「radiation action」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive photoresist composition contains (A) a specified compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which contains at least one selected from repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility to an aqueous alkali solution and (C) a specified solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 （Ｂ）主鎖に特定の構造の脂環式構造を有する繰り返し単位より選択される少なくとも一種を含む、酸の作用により分解しアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する樹脂 （Ｃ）特定の溶剤 を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a specified repeating unit derived from a vinyl ether having a fluorine atom or a fluoroalkyl group in the α-position and a specified repeating unit derived from a vinyl ether and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）α位にフッ素原子又はフルオロアルキル基を有するビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位及びビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; and (B) a resin that has an acid-decomposable repeating unit represented by general formula (I'), has a dispersity of ≤1.5 and increases its solubility in an alkali developer by action of an acid, wherein each symbol represents a predetermined group or the like.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、および、（Ｂ）下記一般式（Ｉ'）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、分散度が１．５以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive type resist composition for use in liquid immersion exposure includes (A) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and in which solubility for an alkali developer increases by an action of acid, (B) a compound which generates acid upon irradiation with an active light or a radiation, (C) an alkali soluble compound which has an alkyl group of 5 or more carbon atoms and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 （Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 （Ｃ）炭素数５以上のアルキル基を有するアルカリ可溶性化合物、 （Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating a 2 or 3C alkylsulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, and (C) a low molecular compound containing an amino group with a nitrogen atom protected by a degradable group.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により炭素数２又は３のアルキルスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）窒素原子が分解性基で保護されたアミノ基を含む低分子化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A); a resin that increases its solubility in an alkaline developer by the action of an acid having a repeating unit including a specific norbornane lactone structure and a repeating unit including a specific alicyclic hydrocarbon structure; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with an actinic ray or radiation, and a pattern forming method using it is provided.例文帳に追加

特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

Since the actual section area of a flow passage having a substantial influence on the flow speed in the tube 110 can be reduced without increasing the total number of the tubes 110, cooling water flow can be turned into a turbulent flow state owing to disturbing action of the dimples even if the size in a major axis of the tube 110 is increased so as to enlarge radiation area.例文帳に追加

これにより、チューブ１１０の総本数を増大させることなく、チューブ１１０内の流速に対して大きな影響を及ぼす実質的な流路断面積を小さくすることができるので、チューブ１１０の長径方向寸法を拡大して放熱面積を拡大させても、ディンプル１１２の攪乱作用と相まって冷却水流れを乱流状態とすることができる。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) at least one specified compound which generates sulfonic acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which contains at least one selected from repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility to an aqueous alkali solution.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造を有する活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物のうち少なくとも１種 （Ｂ）主鎖に特定の構造の脂環式構造を有する繰り返し単位より選択される少なくとも一種を含む、酸の作用により分解しアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin which is decomposed by the action of an acid containing a fluorine atom to increase solubility in an alkaline developer, a compound which generates an acid upon irradiation with an active light or a radiation, and a solvent, wherein at least one of components constituting the solvent is an alkoxy alcohol in which an alkoxy group and an alcoholic hydroxyl group are linked through at least three carbon atoms.例文帳に追加

フッ素原子を含有する酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有し、該溶剤を構成する成分の少なくとも１つをアルコキシ基とアルコール性ヒドロキシル基とが少なくとも３つの炭素原子を挟んで連結されるアルコキシアルコールとしたポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The suppression of greenhouse effect gas in a livestock industry, and the method for promoting raising animal growth are each obtained by bringing tap water or deep well water usually used as water to use for raising livestock animals into contact with ceramics excellent in high efficient infrared light radiation properties, and modifying and improving to activated water and using so as to activate animal life activity and make food digestive action smooth.例文帳に追加

畜産動物の飼育のために用いる水として通常利用される水道水および又は深井戸水を高効率赤外線放射性にすぐれたセラミックと接触させ、活性化された水に改質、改良して使用することで、動物の生命活動を活発化し、食物の消化作用を円滑化することにより、畜産業に於ける温室効果ガスの抑制及び飼育動物の成育促進方法を得る。 - 特許庁

To provide a vessel for blood examination hardly lowering blood coagulation performance of a blood coagulation accelerator, even when irradiated with a radiation, having little fluctuation and excellent stability of the activity of an enzyme having blood coagulation acceleration action included in the blood coagulation accelerator even when preserved for a long period under a normal temperature or under a higher temperature, and capable of maintaining high blood coagulation performance for a long period.例文帳に追加

放射線が照射されたとしても、血液凝固促進剤に血液凝固性能が低下し難く、常温下もしくはそれ以上の高温下に長期間保存された場合でも、血液凝固促進剤に含まれている血液凝固促進作用を有する酵素の活性の変動が小さく、安定性に優れており、高い血液凝固性能を長期間にわたって維持し得る血液検査用容器を提供する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing an alkali-soluble group protected with at least one specified alicyclic hydrocarbon-containing partial structure, having ≤5% monomer content based on the entire pattern area by gel permeation chromatography(GPC) and having the rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

特定の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも１つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、且つモノマー成分の含有量がゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）の全パターン面積の５％以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains: a compound which contains at least (A1) a sulfonate compound of a sulfonium and (A2) a sulfonate compound or a disulfonyl diazomethane compound of N- hydroxyimide and generates an acid when irradiated with active light or radiation; and a resin which contains repeating units each having a specified lactone structure and is decomposed by the action of the acid to have its alkali solubility increased.例文帳に追加

少なくとも（Ａ１）スルホニウムのスルホン酸塩化合物と（Ａ２）Ｎ−ヒドロキシイミドのスルホネート化合物又はジスルホニルジアゾメタン化合物を含む、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

In the positive resist composition comprising (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or a radiation and (B) a resin which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer, the component (B) is a resin having at least one repeating unit derived from a polymerizable monomer containing at least two specified residues.例文帳に追加

（Ａ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物において、前記（Ｂ）成分が特定の残基を少なくとも２つ含有する重合性モノマーから誘導された繰り返し単位を少なくとも１つ有する樹脂であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In the resist composition containing (A) a compound generating the acid due to irradiation with an active light or radiation, and (B) a resin increasing solubility to an alkali developer due to the action of the acid having a repeating unit having at least one alicyclic structure, the resin of (B) components is one having a perfuluoroalkyl group or an Si atom on the main chain terminal.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）少なくとも１つの脂環構造を有する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、その主鎖末端にパーフルオロアルキル基又はＳｉ原子を有する基を有する樹脂であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing acid decomposable alicyclic olefin repeating units with a specified structure, anhydride repeating units with a specified structure and acid decomposable acrylic repeating units with a specified structure and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a nitrogen-containing basic compound having no aromatic ring.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び芳香族基を有さない含窒素塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units including a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generated the acid when irradiated with active light or radiation, an organic solvent which dissolves the above components, an organic basic compound and at least one selected from a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定の構造を含有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、上記成分を溶解する有機溶剤、有機塩基性化合物、並びにフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも１種を含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

However, a method including a step, as a matter to define claimed invention, with an action of a medical doctor (for example, a step where a medical doctor operates a device in order to provide medical treatment in accordance with a symptom) and/or a step with an influence on the human body by a device (for example, the incision and/or excision of a specific part of a patient by a device or the irradiation of radiation, electromagnetic wave or sound wave by a device) is not considered to be a method for controlling the operation of the medical device. 例文帳に追加

一方、請求項に係る発明の発明特定事項として、医師が行う工程(例：医師が症状に応じて処置するために機器を操作する工程)や機器による人体に対する作用工程(例：機器による患者の特定部位の切開・切除、あるいは、機器による患者の特定部位への放射線、電磁波、音波等の照射)を含む方法は、ここでいう医療機器の作動方法には該当しない。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble, is made alkali- soluble by the action of the acid and contains at least one aromatic ring and an acid decomposable group and (C) a basic compound which contains an optionally substituted ≥9C aliphatic hydrocarbon group in its molecule.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる少なくとも１つの芳香環及び酸で分解し得る基を含有する樹脂、及び（Ｃ）分子内に少なくとも炭素数９以上の置換又は無置換の脂肪族炭化水素基を含有する塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

Article 10 (1) When a nuclear emergency preparedness manager has been notified that a radiation dose above the limit specified by a Cabinet Order has been detected, pursuant to the provisions of a Cabinet Order, near the border of an area where the nuclear site is located or has discovered such fact for him/herself, he/she shall, pursuant to the provisions of an ordinance of the competent ministry and the nuclear operator emergency action plan, immediately notify the competent minister, the competent prefectural governor, the competent mayor of a municipality and the related neighboring prefectural governors (in the case of the occurrence of an event pertaining to transport outside the nuclear site, the competent minister, and a prefectural governor and the mayor of a municipality who have jurisdiction over the place where said event has occurred) to that effect. In this case, the competent prefectural governor and the related neighboring prefectural governors shall notify the mayors of related surrounding municipalities to that effect. 例文帳に追加

第十条　原子力防災管理者は、原子力事業所の区域の境界付近において政令で定める基準以上の放射線量が政令で定めるところにより検出されたことその他の政令で定める事象の発生について通報を受け、又は自ら発見したときは、直ちに、主務省令及び原子力事業者防災業務計画の定めるところにより、その旨を主務大臣、所在都道府県知事、所在市町村長及び関係隣接都道府県知事（事業所外運搬に係る事象の発生の場合にあっては、主務大臣並びに当該事象が発生した場所を管轄する都道府県知事及び市町村長）に通報しなければならない。この場合において、所在都道府県知事及び関係隣接都道府県知事は、関係周辺市町村長にその旨を通報するものとする。 - 日本法令外国語訳データベースシステム