「radiation action」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a compound which generates an acid upon exposure to actinic rays or radiation, (B) a resin of which solution rate in an alkali developer increases by an action of acid, and (C) a hydrophobic resin which contains a repeating unit derived from a monomer represented by the following general formula (1).例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin which is decomposed by the action of acids and increases its solubility in an alkali developing solution, a compound having an oxime sulfonate structure represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation and at least one selected from the group comprising compounds each represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、特定の構造で表されるオキシムスルホネート構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の構造で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の群から選択される少なくとも１種、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a cyclic sulfonamide partial structure represented by formula (S1), and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）一般式（Ｓ１）で表される環状スルホンアミド部分構造を含む、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物、及び、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) an organic fluoropolymer which has at least one structure selected from formulae (I)-(III) and whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）下記の一般式（Ｉ）及び（ＩＩ），（ＩＩＩ）から選ばれた少くとも１種の構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する有機フッ素ポリマー及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains: (B) a resin containing a repeating unit having an arylcarbonyl group, represented by a specified structural formula, the resin which decomposes by the action of an acid to increase solubility with an aqueous alkali solution; and (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

特定の構造式で表される、アリールカルボニル基をもつ繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリ水溶液への溶解性が増大する樹脂（Ｂ）及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which is decomposed by the action of the acid to increase its alkali solubility and (C) a solvent containing 60-90 wt.% solvent (a) based on the entire solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに（Ｂ）酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂と、（Ｃ）下記（ａ）の溶媒を全溶剤に対して６０〜９０重量％含有する溶剤と、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物である。 - 特許庁

The compounds have a significant inhibition action against stimulant- or ultraviolet-induced increased production of PG (prostaglandin) E_2 in epidermal cells, that is, they are effective against a very early inflammatory response mechanism triggered by instantaneous intracellular calcium due to exposure to a stimulant or ultraviolet radiation in epidermal cells.例文帳に追加

該化合物は刺激物質や紫外線による、表皮細胞からのＰＧ（プロスタグランジン）Ｅ_2産生増加に対して有意な抑制作用をもつこと、すなわち、表皮細胞において刺激物質や紫外線の暴露による即時的な細胞内カルシウムがトリガーとなる非常に早期の炎症応答機構に対して有効である。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a compound (A) which contains carboxyl group and generates acid under irradiation of active light ray or radiation, and a resin (B) which is decomposed under the action of acid containing at least one kind of acetal group of acid decomposition and tertiary ester group to increase solubility in an alkali developing liquid.例文帳に追加

（Ａ）カルボキシル基を有する、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸分解性のアセタール基及び３級エステル基の少なくとも１種を有する酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The negative resist composition includes a base material component (A) consisting of a polynuclear phenol compound having a functional group which is chemically converted by the action of an acid to reduce solubility in an alkali developer and a triphenylmethane compound, and an acid generator component (B) which generates an acid upon irradiation with radiation.例文帳に追加

酸の作用によって化学変換されアルカリ現像液に対する溶解性が減少する官能基を有する多核フェノール化合物および、トリフェニルメタン化合物から構成される、基材成分（Ａ）と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The chemically amplified positive photoresist composition for a thick film is to be used for forming a thick photoresist layer on a support, and the composition contains: an acid generator (A) that generates an acid by irradiation with radiation including electromagnetic waves or particle beams; and a resin (B) showing an increase in the solubility with an alkali by an action of an acid.例文帳に追加

支持体上に、厚膜フォトレジスト層を形成するために用いられる厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物であって、電磁波または粒子線を含む放射線照射により酸を発生する酸発生剤（Ａ）と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ｂ）と、を含有する。 - 特許庁

To provide a composition for oral administration capable of suppressing excessive formation of melanin pigment by eliminating free radicals generated by ultraviolet radiation, etc., by an SOD-like action without directly suppressing the formation of melanin pigment and to provide a skin bleaching agent, a food and a drink containing the composition for oral administration.例文帳に追加

メラニン色素産生自体を直接抑制するのではなく、ＳＯＤ様作用により紫外線照射等で生じたフリーラジカルを消去し、メラニン色素の過剰な生成を抑えることが可能な経口投与用組成物、及び当該経口投与用組成物を含有する美白剤、飲食品を提供する。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (C) a nitrogen-containing compound containing at least one fluorine atom.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）少なくとも一つのフッ素原子を含有する含窒素化合物を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound expressed by a specified formula.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、並びに（Ｃ）特定の化学式で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive resin composition contains a polymer having a cycloaliphatic hydrocarbon skeleton and made alkali-soluble by decomposition based on the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a compound of formula (I), (II) or (III) and a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

環状脂肪族炭化水素骨格を有し、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、化合物式（Ｉ）（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）及び、フッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

In the valve shaft guide 52, heat by an exhaust gas from a lower side of the valve shaft guide 52 is shielded by an under cover 60, and temperature in the valve shaft guide 52 and a sliding part between the valve shaft guide 52 and the valve shaft 38 is prevented from increasing due to heat radiation action from the lower side of the valve shaft guide 52 including the annular expansion part 58.例文帳に追加

弁軸ガイド５２は、アンダーカバー６０によりその下方側からの排気ガスによる熱が遮蔽されるとともに、環状膨出部５８を含む弁軸ガイド５２の下方側からの放熱作用により、弁軸ガイド５２および弁軸ガイド５２と弁軸３８との摺動部の昇温が抑制される。 - 特許庁

The positive resist composition for liquid immersion exposure comprises: (A) a resin containing contains at least one kind of repeating unit having a fluorine atom and increasing a solubility of the resin in an alkali developing liquid by an action of an acid; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有する繰り返し単位を少なくとも１種含有しており、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In the resist composition containing (A) a compound generating an acid due to irradiation with an active light or radiation, and (B) a resin increasing solubility to an alkali developer due to action of the acid, the resin of (B) components has a repeating unit due to a monomer of a specific structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、特定構造のモノマーによる繰り返し単位を有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates a specified aromatic sulfonic acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has repeating units containing a specified group and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の芳香族スルホン酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の基を含有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a repeating unit having a fluorine atom in the principal chain and a group having -NH- in a side chain and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）主鎖にフッ素原子、側鎖に−ＮＨ−を有する基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition comprises (A) an alkali-soluble polymer having a specified repeating unit, (B) a crosslinking agent which crosslinks with the alkali-soluble polymer (A) by the action of an acid, (C) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (D) a specified quaternary ammonium salt.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有するアルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）酸の作用により（Ａ）のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｄ）特定の４級アンモニウム塩、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution and a compound which generates an aliphatic or aromatic carboxylic acid substituted by at least one fluorine atom when irradiated with active light or radiation ray.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition comprises an alkali-soluble polymer, a crosslinker which crosslinks with the alkali-soluble polymer under the action of an acid and an onium salt compound which comprises a cationic moiety having at least one phenolic hydroxy group and a specified anionic moiety and generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加

アルカリ可溶性ポリマー、酸の作用によりアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤、フェノール性ヒドロキシ基を少なくともひとつ有するカチオン部と特定のアニオン部とを有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生するオニウム塩化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having a specified repeating unit having a ring hydrocarbon structure and a fluorine atom in a side chain and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に環状炭化水素構造とフッ素原子とを有する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains: resin (A) capable of increasing the solubility with an alkali developing solution by an action of an acid; and resin (C) having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing repeating unit (c) having at least two polarity conversion groups.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、及び、少なくとも２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位（ｃ）を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（Ｃ）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The actinic ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (A) which has at least two polar conversion groups, includes a repeating unit (a) having at least either a fluorine atom or a silicon atom, and exhibits increased solubility in an alkali developer by the action of an acid.例文帳に追加

極性変換基を少なくとも２つ以上有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する繰り返し単位（ａ）を含有し、かつ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and at least one acetal compound represented by a specified structure.例文帳に追加

脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の構造で表されるアセタール化合物のうち少なくとも１種、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition contains a polymer having a cycloaliphatic hydrocarbon skeleton and convertible to an alkali-soluble polymer by decomposition by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a specified ammonium salt and a fluorine-and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

環状脂肪族炭化水素骨格を有し、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定のアンモニウム塩、及び、フッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin having a specified alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, and a specified fluorine-containing compound having no carboxyl group.例文帳に追加

特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、特定のフッ素原子を含有し、カルボキシル基を有しない化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid and a compound represented by a specified structure.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A distinctive feature of the tooth bleaching method and the plaque controlling method is brushing the surfaces of the teeth while the light is emitted from a dentifrice containing titanium dioxide which generates a photocatalytic action by the radiation of light and a compound which can generate hydrogen peroxide placed on a tooth brush having a light emitting function.例文帳に追加

光放射により光触媒作用を生じる二酸化チタンと、過酸化水素を発生しうる化合物とを含有する歯磨き剤を、光照射機能を有する歯ブラシにつけ、光を照射しながら歯牙表面をブラッシングすることを特徴とする歯牙の漂白方法およびプラークコントロール方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a specified repeating unit derived from a vinyl ether having a fluorine atom or a fluoroalkyl group in the α-position and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）α位にフッ素原子又はフルオロアルキル基を有するビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is made alkali-soluble by the action of the acid and (C) a nitrogen-containing compound having at least one specified nitrogen-containing partial structure in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、並びに（Ｃ）特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin containing specified two repeating units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid having an alicyclic hydrocarbon group in a side chain and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の２種の繰り返し単位を含有し、脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) an Si- containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, (C) an ammonium salt which is not degraded by irradiation with energy beams for exposure and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）珪素原子を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）露光用のエネルギー線の照射により分解しないアンモニウム塩、及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is characterized in that it contains (a) a polymer which has a silicon atom in a side chain, is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of an acid and (b) a specified sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（ａ）側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリ水溶液に不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるポリマー、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定のスルホニウム塩化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) resin containing a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and having a solubility rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) an aromatic-group-free sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（１）（Ａ）イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、芳香族基を有さないスルホニウム塩化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains an acid generating agent by light having a specific structure which generates an acid by the irradiation with active light or radiation and a polymer having a repeating structural unit of a specific structure, a repeating structural unit of a specific structure having an alicyclic ring in the main chain and a group decomposing by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物、特定の構造の繰り返し構造単位と主鎖に脂環式環を有する特定の構造の繰り返し構造単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin of which the solubility in an alkali developer increases under the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (C) a resin having a specific structure and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定構造を有する樹脂および（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive type silicon-containing photosensitive composition contains (a) a polysiloxane or polysilsesquioxane having a group decomposable by a carboxylic acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid, (b) a compound which generates the carboxylic acid when irradiated with active light or radiation and (d) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸により分解しうる基を有し、かつアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、（ｄ）溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing specified repeating units such as repeating units each with a norbornene structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with an active light or radiation.例文帳に追加

ノルボルネン構造を有する繰り返し単位等の特定の繰り返し単位等を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and (B) a crosslinked resin having a specified crosslinked repeating unit as at least one of repeating units and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）繰り返し単位の少なくとも１種として、特定の架橋繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する架橋樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble and becomes alkali- soluble under the action of an acid and (D) a chain compound having three or more hydroxyl groups or substituted hydroxyl groups.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、（Ｄ）少なくとも３つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有する鎖状化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition for immersion exposure contains a resin component (A), whose alkali solubility is varied by the action of an acid, wherein the resin component (A) contains a high-molecular compound (A1) having a constitutional unit (a0) having an acid generating group which generates acid by irradiation with radiation.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、放射線の照射により酸を発生する酸発生基を有する構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound of a specified formula.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、並びに（Ｃ）特定の化学式で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains: (A) a resin having an alicyclic structure and showing changes in a dissolving rate with a developing solution by an action of an acid; (B) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a compound expressed by general formula (EA).例文帳に追加

本発明に係るレジスト組成物は、（Ａ）脂環構造を備え且つ酸の作用により現像液に対する溶解速度が変化する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物と、（Ｃ）下記一般式（ＥＡ）により表される化合物とを含有したレジスト組成物。 - 特許庁