「radiation action」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a specified group having -NH- and a fluorine atom and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子及び−ＮＨ−を有する特定の基を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin having a specified alicyclic structure in the principal chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の脂環式構造を主鎖に有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a specified repeating unit having a fluorine atom and a polycyclic structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有し多環構造をもつ特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having a specified alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type silicone-containing photosensitive composition contains (a) a waterinsoluble polymer which has a silicon atom in a side chain and is made soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid, (b) a compound which generates a carboxylic acid when irradiated with active light or radiation and (d) a solvent.例文帳に追加

（ａ）側鎖にシリコン原子を有し、かつ水不溶性で酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、（ｄ）溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコーン含有感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition (A) comprises a resin having a repeating unit in which a sulfonium salt structure capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation is linked to a principal chain by a linking group which degrades under the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生するスルホニウム塩構造が、酸の作用により分解する連結基によって主鎖に連結されている繰り返し単位を有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has a specific alicyclic hydrocarbon group and in which the dissolution rate to an alkali developer is increased by the action of an acid, and (B) a compound having a specific structure to generate an acid by the irratidation with active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) two resins each having an alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂として２種類の樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定混合溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a specific acid generating agent generating an acid by the irradiation with active ray or radiation and (B) a resin having a single cyclic or polycyclic aliycyclic hydrocarbon structure, decomposed by the action of the acid and having solubility increased in an alkali developer.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified dissolution inhibiting compound.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定の溶解阻止化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and an organic solvent which dissolves the above components.例文帳に追加

特定の構造の繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物および上記成分を溶解する有機溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The reduction action is performed by assimilation mechanism of hormone elaboration in which cells absorb carbon dioxide and transform to organic substances to perform carbon fixation with oscillation light energy, by radiating quantum-mechanical oscillating optical waves of not less than 35 trillion times/sec by the terahertz photon radiation light bulb.例文帳に追加

還元作用は、テラヘルツ光子放射電球の量子力学的な毎秒３５兆回以上の振動光波を放射し、細胞が二酸化炭素を吸収して細胞自身が有機物質に転化して炭素固定を振動光エネルギ−で行うホルモン合成の同化機構により行う。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a compound which generates a sulfonic acid of formula (X) when irradiated with active light or radiation and a resin having a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により式（Ｘ）のスルホン酸を発生する化合物と、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂とを含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified acid decomposable group and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の酸分解性基を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

Each of the positive type photoresist compositions contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is made alkali-soluble by the action of the acid and (C) a compound of formula (I).例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、及び（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a polymer which is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of the acid and a compound which includes a specified sulfonimide structure.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリ水溶液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマーおよび特定のスルホンイミド構造を含む化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a fluorine-containing specified repeating unit and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有する特例の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active rays or radiation, a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a specified mixed solvent.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び特定の混合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains: a blend of two or more resins each having a specified lactone monomer unit and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定のラクトンモノマー単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂の２種以上のブレンドと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains: a resin having a plurality of specified lactone monomer units as constitutional units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定のラクトンモノマー単位の複数種を構成単位として有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (a) a specified alkali-insoluble or slightly alkali-soluble polymer which has a silicon atom and a lactone structure in a side chain and is made soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid and (b) a compound which generates the acid when irradiated with an active light or a radiation.例文帳に追加

(ａ）側鎖にシリコン原子及びラクトン構造を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となる特定のポリマー、及び（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive radiation-sensitive composition contains (A) at least one compound having a specified structure which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線の照射により酸を発生する特定の構造の化合物少なくとも１種、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

To provide a phase transition type optical recording medium which has two layers so as to enable recording and reproduction from one side, has a structure having a satisfactory heat radiation action, and has large capacity, satisfactory recording/reproducing/erasure characteristics and excellent repetition characteristics.例文帳に追加

相変化型の光記録媒体を２層にして片側からの記録再生を可能とし、十分な放熱作用をもつ構造とし、大容量化と良好な記録再生消去特性をもち、且つ繰り返し特性のすぐれた相変化型光記録媒体を提供すること。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition comprises an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which comprises at least one repeating unit selected from the repeating units represented by formula (1), formula (2) and formula (3) and becomes alkali-soluble under the action of an acid, and an anion moiety represented by formula (4) as an essential unit.例文帳に追加

式（１）、式（２）および式（３）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１つの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂と、式（４）で表されるアニオン部位を必須単位として含有する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has two kinds of repeating units each with a specified structure by at least one each and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の２種類の繰り返し単位を各々少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having repeating structural units with a specified structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound having a specified structure and generating the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し構造単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The bio-water 1 is an apparatus for producing water hardly decayed over a long period of time i.e., the fungistatic water by arranging a plurality of approximate far-infrared radiation ceramic board comprising ceramics in a cylinder, bringing the raw water into contact with the ceramic board and activating the raw water by the action of the ceramics.例文帳に追加

ザ・バイオウォーター１は、セラミックでなる複数の近似遠赤外線放射セラミック盤を筒の中に配設し、そのセラミック盤に原水を接触させ、セラミックの作用により原水を活性化することにより、長期にわたって腐敗し難い水、即ち制菌水を生成する装置である。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates and acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a polymer which has repeating units having specific two kinds of acetal structures and undergoes an increase in solubility in an alkaline developing solution by being decomposed under the action of an acid, a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation and a solvent.例文帳に追加

特定の２種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によって分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、および溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A positive resist composition is provided which comprises (A) a specified compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin having a specified repeating unit and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resist composition contains a silicon (Si)-containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent, a solvent and a basic compound having ≥5 repeating units with a specified structure as an average number (n) of repeating units.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加するケイ素（Ｓｉ）を含有する樹脂と、光酸発生剤と、溶剤と、特定構造の繰り返し単位を平均繰り返し単位数（ｎ）で５個以上有する塩基性化合物とを含有してなる感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resist composition contains (A) a resin containing Si atoms and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a photo-acid generating agent, (C) a solvent and (D) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する、シリコン原子を含有する樹脂、(Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

A positive resist composition contains (A) a resin containing a repeating unit having a specific structure in a side chain and having solubility in an alkaline developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を側鎖に有する繰り返し単位を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

When the ultrasonic wave 202 is emitted to the vicinity of a liquid face in a reaction liquid 203 with a reagent 111 added to a specimen 107, the liquid face is inclined with an action of acoustic radiation pressure acting on a gas-liquid interface, and a vortex flow 205 is generated thereby while catching a bubble 204 into the reaction liquid 203.例文帳に追加

超音波２０２が検体１０７に試薬１１１を添加された反応液２０３の液面付近に照射されると、気液界面に働く音響放射圧の作用で液面が傾き、反応液２０３中に気泡２０４を巻き込みながら旋回流２０５が発生する。 - 特許庁

This positive type resist composition contains (A) resin, whose solubility to an alkaline liquid developer is increased by the action of acid, (B) a compound to which active light rays or radiation is applied to generate acid, and (C) a compound having a functional group which bridges between resins by heating.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）加熱により樹脂間を架橋する官能基を有する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) resin containing repeating units represented by a specified structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of acid and (B) a compound which generates acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表される繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin containing a specified repeating unit having a cyano group in a backbone and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

主鎖にシアノ基を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A radiation sensitive composition includes a polymer component comprising: at least one of a hydroxystyrene structure and a repeating unit which becomes a hydroxystyrene structure by action of an acid from a photoacid generator; and at least one kind selected from repeating units represented by the following general formulas.例文帳に追加

ヒドロキシスチレン構造、及び光酸発生剤による酸の作用によりヒドロキシスチレン構造となる繰り返し単位のうち少なくとも一方と、下記一般式で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種とを含む重合体成分を有する感放射線性組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates a perfluoroalkanesulfonic acid when irradiated with active rays or radiation and a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射によりパーフルオロアルカンスルホン酸を発生する化合物、及び特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a polymer having repeating units with specified two acetal structures and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition under the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a solvent.例文帳に追加

特定の２種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates a sulfonic acid having a naphthalene structure when irradiated with active light or radiation of ≤220 nm wavelength and a resin whose solubility to an alkali developing solution is increased by the action of the acid.例文帳に追加

２２０ｎｍ以下の波長の活性光線または放射線の照射によりナフタレン構造を有するスルホン酸を発生する化合物と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

Hydrazine or hydrazine and hydrogen are injected into reactor water of a boiling water type nuclear power plant until ammonia is generated, and the injection quantity into the reactor water of a compound discharging anions and oxonium ions by action of heat or a radiation is adjusted based on the ammonia concentration.例文帳に追加

沸騰水型原子力発電プラントの原子炉水中に、ヒドラジン又はヒドラジンと水素をアンモニアが生じるまで注入し、アンモニア濃度に基づいて、熱又は放射線の作用により陰イオン及びオキソニウムイオンを放出する化合物の原子炉水中への注入量を調製する。 - 特許庁