「radiation action」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a polymer which is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of the acid and (C) a nitrogen-containing compound which is decomposed by the action of the acid and generates a carboxyl group in its molecule.例文帳に追加

（１）（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ水溶液に不溶性又は難溶性であり、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となる性質を有するポリマー、及び、（Ｃ）酸の作用により分解して、分子内にカルボキシル基を発生する含窒素化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has fluorine atoms and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkaline developer and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, wherein the compound (B) has a group which is decomposed by the action of an acid (acid decomposable group).例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する組成物であって、上記化合物（Ｂ）が酸の作用により分解する基（酸分解性基）を有していることを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The admittance of the antenna itself is directly controlled by a variable action of the admittance variable circuit C_FD1, and in this case, a separation ratio of a radiation mode and a transmission mode of the antenna AN1 can be set to a prescribed desirable value on the basis of the variable control.例文帳に追加

アドミタンス可変回路Ｃ_FD1 の可変作用によって、アンテナ自身のアドミタンスが直接的に制御されるが、この時、その可変制御に基づいて、アンテナＡＮ１の放射モードと伝送モードの分解比を望ましい所定の値に設定することができる。 - 特許庁

The floating unit 10 has a vibrator 6 and a vibration plate 7 vibrating by the action of the vibrator 6 and floating the substrate W by radiation pressure by the vibration, and the vibration plate 7 is provided to the direct under position of the nozzle 31.例文帳に追加

浮上ユニット１０は、振動子６と、この振動子６の動作に起因して振動し当該振動による放射圧によって基板Ｗを浮上させる振動板７とを有しており、この振動板７は、ノズル３１の直下位置に設けられていること。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin the solubility of which with an alkali developing solution is increased by an action of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation; and (F) a surfactant having a basic group.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｆ）塩基性基を有する界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is decomposed by (A) the action of an acide of a specific structure expressed in a general formula and contains a compound generating the acid by a resin increasing solubility to an alkali developer and by (B) irradiation of an active light beam or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ａ）で表される特定構造の、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates a specified sulfonimido compound when irradiated with active light or radiation and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線または放射線の照射により、特定のスルフォンイミド化合物を発生する化合物、及び、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains (A) a resin increasing a dissolution speed to an alkali developer due to the action of an acid having a repeating unit expressed by a general formula (I), and (B) a compound generating the acid due to irradiation with an active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is decomposed by (A) the action of an acid having a specific structure expressed in general formula (A), and contains a compound generating the acid by a resin increasing solubility to an alkali developer and by (B) irradiation of an active light beam or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ａ）で表される特定構造の、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及びを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

Since both radiation directions of a radio wave beam from a microwave sensor 7 are set above splash water discharge from a water discharge port 85 and splashing by dropping from the hands 35 in a washing action, not the splash water but only the hands 35 can be set as a detecting object.例文帳に追加

マイクロ波センサ７からの電波ビームの放射方向が、何れも、吐水口８５から吐出され、洗浄動作中の手３５から落下し散乱する飛散水よりも上方に設定されているので、飛散水ではなく、手３５のみを検知対象にすることができる。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains a specified photo-acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin which has an alicyclic hydrocarbon structure, is decomposed by the action of the acid and increases its solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の光酸発生剤、及び脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The resin composition for production of biochips contains (A) a polymer and (B) a radiation-sensitive acid generator that generates a sulfonyl anion by an action of light, wherein the sulfonyl anion is a bicyclic compound having optical purity of not less than 10%ee.例文帳に追加

（Ａ）重合体と、（Ｂ）光の作用によりスルホニルアニオンが発生する感放射線性酸発生剤であって、該スルホニルアニオンが光学純度１０％ｅｅ以上のビシクロ化合物である感放射線性酸発生剤とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generated an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing repeating units each containing a group represented by a specified structure and increasing its rate of dissolution in an alkali developing solution under the action of the acid.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (a) a resin having an acid decomposable group with a specified structure and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition by the action of an acid and (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（ａ）特定構造の酸分解性基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a compound which has a specified structure and generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation and a polymer which is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of an acid.例文帳に追加

特定の構造を有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリ水溶液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマーを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble polymer which has a silicon atom in a side chain and is made soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with an active light or a radiation.例文帳に追加

側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー及び活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-soluble polymer, (C) a crosslinker which causes crosslinking with the polymer (B) under the action of the acid and (D) a specified ammonium inner salt type compound.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ可溶性ポリマー、（Ｃ）酸の作用により（Ｂ）のポリマーと架橋を生じる架橋剤及び（Ｄ）特定のアンモニウム内部塩型化合物を含有するネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type radiation sensitive composition contains (A) a specified acid generator of formula (I) which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid and increases solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

(Ａ）活性光線の照射により酸を発生する（Ｉ）で示される特定の酸発生剤、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is decomposed by (A) the action of an acid of a specific structure expressed in general formula (A), and contains a compound generating the acid by a resin increasing solubility to an alkali developer and by (B) the irradiation of an active light beam or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ａ）で表される特定構造の、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with specified active rays or radiation and a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is made alkali-soluble by the action of the acid and (C) a specified tetraalkylammonium inner salt.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、及び（Ｃ）特定のテトラアルキルアンモニウム内部塩を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is made alkali-soluble by the action of the acid and a specified low molecular compound.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、並びに特定の低分子化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To permit a product having a radiation level adjusted to a predetermined appropriate range to be manufactured at a low cost and efficiently in manufacturing an accessory having complex physical action, designed to provide three kinds of physical actions of magnetism, negative ions and far infrared rays.例文帳に追加

磁気とマイナスイオンと遠赤外線の３種類の物理作用を同時に得るようにした複合物理作用装身具の製造に際し、その放射線レベルがあらかじめ定めた適正範囲に調整された製品の製造を低コストかつ高効率に行わせる。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains an Si- containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent and a solvent and has ≤6.0 mPa.sec viscosity at 25°C.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する性質を有し、しかもＳｉ元素を含有している樹脂と、光酸発生剤と、溶剤とを含み、２５℃での粘度が６．０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

Subsidies were provided to help defray the cost of radiation inspections on exports by government-designated inspection institutions as part of government action to prevent disruption to physical distribution caused by damaging rumors and to facilitate trade. (The subsidy rate was set at 90% for SMEs.) 例文帳に追加

風評被害による物流の停滞を防ぎ貿易の円滑化を図るため、政府による風評被害対策の一環として、国が指定した検査機関が行う輸出品に係る放射線量検査の検査料を補助した（中小企業への補助率は9/10）。 - 経済産業省

Drills planned by licenseesEach licensee implements an on-site drill once a year including establishment of an emergency response headquarters, reporting and communication, emergency environmental radiation monitoring, etc. based on the Nuclear Licensee Emergency Action Plan defined for each nuclear site.例文帳に追加

原子炉設置者が計画を定めた訓練原子炉設置者は、事業所毎に定めた原子力事業者防災業務計画に基づき､年1回程度、対策本部設営及び運営､通報連絡､緊急時環境放射線モニタリング等の訓練を実施している。 - 経済産業省

This method for producing the active light-sensitive or radiation-sensitive resin is provided by comprising the polymerization of a reaction system containing a first monomer including the structural part generating the acid by the decomposition with the irradiation of the active light or radiation and a second monomer including the group decomposed by the action of the acid to form the alkali-dissolvable group, in the presence of a basic compound.例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた第１単量体と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた第２単量体とを含んだ反応系を、塩基性化合物の存在下で重合させることを含んでいる。 - 特許庁

In the positive radiation sensitive composition containing (a) a resin obtained by protecting each alkali-soluble group of an alkali-soluble resin with an acid releasable group and (b) an acid generating agent which generates an acid when irradiated with radiation, the acid releasable group released form the resin (a) by the acid forms an alkali-soluble group under the action of the acid.例文帳に追加

ａ）アルカリ可溶性樹脂のアルカリ可溶性基を酸脱離基で保護したものおよびｂ）放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物において、ａ）から酸により脱離した酸脱離基が酸の作用によりアルカリ可溶性基を生成することを特徴とするポジ型感放射線性組成物、およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin which is decomposed by the action of acids and increases its solubility in an alkali developing solution, a compound having an oxime sulfonate structure represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation and a compound having a diazodisulfone structure represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、特定の構造で表されるオキシムスルホネート構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の構造で表されるジアゾジスルホン構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A positive photoresist composition is provided which comprises (a) a resin which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (b) a compound which has a specified oxime sulfonate structure and generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and a compound which has a specified onium salt structure and generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、（ｂ）特定のオキシムスルホネート構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定のオニウム塩構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin-containing specified silicon-containing repeating units and having solubility with respect to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an acid generating agent which generates acid, when it is irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has repeating units with a specified structure and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition for a thermal flow pattern forming system contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (b) a resin or a mixture which is decomposed by the action of the acid to increase it solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂又は混合物、を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has at least three repeating units with specified separate structures and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を少なくとも３種有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a fluorine substituted structure in a principal chain and/or a side chain of a polymer skeleton, (B) a specified structure compound which generates an acid under the action of an actinic ray or a radiation, and (X) a non-polymer type dissolution inhibitor.例文帳に追加

（Ａ）ポリマー骨格の主鎖及び／又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有する樹脂、（Ｂ）特定の構造をもつ活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物、及び、（Ｘ）非ポリマー型溶解抑止剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains (A) a resin, having at least two kinds of repetition units expressed by general formula (1), and increasing its solubility into an alkali developer by an action of an acid, and (B) a compound generating an acid, by irradiating the compound with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも２種有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a resin which has a repeating unit having a specific group and increases its solubility in an alkaline developer under the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active light or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

An oxo acid of phosphorus or its deriv. is added to a radiation sensitive positive type resist contg. a combination of a resin component whose solubility to an alkaline aq. soln. is increased by the action of an acid and an acid generating component which generates the acid when irradiated to obtain the objective positive type resist compsn.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ性水溶液への溶解度が増大する樹脂成分と放射線の照射により酸を発生する酸発生成分との組合せを含む放射線感応性ポジ型レジストに対し、リンのオキソ酸又はその誘導体を添加して、ポジ型レジスト組成物とする。 - 特許庁

The active light or radiation sensitive resin composition includes a resin (HR) having a recurring unit (a) which has a polycyclic structure in its main chain and has a portion where the polycyclic structure is decomposed by the action of an acid to increase the solubility in an alkaline developer.例文帳に追加

主鎖に多環構造を有し、かつ該多環構造が酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有する繰り返し単位（a）を含む樹脂（ＨＲ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The negative resist composition contains (B) a crosslinking agent which crosslinks with a compound having a phenolic hydroxy group by the action of an acid; (C) a compound which generates an acid by irradiated with active rays or radiation; and (D) a phenol compound having 7 to 15 benzene rings in the molecule.例文帳に追加

（Ｂ） 酸の作用によりフェノール性水酸基を有する化合物と架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｄ）分子内に７〜１５個のベンゼン環を有するフェノール化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains (a) a resin which is decomposed by the action of an acid and ΔSP represented by the following equation (1) is equal or more than 2.5(MPa)^1/2; (b) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; and (c) a solvent.例文帳に追加

上記レジスト組成物は、（ａ）酸の作用により分解する樹脂であって、下記式（１）により表されるΔＳＰが２．５（ＭＰａ）^１／２以上である樹脂と、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（ｃ）溶剤とを含有している。 - 特許庁

The negative-type chemically amplified resist composition contains (A) resin, (B) a cross-linking agent for cross-linking the resin (A) through the action of acid, and (C) a compound that generates acid by irradiating an active light or radiation, and is used to construct a mold, as well as, the method for forming the mold that uses the same.例文帳に追加

（Ａ）樹脂、（Ｂ）酸の作用により樹脂（Ａ）を架橋する架橋剤及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、モールド作成に用いられることを特徴とする、ネガ型化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。 - 特許庁