「plane region」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

At least a part just under the light extraction plane EA is a target to be notched, and a notch 1j is formed in the light absorbing compound semiconductor substrate so that at least a part of the region just under the light extraction electrode 9 is included in a residual substrate 1, resulting from notch formation.例文帳に追加

そして、主光取出面ＥＡの直下部分の少なくとも一部が切り欠き対象部となり、かつ、該切欠きの結果として生ずる残留基板部１に光取出側電極９の直下部分の少なくとも一部が含まれるように光吸収性化合物半導体基板に切欠き部１ｊを形成する。 - 特許庁

The magnet 21 forms intensity gradient of a magnetic field in the direction vertical to the direction of a magnetic field, in a plane vertical to the direction of an electric field of the electrodes and also forms a magnetic field, which is equal in intensity through a wide region along the upper side edge of the work substrate 30 in an electron drift direction and its outer part.例文帳に追加

磁石21は、電極真の電界方向に直交する平面内において、磁場方向に直交する方向に沿って、磁場強度の勾配を形成し、かつ被処理基板30の電子ドリフト方向上流側端部およびその外側部分に沿った広い領域に亘って等磁場強度となるような磁場を形成する。 - 特許庁

When a site under consideration is designated through an input part 114 on a model(managed by a 3D database 21) displayed as a plane image(primary image) such as a simple linear image or the like, an auxiliary information display part 111 generates a 3D display image in a predetermined region including the designated site under consideration as an auxiliary image.例文帳に追加

単純な線画等の平面画像（主画像）として表されたモデル（３Ｄデータベース２１で管理）上で注目部分が入力部１１４を通して指定されると、補助情報表示部１１１は、指定された注目部分を含む所定の領域の３Ｄ表示画像を補助画像として生成する。 - 特許庁

A KNbO_3 crystal is cut out in a prescribed direction of crystal axis, a pair of electrodes 30, 31 are formed on a principal plane, an electric field is applied between the electrodes and, thereby, crystal axes of refractive index worked by TE polarization and TM polarization differ from each other when the polarization direction of polarization control region is rotated by 90°.例文帳に追加

ＫＮｂＯ_3 結晶を所定の結晶軸方向に切り出し、主面上に電極対３０，３１を形成し、電極間に電界を加えることにより、分極制御領域の分極方向が９０°回転すると、ＴＥ偏光とＴＭ偏光が感じる屈折率の結晶軸が相違する。 - 特許庁

In this vehicular lighting fixture, at least a part of the projection surface 42 of the lens 4 is formed of a free-form surface, and projection light R(B) making a color band generated on the cut line and having a prescribed wavelength region is projected almost parallel to a horizontal plane including the optical axis Z of the lens 4.例文帳に追加

この車両用灯具では、レンズ４の射出面４２の少なくとも一部が自由曲面により構成され、且つ、この自由曲面では、カットライン上に色帯を生じさせる所定の波長域の射出光Ｒ（Ｂ）がレンズ４の光軸Ｚを含む水平方向の平面に対して略平行に射出される。 - 特許庁

This measuring device is characterized by arranging suction holes 5 of plural suction tubes 2 continuously in a fixed plane region as particle counters 3, 4 for measuring the number of floating particles in the clean room or the like, and connecting detection parts 4 of the particle counters capable of counting the particles to each suction tube respectively.例文帳に追加

クリーンルーム内等の浮遊パーティクル数を計測するパーティクルカウンタ３，４として、複数の吸引チューブ２の吸引口５が一定の面領域内に連続的に配置され、かつ、各吸引チューブ２それぞれにパーティクルを計数できるパーティクルカウンタの検知部４が接続されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an optical disk device in which it can be prevented that an objective lens is collided to an optical disk, while a movable region of the objective lens can follow wobbling even in an outer periphery of the optical disk, even if the focus of a laser beam is raised to the limit in the recording plane direction of the optical disk, in the inner periphery of the wobbled optical disk.例文帳に追加

面振れ光ディスクの内周でレーザ光のフォーカスを限界まで光ディスクの記録面方向に上げても、対物レンズが光ディスクに衝突することを防止できると共に、光ディスクの外周においても対物レンズの可動域が面振れに追従できるようにした光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

The inspection method of a semiconductor wafer includes a process of preparing a wafer formed with a chip region which will become a semiconductor chip, a first probe test for inspecting the wafer by probing, a process of pressing the electrode of the wafer by a pressurization member having a flat plane, and a second probe test for inspecting the wafer by probing.例文帳に追加

半導体ウェハの検査方法は、 半導体チップとなるチップ領域が形成されたウェハを準備する工程と、 前記ウェハをプロービングによって検査する第１プローブ検査と、 平坦面を有する加圧部材によって、前記ウェハの電極を押圧する工程と、 前記ウェハをプロービングによって検査する第２プローブ検査と、を含む。 - 特許庁

The fluid ejection device includes a fluid ejection head for ejecting a fluid, a cap part which has a corner part in the plane view and covers a predetermined region of the fluid ejection head, and a fluid guiding part which is arranged in the corner part and guides the fluid adhered to an adjacent part of the fluid ejection head.例文帳に追加

流体を噴射する流体噴射ヘッドと、平面視で角部を有し、前記流体噴射ヘッドの所定領域を覆うキャップ部と、前記角部に設けられ、前記流体噴射ヘッドとの近接部分に付着した前記流体を誘導する流体誘導部とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

A fitting detent 3 is provided in the region of a joining plane of a casing main body of the radiation fin 2, and when a Mg alloy is filled in the casing metal mold by thixo-molding, the fitting detent 3 is deformed under the filling pressure of the Mg alloy, to raise fitting strength between the radiation fin 2 and the Mg alloy-made casing 1.例文帳に追加

放熱フィン２の筐体本体接合面部位には、嵌合用のツメ３を設けておき、Ｍｇ合金をチクソモールド成形で筐体金型内に充填する際の、Ｍｇ合金の充填圧力で、嵌合用のツメ３が変形し、放熱フィン２とＭｇ合金製筐体１との嵌合強度を高めるようにする。 - 特許庁

To set up design data so as to restrain the emission of noises caused by the cutoff of a return current without changing the position of a signal line so much when the signal line overlaps with or is located near a non-conductive region in a plane located on the layer other than that of the signal line in a multi-layer circuit board.例文帳に追加

多層回路基板において、信号線と信号線とは別の層にあるプレーン内にある非導電領域とが重なる、あるいは近接する位置にある場合、信号線の位置を大きく変更することなく、帰路電流の遮断によるノイズ放射を抑えるように設計データの設計を行う。 - 特許庁

When analyzed by X-ray diffraction measurement, this molybdenum exhibits, in at least part of the region corresponding to a sheet-thicknesswise depth of one fifth of the whole thickness from the surface, areas which each contain such a domain where the peak intensities of the (110) and (220) diffraction planes are each lower than the peak intensity of the (211) diffraction plane.例文帳に追加

本発明のモリブデン材は、表面から板厚方向に向かって全厚の５分の１の深さに該当する領域において、Ｘ線回折測定した場合、結晶回折面（１１０）および（２２０）のそれぞれのピーク強度が、（２１１）のピーク強度未満となる領域が存在する部分を少なくとも一部に有する。 - 特許庁

Thus, the occupied area on a flat surface 100 of the semiconductor substrate is decreased compared with a transverse MOS transistor, and further the occupied area on the surface of the semiconductor substrate is fixed even when a channel width of the channel region 501 is increased in the direction crossing the parallel plane 101.例文帳に追加

したがって、横型ＭＯＳトランジスタに比べて、半導体基板の平面１００上の占有面積を減少させることが可能になる上に、チャネル領域５０１のチャネル幅を、平行な面１０１に交差する方向へ増大させて行っても、半導体基板表面上での占有面積を一定にできる。 - 特許庁

A stem and leaf guiding body 71 for guiding the stems and leaves on the field so as to locate the stems and leaves in a front region in the forward direction of the implement body 11 when viewed in a plane is mounted on either one of left and right sides of the implement body 11 so as to protrude in the forward direction which is the direction away from the tractor 1.例文帳に追加

作業機本体１１の左右いずれか片側には、圃場上の茎葉部をこの茎葉部が平面視で作業機本体１１の進行方向前方領域内に位置するように誘導する茎葉誘導体７１をトラクタ１から離反する方向である進行方向に突出するように取り付ける。 - 特許庁

The adjustment light source device 7 is provided with a support plate arranged so that the end face thereof faces the light modulation device 140, and a plurality of solid emission element arranged along the end face of the support plate, and composed of plane illumination irradiating the adjustment light flux uniformed substantially in an image formation region of the light modulation device 140.例文帳に追加

調整用光源装置７は、端面が光変調装置１４０に対向するように配設される支持板と、支持板の端面に沿って配設される複数の固体発光素子とを備え、光変調装置１４０の画像形成領域に略均一化した調整用光束を照射する面照明で構成されている。 - 特許庁

The hologram reproducing device 100 can hold the intensity of the incident laser light without widening the width of the incident laser light and suppress the intensity unevenness of the incident laser light in the different coupling region, so the laser light can be coupled to desired coupling positions in a desired waveguide layer and a coupling plane of the waveguide layer.例文帳に追加

よってホログラム再生装置１００は入射レーザ光の幅を広げることなく入射レーザ光の強度を保持し、かつ、異なる結合領域における入射レーザ光の強度むらの発生を抑制することができるので所望の導波路層及び導波路層の結合面内における所望の結合位置にレーザ光を結合させることができる。 - 特許庁

In this oxide sintered compact obtained by mixing and sintering each powder of zinc oxide, tin oxide and indium oxide, when performing in-plane composition mapping by EPMA to the oxide sintered compact, the ratio of a region having an Sn concentration of 10-50 mass% occupied in the measured area is ≥70 area%.例文帳に追加

本発明の酸化物焼結体は、酸化亜鉛と、酸化スズと、酸化インジウムの各粉末と、を混合および焼結して得られる酸化物焼結体であり、前記酸化物焼結体に対してＥＰＭＡによる面内組成マッピングを行なったとき、測定面積中に占める、Ｓｎ濃度が１０〜５０質量％の領域の比率が７０面積％以上である。 - 特許庁

Simultaneously with removal of the silicon oxide film 106 on the trench 104b through etching down to a specified depth, a part of the silicon oxide film 106 in an active region 105 between the trenches 104a and 104b is removed, by etching in order to make uniform the progress of polishing the silicon oxide film 106 in the plane of the semiconductor substrate 101 in the subsequent polishing steps.例文帳に追加

トレンチ１０４ｂ上の酸化シリコン膜１０６を所定深さにエッチング除去すると同時に、次の研磨工程における酸化シリコン１０６の研磨の進行を半導体基板１０１面内において均一にするためにトレンチ１０４ａ，１０４ｂ間の活性領域１０５の酸化シリコン膜１０６の一部をエッチング除去する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is constituted in an embedded channel region type transistor that is normally not turned on and has a high hot carrier resistance, a high punch through resistance, or high channel mobility, by optimizing the structure of a buried channel type MIS transistor using a silicon carbide substrate or the plane orientation of the substrate.例文帳に追加

炭化珪素基板を用いた半導体装置において、埋め込みチャネル型のＭＩＳトランジスターとし、その構造や炭化珪素基板の面方位を最適化することによりノーマリーオンにならず、しかも高いホットキャリア耐性や、高パンスルー耐性、あるいは、高チャネル移動度を有する埋め込みチャネル領域型のトランジスターである半導体装置を提供する。 - 特許庁

In the lead frame, the recess 12 is defined by a flat bottom 12a located lower than the upper surface 3a of the die pad 3 and extending in parallel therewith, and an inclined plane 12b extending from the circumference of the bottom 12a toward the upper surface 3a of the die pad 3 to recede gradually from the arranging region.例文帳に追加

また、前記凹部１２が、前記ダイパッド３の上面３ａよりも低く位置して当該上面３ａに平行する平坦な底面１２ａと、当該底面１２ａの周縁から前記ダイパッド３の上面３ａに向かうにしたがって前記配置領域から離れるように延びる傾斜面１２ｂとによって構成されているリードフレームを提供する。 - 特許庁

The photosensitive material 2 is relatively moved in the direction parallel to the plane of the photosensitive material 2 with respect to the object light optical system and the referential light optical system which the laser light is not emitted from the light source 10 so that the object light and the reference light enter the local region where an element hologram is to be formed next in the photosensitive material 2.例文帳に追加

光源１０からレーザ光が出力されていない期間に、感光材料２において次に要素ホログラムを作成すべき局所領域に物体光および参照光が入射するように、物体光光学系および参照光光学系に対して感光材料２を感光材料２の面に平行な方向に相対的に移動させる。 - 特許庁

A pressing force detection sensor 100 includes a frame-shaped base member 55 having an opening part at an in-plane center region, one pair of or a plurality of pairs of first and second electrode patterns 51 and 52 provided on the base member side by side at a predetermined interval, and an elastic conductor 53 arranged between a first electrode pattern and a second electrode pattern.例文帳に追加

押圧検知センサ１００は、面内中央部位に開口部を有する額縁形状のベース部材５５と、ベース部材上に所定の間隔で並設された一組または複数組の第１および第２の電極パターン５１，５２と、第１の電極パターンと第２の電極パターンとの間に配置された弾性導電体５３とを備える。 - 特許庁

The liquid crystal display device of the transflective type which reduces the occurrence of the alignment defect of the liquid crystal in the rubbing down section and has the satisfactory display grade is provided by improving the plane shape of the projection on a counter substrate side and by setting the boundary portion with the transmission region of the projection in a direction nearer the rubbing direction of the alignment layer.例文帳に追加

対極基板側の突起の平面形状を改善し、突起の透過領域との境界部分を配向膜のラビング方向に近い方向に設定することにより、ラビング擦り下げ部での液晶の配向不良発生を低減し、良好な表示品位を有する半透過型の液晶表示装置を提供することができる。 - 特許庁

In the horizontal scroll display of figures P within the display area 201 of a liquid crystal display device 200, some of the figures P to be displayed at the interface part between a variation region 203B and background images are controlled to be displayed at a position which faces the position of a game board component installed on a transparent game board 100 on a plane normal.例文帳に追加

液晶表示装置２００の表示領域２０１内において、図柄Ｐを横スクロール表示する際に、変動領域２０３Ｂと背景画像との境界部分に表示される図柄Ｐの一部が透明遊技盤１００上の遊技盤構成物が設けられている位置と面法線上で対面する位置に表示されるように制御する。 - 特許庁

In one embodiment of the irregular-surfaced structure, the region confined by the surface of the base 20 and the surfaces of the protrusions 30 serves as a channel, and a catalyst 40 is supported on the principal plane of the base 20 and the surfaces of the protrusions 30, so that the amount of the catalyst 40 supported per unit volume can be increased.例文帳に追加

この表面凹凸状構造体は、例えば、その基体２０の表面及び前記凸部３０の表面によって画定される領域が物質が流れる流路とされ、その基体２０の主面及び前記凸部３０の表面に触媒４０が担持されるため、単位体積当たりの触媒４０の担持量を増大させることができる。 - 特許庁

In order to suppress the manufacturing labor to the minimum and achieve a simple structural design and a high efficiency, a surrounding rim 6 capable of contacting sealedly with the flap 5 is formed in the housing component 1 in the transit region between the inlet 2 and each outlet 3, 4, and the each rim 6 constitutes a stop plane of the flap 5.例文帳に追加

製造上の労力を最小限に抑えると共に簡単な構造的設計及び高い効率を達成するために、フラップ（５）と密封接触可能な包囲リム（６）が、入口（２）と出口（３，４）の各々との間の移行領域でハウジング部品（１）の内部に形成され、各リム（６）は、フラップ（５）の停止平面を構成している。 - 特許庁

In an stereoscopic image display system for enabling an observer to recognize a stereoscopic image by displaying a parallax image, each picture element or region displays a parallax image having parallax in a tangential direction or a parallel direction of a symmetric figure whose center is an observation position set at a prescribed position on a plane wherein the parallax image is displayed.例文帳に追加

視差画像を表示することにより観察者に立体画像を認識させる立体画像表示システムにおいて、それぞれの画素または領域が、視差画像が表示される平面上の所定の位置に設定された観察位置を中心とする対称図形の接線方向または平行な方向に視差を持つ視差画像を表示する。 - 特許庁

When a hole pattern to be formed above a substrate is formed, a bias correction amount in the formation of a correction object hole 101 is set by extracting a correction reference hole 103 present in a region influencing the formation of the correction object hole 101 and considering the plane arrangement of the extracted correction reference hole 103.例文帳に追加

基板の上部に形成されるホールパターンを形成する際に、補正対象ホール１０１の形成に影響を与える領域内に存在する補正参照ホール１０３を抽出し、抽出された補正参照ホール１０３の平面配置を考慮して、補正対象ホール１０１の形成におけるバイアス補正量を設定する。 - 特許庁

Then, a crystallization suppressed region CCR is formed on the main plane of the semiconductor substrate 1, by forming a first side wall 12 and a second sidewall 13 on the side surface of the gate electrode 7G, and carrying out ion implantation of nitrogen, and the like, to the semiconductor substrate 1 with the second sidewall and the gate electrode 7G used as a mask.例文帳に追加

続いて、ゲート電極７Ｇの側面に第１サイドウォール１２および第２サイドウォール１３を形成した後、第１サイドウォール１２、第２サイドウォールおよびゲート電極７Ｇをマスクとして半導体基板１に窒素等をイオン打ち込みすることにより、半導体基板１の主面に結晶化抑制領域ＣＣＲを形成する。 - 特許庁

The inclined plane in this region has an inclination relative to both the luminous flux transmitting through the condenser lens 21 and the luminous flux transmitting through the separator lens 26, so that the light shielding plate 100 and the light shielding plate 101 includes a stray light removal function for the luminous flux before reflecting on the mirror 25 and a stray light removal function for the luminous flux after reflecting on the mirror 25.例文帳に追加

この領域にある傾斜面がコンデンサレンズ２１を透過する光束と、セパレータレンズ２６を透過する光束のいずれに対しても傾きを有することで、遮光板１００と遮光板１０１は、ミラー２５に反射する前の光束に対する迷光除去機能と、ミラー２５に反射した後の光束に対する迷光除去機能とを有する。 - 特許庁

By setting a plasma condition (a diffusion distance or a pressure) and a mask shape (the opening width) so as to avoid a region with a hydrogen plasma amount in which etching and polymer generation that drastically increase the unevenness occur simultaneously on its surface, a shape with different etching depths can be processed in the same plane while suppressing the unevenness on the surface.例文帳に追加

表面で凹凸を著しく増加させるようなエッチングとポリマーの生成が同時に起きるような水素プラズマ量の領域を避けるように、プラズマ条件（拡散距離または圧力）とマスク形状（開口部幅）を設定することにより、表面の凹凸を抑制して同一面内でエッチング深さが異なる形状を加工することができる。 - 特許庁

In a panel strip 400, a sealing member 31 constitutes photocuring material which is applied to each of injection ports 32 that open onto the side face 410 of each region to be cut as a single item panel 1' and is irradiated from overhead with UV light proceeding in the out-of-the plane direction of the panel 400 to make the sealing member 31 cure.例文帳に追加

短冊状のパネル４００において、単品のパネル１′として切り出される各領域の側端面４１０で開口する注入口３２の各々に塗布した光硬化性材料たる封止材３１を硬化させるにあたって、パネル４００の面外方向のうち、真上位置からＵＶ光を封止材３１に照射する。 - 特許庁

A semiconductor element 8 is die-attached to a die pad 12, a bonding pad 20 is connected with a wiring pattern 5 on a substrate with a wire 7, a through-hole 11 is made with the die pad 12, and the die pad 12 is coupled thermally with a heat dissipation plane 3, being sandwiched by interior substrates 2 and a heat dissipation region 4 on the rear surface of the substrate.例文帳に追加

半導体素子８がダイパッド１２にダイアタッチされており、ワイヤー７によってボンディングパッド２０と基板上の配線パターン５とを結線し、ダイパッド１２中にスルーホール１１を形成し、内装基板２によって挟まれている放熱プレーン３および基板裏面の放熱領域４とダイパッド１２とが熱的に接続されている構造とした。 - 特許庁

The spin coater is provided with: a rotary table 20 holding the substrate 1 in one direction and provided freely rotatable in the in-plane direction of the substrate 1; and a wall part 40 having a cylindrical shape having an inside diameter larger than the outside diameter of the substrate and arranged so that the upper end in the vertical direction is in a region opposed to the side surface of the substrate 1.例文帳に追加

基板１が一方面に保持されて当該基板１の面内方向に回転自在に設けられた回転テーブル２０を具備すると共に、前記基板１の外径よりも大きな内径の筒形状を有し、且つ鉛直方向上端が前記基板１の側面に相対向する領域となるように配置された壁部４０を具備する。 - 特許庁

To provide a wavelength plate which realizes a liquid crystal projector which forms images of high luminance and high contrast by rotating a plane of polarization of polarized light to a prescribed angle in all the visible light region in the case that polarized light obliquely impinges on a transparent layer consisting of a phase difference film and to provide a polarization conversion element for the liquid crystal projector provided with the same.例文帳に追加

位相差フィルムよりなる透明層に斜め方向から偏光光が入射した場合に、全可視光領域について、偏光光の偏光面が所期の角度に回転し、輝度が高く、コントラストが高い画像が形成される液晶プロジェクターが得られる波長板およびこれを具えた液晶プロジェクター用偏光変換素子を提供すること。 - 特許庁

The organic electroluminescent device is provided with light-emitting elements each consisting of a functional layer 15 containing a first electrode 11 and an organic light-emitting layer 17 and a second electrode 18 in a region superposing in plane view an opening 14a of a barrier rib formed with the opening, with at least one layer out of the functional layers 15 formed by a droplet discharge method.例文帳に追加

開口部を形成した隔壁の開口部１４ａと平面視で重なる領域内に、第１電極１１と有機発光層１７を含む機能層１５と第２電極１８とからなる発光素子を有し、機能層１５のうちの少なくとも一層が液滴吐出法で形成された有機エレクトロルミネッセンス装置である。 - 特許庁

The optical compensation film (10) has a first optically anisotropic layer (12) including at least a kind of polymer material selected from a group of polyimide, polyether ketone, polyamide-imide and polyester imide, and is characterized in that it is optically biaxial, and has an in-plane retardation Re exhibiting inversely dispersive wavelength dependence in the visible ray region.例文帳に追加

ポリイミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも一種のポリマー材料を含む第１の光学異方性層（１２）を有し、光学的に二軸性であり、及び可視光域において、面内レターデーションＲｅが、逆分散波長依存性を示すことを特徴とする光学補償フィルム（１０）である。 - 特許庁

During laser material processing, the portions of the wafer 11 on the opposite sides of a scheduled cut line 5 mesh each because of these cracks, and thereby internal stress occurring in the direction parallel with the thickness direction of the wafer 11 and perpendicular to a plane including the line 5 can be reduced by forming the reform region.例文帳に追加

従って、レーザ加工時に、これらの割れにより、ウェハ１１における切断予定ライン５を挟んだ両側の部分がそれぞれ噛み合い、よって、改質領域が形成されることで発生するウェハ１１の厚さ方向に平行であり且つライン５を含む面に対して垂直な方向に生じる内部応力を低減させることができる。 - 特許庁

An imaging device 30 constituting the manufacturing apparatus is equipped with respectively four color light imaging sections 30R, 30G, 30B provided for each color light and are respectively disposed on a plane approximately orthogonal to the optical axis of image light in correspondence to the four corner positions of an image forming region of a rectangular shape in an optical modulation device.例文帳に追加

製造装置を構成する撮像装置３０は、色光毎に設けられ、画像光の光軸に略直交する平面上にそれぞれ配設されるとともに光変調装置における矩形状の画像形成領域の四隅位置に対応してそれぞれ配設される各４つの色光撮像部３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂを備える。 - 特許庁

Further, a refractive index variation region 180 formed in the optical waveguide forming member 150 with the applied electric field is curved to a plane perpendicular to the traveling direction of the light on at least one of a side 182 where the light is incident and a side 184 where the incident light exits.例文帳に追加

さらに、光導波路形成部材１５０に印加する電界によって光導波路形成部材１５０に形成される屈折率変化領域１８０の形状を、光が入射する側１８２と、その入射した光が出射する側１８４との少なくとも一方において、光の進行方向に直角な平面に対して湾曲するように形成する。 - 特許庁

The inspecting device 70 photographs the plane image of the trays using a CCD camera 72 and detects any poor workmanship of stacking by computing the area of a paper part 82A ranging out of the edge line when the poor workmanship is generated in the judging region 82 including outside the edge line of the paper through the digitalizing process.例文帳に追加

検査装置７０は、ＣＣＤカメラ７２によって複数のトレイ部の平面画像を撮影し、二値化処理することによりペーパーのエッジラインの外方を含む判定領域８２内で、集積不良が生じたときにこのエッジラインから食み出すペーパー部８２Ａの面積を演算することにより、集積不良の発生を検出する。 - 特許庁

Each of the first and the second projecting patterns 10a, 10b is a plurality of projecting patterns continuously arranged at a specified internal, suppresses the spreading of the sealant 6 in the plane direction by pressurizing and its protrusion to the display region 3 due to variation in coating precision and a coated amount, and prevents a contaminant from flowing out into a liquid crystal 7 from the sealant 6.例文帳に追加

これら第一および第二の突起パターン１０ａ、１０ｂは、各々複数の突起パターンが所定の間隔をおいて連続的に配置されたもので、シール材６の加圧による面方向への広がりや、塗布精度および塗布量のばらつきによる表示領域３へのはみ出しを抑制し、シール材６からの液晶７への汚染物質の流出を防止する。 - 特許庁

The method for producing decomposed chitin includes a first step for treating the raw material comprising a chitin-containing composition or chitin with subcritical water or supercritical water at a temperature and for hours included in a specified region of a temperature-time plane, and a second step for hydrolyzing the hydrothermally treated raw material in the first step or chitin extracted from the raw material.例文帳に追加

本発明のキチン分解物の生成方法は、キチン含有組成物またはキチンからなる原料を、温度−時間平面における指定範囲に含まれる温度および時間で亜臨界水または超臨界水によって処理する第１工程と、第１工程において水熱処理された原料または当該原料から抽出されたキチンを加水分解する第２工程とを備えている。 - 特許庁

The affine transformation AT1 is composed of affine transformation AT2 applied to the whole hue when the color plane H1 is obtained and affine transformation AT3 wherein a point Q corresponding to a reference color of yellow is finally moved onto a half line L1 extending from an origin O as a start point and passing a vertex P1 of the partial region mA.例文帳に追加

アフィン変換ＡＴ１は、色平面Ｈ１を得る際に色相全体に適用されるアフィン変換ＡＴ２と、色平面Ｈ１において、黄色基準色に対応する点Ｑを、原点Ｏを始点として部分領域ｍＡの頂点Ｐ１を通過して伸びる半直線Ｌ１上に最終的に移動させるアフィン変換ＡＴ３とを合成したアフィン変換となっている。 - 特許庁

This high quality SiC wafer having a bottom face dislocation density of less than 500 cm^-2 on a wafer and at least 1 square inch continuous surface region is obtained by forming a SiC boule having a diameter of a little larger than 3 inches by a seed sublimation growth method, then slicing the boule at an angle between about 2° and 12° to 0001 plane, and further polishing it.例文帳に追加

シード昇華成長法により、３インチよりわずかに大きい直径を有するＳｉＣブールを形成した後、０００１平面に対して約２°と１２°の間の角度で該ブールをスライスし、さらに研磨することにより、ウェハ上に５００ｃｍ^−２未満の底面転位密度を有する少なくとも１平方インチの連続した表面領域とを有する高品質のＳｉＣウェハが得られる。 - 特許庁