「radiation action」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive-acting photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an onium salt compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and at least one of a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生するオニウム塩化合物及びフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも１種を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains: a compound which contains at least (A1) a sulfonium salt and (A2) an oxime sulfonate compound and generates an acid when irradiated with active light or radiation; and a resin which contains repeating units each having a specified lactone structure and is decomposed by the action of the acid to have its alkali solubility increased.例文帳に追加

少なくとも（Ａ１）スルホニウム塩と（Ａ２）オキシムスルホネート化合物を含む、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a compound (A) generating an acid by the irradiation with an active ray or radiation, a resin (B) having a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure in the main chain or the side chain and increasing the solubility in an alkali developer by the decomposition with the action of the acid and a compound (C) expressed by a specific structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を、主鎖または側鎖に有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The surfactant content of a chemical amplification type positive resist composition containing (A) a compound which generates an acid when irradiated with radiation, (B) resin having alkali solubility increased by the action of the acid and, optionally, (C) a tertiary aliphatic amine and/or (D) an organic carboxylic acid, is adjusted to ≤50 ppm.例文帳に追加

（Ａ）放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂及び所望に応じ（Ｃ）第三級脂肪族アミン又は（Ｄ）有機カルボン酸あるいは（Ｃ）及び（Ｄ）の両方を含有してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、界面活性剤の含有量を５０ｐｐｍ以下に調整する。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing repeating structural units each having a specified bridged alicyclic structure and repeating structural units each having a specified acetal structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のアセタール構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, (C) a basic compound of formula (I) and (D) an organic solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される塩基性化合物、及び（Ｄ）有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin component (A) whose alkali solubility is increased by the action of an acid and an acid generator component (B) which generates an acid upon irradiation with a radiation, wherein the resin component (A) is the above resin having a mass average molecular weight of ≤4,000 obtained by anionic polymerization.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）、および放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、アニオン重合法により得られる質量平均分子量４０００以下の樹脂であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is made alkali-soluble by the action of the acid and a 4-20C diearboxylic acid having at least 4 fluorine atoms in one molecule and a molecular weight of ≤1,000 or its anhydride.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、並びに一分子中に少なくとも４つのフッ素原子を有し、炭素数が４から２０で分子量が１０００以下のジカルボン酸、またはカルボン酸無水物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is characterized in that it contains (a) a polymer which has a silicon atom in a side chain, is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of an acid and (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and has a specified phenacylsulfonium structure.例文帳に追加

(ａ) 側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリ水溶液に不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるポリマー、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のフェナシルスルホニウム構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The chemically amplified photoresist composition used for forming a thick film photoresist layer of 20-150 μm thickness on a support comprises (a) a resin whose alkali solubility is varied by the action of an acid and (b) an N-sulfonyloxyimide compound which generates an acid upon irradiation with a radiation.例文帳に追加

支持体上に、膜厚２０〜１５０μｍの厚膜ホトレジスト層を形成するために用いられる厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物であって、（ａ）酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂及び（ｂ）放射線照射により酸を発生するＮ−スルホニルオキシイミド化合物を含有する厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、主査に特定の脂環式構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin having repeating units with a specified alicyclic lactone structure, further having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and at least two specified compounds which generate acids when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び他に脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、特定の構造の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を少なくとも２種、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A dual action self-cleaning and self-decontaminating coating consists of a superhydrophobic aspect capable of removing contaminants and cleaning the surface by having water droplets moving along the surface and a photochemically active aspect capable of disinfecting the surface by producing hydroxyl radicals in the presence of UV radiation and moisture.例文帳に追加

２つの作用である自己洗浄と自己浄化のコーティングは、表面に沿って移動する水滴を有することによって、汚染物質を除去し且つ表面の洗浄をできる超疎水性の態様と、紫外光と湿気の存在中に水酸基ラジカルを生成することによって表面を消毒できる光化学的に活性な態様とからなる。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, and (C) a compound represented by a specified structure and containing a sulfonimide structure in its molecule.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の構造で表される分子内にスルホンイミド構造を含む化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The ink composition comprises (a) a cationically polymerizable compound, (b) a compound which generates an acid by irradiation with radiation, and (c) a compound which undergoes addition reaction or polarity conversion by the action of an acid, and the inkjet recording method, the printed matter, the lithographic printing plate, and its manufacturing method use this ink composition.例文帳に追加

（ａ）カチオン重合性化合物、（ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｃ）酸の作用により付加反応もしくは極性変換する化合物、を含有することを特徴とするインク組成物、並びにこれを用いるインクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版及びその作製方法、により解決される。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono-or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure in the principal chain or in a side chain, is decomposed by the action of the acid and increases its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound represented by a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を、主鎖または側鎖に有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A deposited strain of pathogenic microorganism in a vessel is acted on by an extreme factor selected from the group consisting of ultraviolet radiation with a wavelength within the limits of 0.1-0.3 μm for a period of time (t) of 10-300 sec, viruses and toxic substances, during which the action conversion of the strain of pathogenic microorganisms is effected from an active state to an inactivated state.例文帳に追加

容器中に投入した病原性微生物の株に、０．１〜０．３μｍの範囲内の波長を有し１０〜３００秒の時間ｔの期間での紫外線、ウイルス、および毒性物質からなる群より選択される過激な因子を作用させ、その作用の間に病原性微生物の株が活性状態から不活化状態に変換される。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains (A) a specified acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (C) a specified basic compound and (D) a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の塩基性化合物、及び（Ｄ）フッ素及び／又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The cosmetic composition contains an active substance selected from hesperitin laurate and quercitin caprylate and developing an activity of restricting or preventing modification of a cell metabolic action due to exposure to radiation of sunlight, in which the activity is selected from increase of cell survival rates, and restriction of inflammatory molecule synthesis.例文帳に追加

ラウリル酸ヘスペリチンおよびカプリル酸ケルシチンから選択される活性物質を含み、太陽の放射にさらされることによる細胞の代謝作用の変化を制限または防止する活性を発現するための化粧組成物であって、前記活性が、細胞の生存率の増大、および炎症性分子の合成の制限から選択される化粧組成物。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern capable of effectively preventing occurrence of halation and stationary waves at the time of forming, on a highly reflective film like a metallic film, a positive chemically amplifiable resist having a fundamental composition comprising an acid generating compound by irradiation with radiation and a resin to be increased in solubility in an aqueous alkaline solution by action of an acid.例文帳に追加

放射線照射により酸を発生する化合物及び酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分から成る基本組成を有するポジ型化学増幅型レジストを金属膜などの高反射性膜に施す際に、有効にハレーション及び定在波の発生を防止してレジストパターンを形成しうる方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a repeating unit having a ring structure represented by formula (A1) in a backbone, and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される環構造を主鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) an acid generator that generates an acid upon irradiation of an active ray or radiation, (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (C) at least two basic compounds different from each other in structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）構造の異なる少なくとも２種類の塩基性化合物を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

In a positive resist composition comprising (A) a resin component having solubility in an alkaline aqueous solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with a radiation, the component (B) is a mixture of (b_1) cyano-containing oximesulfonate compounds and (b_2) bissulfonyldiazomethanes and/or onium salts.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分及び（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、上記（Ｂ）成分が、（ｂ_1）シアノ基含有オキシムスルホネート化合物類と、（ｂ_2）ビススルホニルジアゾメタン類又はオニウム塩類、あるいはその両方との混合物であるポジ型レジスト組成物とする。 - 特許庁

The resist composition for negative development comprises (A) a resin which has an acid decomposable repeating unit and increases in polarity under the action of an acid to exhibit decreased solubility in a negative developer, (B) a photoacid generator which generates an acid having a specific structure upon irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、特定の構造を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 - 特許庁

A photosensitive composition contains (A) hollow or porous particles, (B) an alkali soluble particle dispersant having a group capable of chemically binding to the particles (A), (C) a compound which generates an active species upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (D) a binder of which solubility in an alkali developer is reduced by an action of the active species.例文帳に追加

（Ａ）中空又は多孔質粒子、（Ｂ）前記粒子（Ａ）に化学的に結合可能な基を有するアルカリ可溶性粒子分散剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び（Ｄ）前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少するバインダーを含有する感光性組成物。 - 特許庁

The negative resist composition contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, and (C) a crosslinker which reacts under the action of an acid to form crosslink in the alkali-soluble resin with release of a ≥3C alcohol or a ≥7C carboxylic acid.例文帳に追加

(Ａ) アルカリ可溶性樹脂、(Ｂ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）酸の作用により反応して、炭素数３以上のアルコール又は炭素数７以上のカルボン酸の脱離を伴ってアルカリ可溶性樹脂に架橋を形成する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin which contains a repeating unit with a specified structure having a fluorine atom and a benzene ring having a -CONH- or -SONH- group and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）−ＣＯＮＨ−基又は−ＳＯＮＨ−基を有するベンゼン環及びフッ素原子を有する特定の構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains a compound which generates a 2-4C fluorine substituted alkanesulfonic acid when irradiated with active light or radiation, a resin having a specified alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid, a basic compound and a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により炭素数２〜４のフッ素置換アルカンスルホン酸を発生する化合物と、特定の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂と、塩基性化合物と、フッ素及び／又はシリコン系界面活性剤とを含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a specified acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (C) a specified basic compound and (D) a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の塩基性化合物、及び（Ｄ）フッ素及び／又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a specified sulfonium salt compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which contains repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility to an aqueous alkali solution.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を有する活性光線または放射線の照射により酸を発生するスルホニウム塩化合物、（Ｂ）主鎖に特定の構造の脂環式構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用により分解しアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition comprises a resin which is decomposed by the action of an acid having a specified structure to increase solubility in an alkali developer, a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and a solvent prepared by blending one or more solvents having one or more fluorine atoms per molecule.例文帳に追加

特定の構造を有する酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により、酸を発生する化合物及び分子内にフッ素原子を１つ以上有する溶剤を少なくとも１種以上配合してなる溶剤を含有する感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing repeating structural units with norbornene and repeating structural units containing a specified alicyclic hydrocarbon structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）ノルボルネンを有する繰り返し構造単位、特定の脂環式炭化水素構造を含む繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin having a specific repeating unit and solubility in an alkali developer increased by the action of an acid, and (C) a low molecular lactone compound represented by a general formula (1) and/or a general formula (2).例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂（Ｃ）特定の一般式で表される低分子ラクトン化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive-type photoresist composition contains (A) a resin, containing repeating structural units with a specified bridged alicyclic structure and repeating units with a specified lactone structure and having rate of dissolution in an alkali developing solution increased due to the action of an acid and (B) a compound which generates the acid, when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition for negative development includes (A) a resin which has an acid decomposable repeating unit and exhibits increased polarity and decreased solubility in a negative developer under the action of an acid, (B) a photoacid generator which generates an acid having one or two fluorine atoms upon irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、１個または２個のフッ素原子を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which is insoluble or hardly soluble in an alkali developer solution and becomes soluble in an alkali developer solution by the action of an acid; and (C) a basic compound having at least one cyclic ether group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）少なくとも１つの環状エーテル基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (C) a nitrogen-containing compound having at least one specified nitrogen-containing partial structure in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having at least one repeating unit having a group -SO_2-O-, further having at least one repeating unit having a fluorine atom and an acid-decomposable group, and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）−ＳＯ_2−Ｏ−基を有する繰り返し単位を少なくとも１種有し、更にフッ素原子と酸分解性基とを有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The photosensitive composition comprise (A) a resin whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid, and (B) a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, wherein the resin (A) contains two or more repeating units respectively having acid-decomposable groups that are different from each other in the acid decomposition ratio at an image formation sensitivity.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物であって、樹脂（Ａ）が、画像形成感度における酸分解率が互いに異なる酸分解基を有する２種以上の繰り返し単位を含むことを特徴とする感光性組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains: a copolymer (A) containing a constitutional unit (a1) derived from an unsaturated compound having at least one group selected from active methylene and active methine groups and a constitutional unit (a2) derived from an unsaturated compound having a group which reacts under the action of light and/or heat; and a quinonediazido compound.例文帳に追加

活性メチレン基および活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位（ａ１）と、光および／または熱の作用により反応する基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位（ａ２）とを含む共重合体（Ａ）ならびにキノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin having repeating units with a specified alicyclic lactone structure and repeating units with a specified di- or trihydroxyadamantane structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified nitrogen compound.例文帳に追加

特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び特定のジ又はトリヒドロキシアダマンタン構造を有する繰り返し単位を各々有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤と、特定の窒素化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The preparation is used for stimulating hematopoiesis, protecting hematopoietic cells from damage caused by radiation or chemotherapy, or potentiating the stimulatory action of one or a combination of cytokines on colony formation by hematopoietic progenitor cells, protecting a patient from a destructive effect of a chemotherapeutic agent or irradiation, or potentiating the effect of a chemotherapeutic agent.例文帳に追加

造血を刺激する；放射線または化学療法によって引き起こされた損傷から造血細胞を保護する；または造血先祖細胞によるコロニー形成における１種もしくは組合せのサイトカインの刺激作用を増強する；化学療法剤または放射線照射の破壊効果から患者を保護する；または化学療法剤の効果を増強するためのそれらの使用。 - 特許庁

In this phase change recording medium for using thermal action (quenching and slow cooling) by light irradiation to perform transfer between a crystal condition and an amorphous condition, a layer (corrosion resistance protective layer) 8 inactive to oxygen, sulfur or halogen is disposed closely contactly between the reflection heat radiation layer 6 made of Ag or an Ag alloy and a protective layer 7 made of a high polymer resin (1).例文帳に追加

（１）光の照射による熱的な作用（急冷・徐冷）を利用して、結晶状態と非結晶状態の転移を行う相変化記録媒体において、Ａｇ又はＡｇ合金からなる反射放熱層６と高分子樹脂からなる保護層７との間に、酸素、硫黄又はハロゲンに対して不活性な層（耐食性保護層）８を密着して配置した相変化記録媒体。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) resin containing a specified cyclic structure in the principal chain, having ≤5% content of a monomer corresponding to repeating structural units constituting the resin based on the total pattern area by GPC and having velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の環構造を主鎖に有し、樹脂を構成する繰り返し構造単位に対応する単量体の含有量がＧＰＣの全パターン面積の５％以下である酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物が提供される。 - 特許庁

The composition for forming the photocatalyst-containing layer contains at least the photocatalyst and metal fine particles, and is used for forming the photocatalyst-containing layer for decomposing or denaturing organic matter by the action of the photocatalyst caused by energy radiation, disposed with given spaces from the organic matter.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、光触媒と金属微粒子とを少なくとも含有し、かつ有機物と所定の間隙となるように配置されてエネルギー照射に伴う光触媒の作用により有機物を分解または変性させる光触媒含有層の形成に用いられることを特徴とする光触媒含有層形成用組成物を提供する。 - 特許庁