検出方法、及び位置検出用マークを提供する。 - 特許庁

To provide a mark detection method capable of efficiently detecting position information of a plurality of marks provided in an object according to required detection accuracy.例文帳に追加

物体に設けられた複数のマークの位置情報を必要な検出精度に応じて効率的に検出する。 - 特許庁

To provide a navigation apparatus capable of accurately displaying a self-vehicle position mark at a branch point of a very small angle.例文帳に追加

微小角分岐点において、自車位置マークをより正確に表示することができる「ナビゲーション装置」を提供する。 - 特許庁

A substrate 1 is prepared that is optically transparent and formed with an optical catalysis functional film 2 and a position reference mark M.例文帳に追加

光学的に透明であり、光触媒機能性膜2及び位置基準マークMが形成された基板1を用意する。 - 特許庁

例文

Based on that index pattern, position of the mark 50M can be detected with high precision from L/S patterns LSx and LSy.例文帳に追加

この指標パターンを基に、L/SパターンLSx,LSyから、マーク50Mの位置を高精度に検出することができる。 - 特許庁

例文

An error recovery processing part 234 stores the data address mark used for next retry in the register 221 from the error position.例文帳に追加

エラー回復処理部234は、そのエラー位置から、次のリトライ使用するデータ・アドレス・マークを、レジスタ221に格納する。 - 特許庁

In the constitution of a calendar showing dates, a mark that data is preserved is displayed in the position of the date when data is preserved.例文帳に追加

日付を表すカレンダーの構成において、データが保存された日の位置に、データが保存されているマークを表示する。 - 特許庁

When the vehicle position mark approaches a facility, a reading processing part 106 outputs voice data corresponding to the facility.例文帳に追加

読み上げ処理部106は、車両位置マークが施設に近づいたとき、その施設に対応する音声データを出力する。 - 特許庁

(c) On the basis of this alignment information, laser beam irradiation is performed at the incident position corresponding to the detected alignment mark.例文帳に追加

(c)この位置合わせ情報に基づき、検出されたアライメントマークに対応する被入射位置にレーザ入射を行う。 - 特許庁

The end of the flexible tube 1 is inserted into the joint A till a position where the vertical mark 35 hides inside the joint A.例文帳に追加

次いでフレキシブルチューブ1の端部を継手A内に上記縦マーク35が継手A内に隠れる位置まで差し込む。 - 特許庁

To provide a fluorescence endoscope apparatus capable of displaying a mark for indicating a measure position on the endoscope image.例文帳に追加

内視鏡画像上に測定対象箇所を示すマークを表示することができる蛍光内視鏡装置を、提供する。 - 特許庁

Positional shift of the mark determined by both recognitions is taken into account by a CPU for correcting the grasped position of the electronic component.例文帳に追加

そして、CPUは両認識処理によるマークの位置のズレ量を把握された電子部品の位置の補正に加味する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTION OF POSITION, INDUSTRIAL VEHICLE, MARK, PALLET, SHELF AND SYSTEM FOR MATERIALS HANDLING AND PASTING AGENT例文帳に追加

位置検出方法、位置検出装置、産業車両、マーク、荷役用パレット、荷役用棚、貼付用シート及び荷役システム - 特許庁

A mark 13 is provided at a position under at least one feeding point 12 of the solar cell substrate 8.例文帳に追加

太陽電池基板8の少なくとも一つの給電ポイント部12の下に位置する部分にマーク13が設けられている。 - 特許庁

To provide a sheet transport apparatus capable of placing a mark at an optional position and to provide an image reading apparatus provided with the same.例文帳に追加

任意の位置に印を付けることのできるシート搬送装置及びこれを備えた画像読取装置を提供する。 - 特許庁

To accurately measure the position information of a part to be measured, such as, a mark, etc. even when light having a wide wavelength region is used.例文帳に追加

広い波長帯域の光を用いる場合でも、マーク等の被計測部の位置情報を高精度に計測する。 - 特許庁

The shielding film 9 is formed on the lower layer to shield energy rays which are used for detecting a position detecting mark 12.例文帳に追加

遮蔽体膜9は、下層上に形成され、位置検出用マーク12の検出に用いるエネルギー線を遮断する。 - 特許庁

Then an inter-paper mark is formed as a toner image in a position of the intermediate transfer belt corresponding to the inter-paper space, a color deviation amount of the inter-paper mark is calculated, and the phase of the intermediate transfer belt 41 where the inter-paper mark is formed is detected.例文帳に追加

次に、中間転写ベルト41の用紙間に相当する位置にトナー像として紙間マークを形成し、この紙間マークの色ずれ量を算出し、当該紙間マークが形成された中間転写ベルト41の位相を検出する。 - 特許庁

A window 111 is provided on a cover 11a of a cutter unit frame 11 and a mark 230, for example, a triangle mark, is provided on the surface of a worm wheel 23 so that the mark 230 is shown in the window 111 when the movable cutter 9 comes to its stand-by position.例文帳に追加

カッタユニットフレーム11のカバー11aに窓部111を設けるとともに、ウォームホイール23の表面に例えば三角の目印230を設け、可動刃9が待機位置にある場合にこの目印230が窓部111において表示される。 - 特許庁

The elevated region 416 of the hard mask is formed in a corresponding location to the trench 406 of the lower layer alignment mark 401, and this elevated region 416 becomes a new alignment mark where the horizontal position of the lower layer alignment mark 401 is stored.例文帳に追加

ハードマスクの上昇領域416は下層のアライメントマーク401のトレンチ406に対応する位置に形成されており、この上昇領域416は下層のアライメントマーク401の水平位置が保存された新たなアライメントマークとなる。 - 特許庁

This map display 20 of the present invention is provided with the map, and a display means 215 for displaying a current position mark, and displays the azimuth mark indicating an azimuth of the map, and/or the advancing direction mark indicating an advancing direction of the map display, on the display screen.例文帳に追加

地図表示装置20は、地図と現在位置マークを表示する表示手段215とを備え、地図の方位を示す方位マークおよび/または地図表示装置の進行方向を示す進行方向マークを表示画面に表示する。 - 特許庁

Detecting precision is improved by performing arrangement at a position with periodic property, such as a sector mark(SM) pit in an ID data area, an address mark(AM) pit, an SYNC code(SC) pit in a user data area and/or a recording mark.例文帳に追加

また、IDデータ領域にあるセクタマーク(SM)ピット、アドレスマーク(AM)ピットやユーザデータデータ領域にあるSYNCコード(SC)ピット及び/或いは記録マークなどの周期性のある位置に配置することによって検出精度を向上させる。 - 特許庁

Then, a communication control portion 14 transmits mark information indicative of a mark position generated by mark information generating portion 11 and channel information set by the channel setting portion 203 to other information communication terminals.例文帳に追加

そして、通信制御部14は、目印情報作成部11によって作成された目印の位置を示す目印情報、および、チャンネル設定部203において設定されているチャンネル情報を他の情報通信端末に対して送信する。 - 特許庁

An order (n), position where a mark (m) among n-rows and n-columns, the order of arraying the mark (m) along the row direction or the column direction of the n-rows and n-columns and the selecting order of the mark (m) are set respectively in an arithmetic part 1.例文帳に追加

演算部1には次数nと、n行n列のうちの記号mが最初に配列される位置と、記号mをn行n列の行方向又は列方向に沿って配列する順序と、記号mの選択順序とがそれぞれ設定されている。 - 特許庁

The electron beam lithography device 100 includes a first measuring instrument 4 which irradiates a mark formed on a substrate 6 with light and detects reflected light of the irradiation light to measures the position of the mark, a second measuring instrument 24 which detects a secondary electron generated from an electron beam irradiating the mark from an electron source through an electrooptical system to measure the position of the mark, and a controller 12.例文帳に追加

電子線描画装置100は、基板6に形成されたマークに光を照射し、照射された光の反射光を検出して前記マークの位置を計測する第1計測器4と、電子源から電子光学系を介して前記マークに照射された電子線から発生する二次電子を検出して前記マークの位置を計測する第2計測器24と、制御器12と、を備える。 - 特許庁

The position detecting data of the first reference mark 11 and the second reference mark 12 in a prescribed symmetrical shape formed with prescribed position relation at ' f overlapping and forming the circuit pattern or the like on a semiconductor substrate 1, and the dimension detection data of the first reference mark 11 or the second reference mark 12 are detected by detection means 36x and 36y.例文帳に追加

半導体基板上1に回路パターンなどを重ね合わせて形成する際に所定の位置関係をもって形成される所定の対称形状の第1基準マーク11および第2基準マーク12の位置検出データと、該第1基準マーク11または該第2基準マーク12の寸法検出データとを検出手段36x,36yによって検出する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing method, a position detecting method for a reference mark for charged particle beam drawing, and a charged particle beam drawing device, wherein the position of the reference mark formed on a sample and having a step can be detected with good reproducibility without being influenced by edge roughness of the reference mark.例文帳に追加

試料に形成された段差を有する基準マークのエッジラフネスの影響を受けることなく、基準マークの位置を再現性良く検出することが可能な荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画用の基準マークの位置検出方法及び荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

In addition, in the case where the bonding head 11 does not recognize a first mark at a first halt position above the wafer 1, it continues searching automatically until it recognizes the first mark, and registers the position of the obtained first recognition mark as a data.例文帳に追加

この方法では、上記カメラユニットが、ウエハの上方での認識第1点目において、認識対象とするマークが認識し得ない場合に、第1番目のマークを認識し得る第1認識位置を検索し、該第1認識位置の検索後、その位置をデータとして自動的に登録し、登録された位置データに基づき、マーク認識を実行する。 - 特許庁

To dispense with a process of forming an alignment mark through an exposure process, to reduce the manufacturing cost, to provide the alignment mark and a method of forming the same, a display device, and an electronic apparatus, and to provide a method of detecting the position of the alignment mark so as to accurately position the substrate.例文帳に追加

露光処理によるアライメントマークを形成する工程の無駄と、製造原価を削減し、アライメントマーク及び形成方法及び表示装置及び電子機器を提供し、また、アライメントマークの位置を検出することで、高精度な基板の位置決めが可能となるアライメントマーク位置検出方法を提供する。 - 特許庁

With respect to the image of the mark thus picked up, a specific algorithm which can realize high position detecting accuracy in the case where the image of the mark is influenced by the aberration of the optical system is selected out of a plurality of position detecting algorithms in accordance with the influence of the aberration exerted upon the image of the mark (steps 126-128).例文帳に追加

こうして撮像されたマーク像について、そのマーク像における結像光学系の収差の影響度に応じて、複数の位置検出アルゴリズムの中から、その収差の影響度がある場合において高い位置検出精度を実現できる特定アルゴリズムを選択する(ステップ126〜128)。 - 特許庁

In this car navigation device 1, when a mark body such as a landmark or a destination approaches in the middle of processing of route guide, a highlighted image wherein the mark body reflected in an image photographed by a camera 21 is highlighted is displayed from a present position of a vehicle, the position of the mark body or a photographing direction of the camera.例文帳に追加

このカーナビゲーション装置1では、経路案内の処理を実行している途中で、ランドマークや目的地などの目印体が近づくと、車両の現在位置、目印体の位置、カメラの撮影方向などから、カメラ21で撮影した画像中に映っている目印体が強調表示された強調表示画像が表示される。 - 特許庁

A positioning mark 9 formed with a soft magnetic film is provided in the center of the master disk, in irradiating the position of this mark 9 with a light source 1 and recognizing the mark with an image sensor 2 using a CCD, the visibility for the positioning mark 9 is improved by using a wavelength selecting filter 12 or employing a laser beam for the light source 1.例文帳に追加

マスタディスクの中心位置に軟磁性膜からなる位置決めマーク9を設け、このマーク9の位置を光源1で照らし、CCDを用いた画像センサ2で認識する際に、波長選択フィルタ12または光源1にレーザを用いることによって、位置決めマーク9の認識性を向上する。 - 特許庁

The method includes a step of detecting a base line quantity which is the spacing between the treating optical system 4 and the alignment optical systems 12a to 12d by using the first reference mark and the second reference mark and a step of correcting the base line quantity detected in accordance with the relative position error of the first reference mark and the second reference mark.例文帳に追加

第1基準マークと第2基準マークとを用いて、処理光学系4とアライメント光学系12a〜12dとの間隔であるベースライン量を検出するステップと、第1基準マークと第2基準マークとの相対的な位置誤差に基づいて、検出したベースライン量を補正するステップとを含む。 - 特許庁

The mask is formed with a mask circuit pattern which is identical in design to other design circuit patterns, a mask top first mark which is overlapped in design with the substrate top first mark when the mask circuit pattern and the substrate top circuit pattern are overlapped at an overlapping position, and a mask top second mark which is overlapped in design with the substrate top second mark.例文帳に追加

マスクは、他の設計回路パターンと設計上は合同のマスク回路パターンと、マスク回路パターンと基板上回路パターンを重ね合わせ位置で重ねた場合に基板上第1マークと設計上重なるマスク上第1マークと、基板上第2マークと設計上重なるマスク上第2マークを有する。 - 特許庁

The information processing apparatus 30 is designed to read the mark sheet 20 provided with the 2-dimensional code, to determine whether a mark is described or not in each mark column after extracting information on the position and the shape of the mark column from the 2-dimensional code, and outputs reply content after tallying based on its result of determination.例文帳に追加

情報処理装置30は、この2次元コードが設けられたマークシート20を読み取り、2次元コードからマーク欄の位置および形状の情報を取り出してそれぞれのマーク欄にマークが記載されているか否かを判定し、その判定結果に基づいて回答内容を集計して出力する。 - 特許庁

And the CD-ROM medium 1 is rotated so as to put an arrow mark 6 together to an opposite side position of the position, and a sticker equivalent to the weight of a deviation of the center of gravity is stuck there.例文帳に追加

そして、その位置と反対側の位置に矢印マーク6を合わせるようにCD-ROM媒体1を回し、そこに重心ズレの重さに相当するステッカーを貼る。 - 特許庁

When such a three-dimensional map is displayed, unlike the case of displaying bird's-eye view map, own vehicle position mark, for indicating the present position of own vehicle, is not displayed.例文帳に追加

このような立体地図を表示するときには、鳥瞰地図を表示する場合とは異なり、自車両の現在位置を表すための自車位置マークを表示しない。 - 特許庁

The position of the head 15a of the nail 15 to be adjusted is checked with the black dot mark 28, and after the position is confirmed, the head 15a of the nail 15 can be moved.例文帳に追加

調整すべき釘15の頭部15aの位置を黒丸マーク28と照らし合わせ、位置を確認した上で、釘15の頭部15aを移動させることができる。 - 特許庁

To provide a highly versatile cutting position detecting device of traveling sheets surely identifying a pitch mark as a criterion of a length cutting position in a short period of time.例文帳に追加

長さ切断位置の目安としてのピッチマークを短時間で確実に識別できる汎用性の高い走行シートの切断位置検出装置を提供することである。 - 特許庁

Next, the position of the wafer 26 is adjusted based on position information of the reference mark 30 obtained by imaging and the wafer 26 is irradiated with the exposure light 12 via a mask 20 (S8).例文帳に追加

次いで、撮像で得られた基準マーク30の位置情報に基づいて、ウェハ26の位置を調整し、マスク20を介して露光光12をウェハ26に照射する(S8)。 - 特許庁

A position in which the aperture 54 is provided is the thickness direction center position of the tape cassette 51, and the mark 79 put to the label tape 67 is located in the aperture 54.例文帳に追加

この開口部54が設けられている位置は、テープカセット51の厚み方向の中心位置であり、ラベルテープ67に付されたマーク79が開口部54に位置する。 - 特許庁

An imaging device images a mark formed on the drawing object held on the movable platform and the incident position detector to measure the position in the XY coordinate system.例文帳に追加

撮像装置が、可動台に保持された描画対象物に形成されたマーク、及び入射位置検出器を撮像し、XY座標系における位置を計測する。 - 特許庁

To provide an image projection system whereby a display position of a position mark displayed on a projected image can be easily controlled from a location separated from a projection means.例文帳に追加

投射画像上に表示される位置マークの表示位置を、投射手段から離れた所から簡単に制御することができる映像投射システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a processor for an electronic endoscope which is capable of automatically recognizing the position of lesion and automatically superimposing a mark indicating the position of the lesion on an endoscopic image.例文帳に追加

病変部の位置を自動認識し、病変部の位置を示すマークを自動的に内視鏡画像に重畳させることが可能な電子内視鏡用プロセッサを提供する。 - 特許庁

例文

A pattern for constituting a position detecting mark used when a position detection on a substrate is carried out by an exposure device has a plurality of layers of patterns as a feature.例文帳に追加

基板上の位置検出を露光装置で行う場合に用いる位置検出マークを構成するパターンが、複数の層のパターンを有することを特徴とするものである。 - 特許庁




  
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