「position mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING POSITION OF MARK AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

マーク位置計測方法と装置および半導体製造装置 - 特許庁

Also, a distance between the first reference position mark 41a and a second reference position mark 41b is measured by a second measuring means 82.例文帳に追加

さらに第１基準位置マーク４１ａと第２基準位置マーク４１ｂとの距離を第２測定手段８２により測定する。 - 特許庁

The lens position confirmation chart has a pattern 51 and a mark 52.例文帳に追加

レンズ位置確認チャートは模様５１及び標識５２を有する。 - 特許庁

Next, the present position of a slider is calculated based on the repeated number of the pattern of the detection mark 23 in the master mark row 24 from a machine origin before the detection mark reaches the detection mark 23 in the current master mark row 24 and the position XX in the detection mark obtained before.例文帳に追加

次に、現在のマスタマーク列２４の検出マーク２３に到達する前までの機械原点からのマスタマーク列２４の検出マーク２３のパターン繰返数と、先に求めた検出マーク内位置ＸＸとに基づいてスライダの現在位置を演算する。 - 特許庁

This electronic display method comprises a step S4 for designating a mark displayed on a display screen, a step S6 for moving the designated mark to an arbitrary position and a step S10 for re-arranging the mark at the position to which the mark is moved.例文帳に追加

表示画面に表示されたマークを指定するステップＳ４と、指定したマークを任意の位置へ移動するステップＳ６と、移動した位置にマークを再配置するステップＳ１０とを備える。 - 特許庁

In the small screen, a second map around the map position of the present position mark is displayed.例文帳に追加

小画面には、現在地マークの地図上の位置の周辺の第２の地図を表示させる。 - 特許庁

A display processing section 18c displays a mark at the first position when the first position is designated, then displays a mark at a third position different from the first position and the second position, and then controls to display a mark at the second position.例文帳に追加

表示処理部１８ｃは、第１の位置が指定されたときに第１の位置に目印を表示し、続いて第１の位置と異なると共に第２の位置と異なる第３の位置に目印を表示し、続いて第２の位置に目印を表示する制御を行う。 - 特許庁

The position of the mark is detected for each pattern set by sensors 17, 18 and 19 and position information is stored.例文帳に追加

パターンセットごとにマークの位置をセンサ17、18、19で検出して、位置情報を記憶する。 - 特許庁

A position detection member 31 including a position reference mark 8 is fixed to the base member 1.例文帳に追加

支持部材１に位置基準マーク８を含む位置検出部材３１を固定する。 - 特許庁

A reflective sensor 7 is arranged in the position of Y1 just under the position detecting mark 5.例文帳に追加

また、反射センサ７が位置検出マーク５の直下のＹ１の位置に配設されている。 - 特許庁

The determined dot mark forming position is made mechanically matched with the image forming position of the processing system 20.例文帳に追加

決定されたドットマーク形成位置を処理系20の結像位置に機械的に一致させる。 - 特許庁

To provide a mark position detector that can accurately detect the position of a mark even if distortion aberration remains in an image-forming optical system for forming the image of the mark.例文帳に追加

マークの像を形成する結像光学系に歪曲収差が残存していても、マークの位置を正確に検出できるマーク位置検出装置を提供する。 - 特許庁

A camera mark position determination part 38 of a camera mark part 37 determines the position of a camera mark of each monitoring camera on a map image based on the positional information of the monitoring camera.例文帳に追加

カメラマーク部３７のカメラマーク位置決定部３８は、各監視カメラの位置情報に基づいて地図画像上での各監視カメラのカメラマークの位置を決定する。 - 特許庁

When the paper is determined to be thermal paper with a mark, the print position and cutting position are controlled on the basis of at least one mark detection by the mark sensor.例文帳に追加

マーク付サーマル用紙であるとの判定に際しては、マークセンサによる少なくとも１つのマーク検知を基準にしてプリント位置および切断位置を制御する。 - 特許庁

On the rewiring 18, a mark member 24 is formed, where the mark member 24 provides an alignment mark arranged in a prescribed position relationship with the metal post 16.例文帳に追加

再配線１８上に、メタルポスト１６と所定の位置関係で配置されたアライメントマークを提供するマーク部材２４を形成する。 - 特許庁

The relative position relationship between an image on the wafer surface of a reticle fiducial mark 51 and a wafer fiducial mark 53 is measured by a mark detection method.例文帳に追加

レチクルフィジシャルマーク５１のウェハ面上での像と、ウェハフィジシャルマーク５３の相対位置関係をマーク検出法により測定する。 - 特許庁

In the member vehicle 2-1, a mark according to the number of reports (caution mark or alarm mark) is displayed in the sighting position on the navigation screen.例文帳に追加

会員車両２−１ではナビゲーション画面上の目撃位置に通報数に応じたマーク（注意マーク又は警告マーク）を表示する。 - 特許庁

Then, a reaction position having the smallest total value among each reaction position is specified as the mark position (S135).例文帳に追加

次に各反応位置のうち、合計値が最も小さい反応位置をマークの位置として特定する（Ｓ１３５）。 - 特許庁

Map matching is performed, and the display position of the mark 41 of the position of one's own vehicle is moved to a position 32 on the center line 46.例文帳に追加

マップマッチングを行い、自車位置マーク４１の表示位置をセンターライン４６上の位置３２に移動する。 - 特許庁

At that position an image of a mark displayed on the convex surface of the lens S1 is picked up and subjected to image processing to calculate the position of the mark and the position of an eye point, etc., is calculated from this mark information.例文帳に追加

この位置で被検レンズS1の凸面に表示されているマークを撮像し、この画像を画像処理することによりマークの位置を算出し、このマーク情報からアイポイントの位置等を算出する。 - 特許庁

A mark 28 like an arrow mark and a high reflection member 29 are provided on the leading end position index plate 26.例文帳に追加

先端位置指標板２６には、矢印状のマーク２８と高反射部材２９とが設けられている。 - 特許庁

The column position mark 16a is, for example, a mark-off line, a minute groove, or a line drawn in ink and the like.例文帳に追加

柱位置マーク１６ａは、例えばけがき線や微小な溝、インク等により描かれた線等である。 - 特許庁

To scroll a map while clearing the positional relation of one's own car position mark and a cursor mark (center coordinates of the map).例文帳に追加

自車位置マークとカーソルマーク（地図の中心座標）の位置関係を明確にしながら地図スクロールする。 - 特許庁

A hologram mark 13 is included in the detection mark 12 utilized to detect a position in the transfer medium 1.例文帳に追加

転写媒体１において位置の検出に利用される検知マーク１２にはホログラムマーク１３を含める。 - 特許庁

The focused ion beam device detects the mark with a mark detecting view magnification lower than a view magnification when registering the mark, before processing the processed pattern, calculates a degree of displacement while comparing the position of the registered mark with the position of the detected mark, and detects the mark again after shifting an ion beam deflection region to restore the view magnification into that when registering the mark.例文帳に追加

加工パターンの加工前にマーク登録時の視野倍率よりも低いマーク検出用の視野倍率でマークを検出し、登録したマークと検出されたマークの位置を比較して位置ずれ量を算出し、イオンビーム偏向領域をシフトさせてマーク登録時の視野倍率に戻してマークを再検出する。 - 特許庁

The mark based on the position information is further displayed on this map.例文帳に追加

その地図上に、さらに位置情報に基づいたマークを表示する。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING MARK BOUNDARY POSITION例文帳に追加

マーク境界位置検出装置およびマーク境界位置検出方法 - 特許庁

Furthermore, a mark is printed at a printing data finish position when printing.例文帳に追加

さらに印刷時に印刷データ終了位置にマークを印字する。 - 特許庁

To realize a speed-up mark position measurement using orthogonal transformation.例文帳に追加

直交変換を用いたマーク位置計測の高速化を実現できる。 - 特許庁

When a first layer is exposed, reference mark detection is performed multiple times and a detected position and time are stored in a mark position storage section 54.例文帳に追加

第１層露光時に、複数回基準マーク検出を行ってその位置と検出時刻をマーク位置記憶部５４に記憶しておく。 - 特許庁

Thereafter, the correction mark (7) is imaged by means of the camera (5) and the position of the correction mark (7) is measured in order to correct the irradiating position.例文帳に追加

次に、撮像カメラ５によって補正用マーク７を撮像して補正用マーク７の位置を測定し、照射位置の補正を行う。 - 特許庁

SUBSTRATE FRONT AND BACK SURFACE MARK POSITION MEASURING METHOD, SUBSTRATE FRONT AND BACK SURFACE MARK POSITION MEASURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF RETICLE FOR ELECTRON BEAM PROJECTION EXPOSURE例文帳に追加

基板表裏面マーク位置測定方法、基板表裏面マーク位置測定装置及び電子線投影露光用レチクルの製造方法 - 特許庁

The position deviation of the mark for work positioning is measured at each feed of the short size material in a constant pitch interval by a mark position measurement sensor 20.例文帳に追加

短尺材を一定ピッチ間隔で送るごとにマーク位置測定センサによりワーク位置決め用マークの位置ずれを測定する。 - 特許庁

The processing unit 22 locates the position of the obstacle around the vehicle, based on the distance measured by the distance measurement sensor 21, superimposes a sensor position mark and the detection point mark of the obstacle to the own vehicle position mark, and highlights the sensor position mark and the detection position mark of the obstacle for displaying on the display 23.例文帳に追加

処理ユニット２２は、距離測定センサ２１により測定される距離に基づき、車両周辺の障害物の位置を特定するとともに、センサ位置マーク、および、障害物の検出点マークを、自車位置マークに重畳して、かつ、センサ位置マークおよび障害物の検出位置マークを強調して表示器２３にて表示させる。 - 特許庁

To accurately detect a position of an alignment mark of a mask and a position of an alignment mark of an underlying pattern on a substrate by accurately focusing an image capturing device on the alignment mark of the mask and the alignment mark of the underlying pattern on the substrate.例文帳に追加

画像取得装置の焦点をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークに精度良く合わせて、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。 - 特許庁

To provide a mark sheet preparing program capable of preparing the mark sheet with a high freedom in which a paper with a predetermined position for a mark reading target is not required.例文帳に追加

マーク読取指標の位置を予め特定した用紙を用いる必要がない、自由度の高いマークシートを作成できる作成プログラム。 - 特許庁

To provide a register mark used for register control and having high resistance to noise included in a mark, and a method for identifying the position of the register mark.例文帳に追加

見当合せ制御に使用するレジスタマークにおいて、マークに含まれるノイズへの耐性が高いマークと該マークの位置同定法を提供する。 - 特許庁

The first is the mark ID (an integer), the second is the mark position in frames from the beginning of the data(an integer), the third is the name of the mark (a string).例文帳に追加

要素の1番目はマークID(整数)、2番目はマーク位置のフレーム数をデータの始めから数えた値(整数)、3番目はマークの名称(文字列)です。 - Python

The registration pattern 121 is set so that all of the reference position of the mark group of black marks 119K, the reference position of the mark group of yellow marks 119Y, the reference position of the mark group of magenta marks 119M and the reference position of the mark group of cyan marks 119C are aligned with one another.例文帳に追加

レジストレーションパターン１２１は、ブラックのマーク１１９Ｋのマーク群の基準位置と、イエローのマーク１１９Ｙのマーク群の基準位置と、マゼンタのマーク１１９Ｍのマーク群の基準位置と、シアンのマーク１１９Ｃのマーク群の基準位置とが全て一致するように設定されている。 - 特許庁

Finally, a mark position is detected by placing the object at the position in the Z direction and thus determined.例文帳に追加

最後に、上で求めたＺ方向の位置に検出物体を置きマーク位置を検出する。 - 特許庁

DEFECTIVE POSITION INDICATING METHOD FOR SUBSTRATE MATERIAL, DEFECTIVE POSITION MARKING DEVICE, MARK DETECTOR, AND SUBSTRATE MATERIAL例文帳に追加

基板材料の欠陥位置指示方法、欠陥位置マーキング装置、マーク検出装置、基板材料 - 特許庁

Step 6: Degree of correlation obtained in the step 5 defines the position of the maximum partial image as the mark position.例文帳に追加

ステップ６：ステップ５で求めた相関度が最大の部分画像の位置をマーク位置とする。 - 特許庁

To provide a position measurement apparatus with an advantage in which time for measuring a position of an alignment mark is short.例文帳に追加

アライメントマークの位置を計測する時間の短さの点で有利な位置計測装置の提供。 - 特許庁

A position is recognized so as to interpose the production substrate part 12 by this position recognition mark 15.例文帳に追加

この位置認識マーク１５で製品基板部１２を挟み込むようにして位置認識を行う。 - 特許庁

The bump member PMK is a position detecting pattern mark functioning for detecting the position of the chip.例文帳に追加

このバンプ部材ＰＭＫはチップの位置検出用として働く位置検出パターンマークである。 - 特許庁