意味 | 例文 (973件) |
reaction-tubeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 973件
This method comprises continuously introducing into a reaction tube heated to 80-150°C a mixture obtained by mixing in a predetermined salic ratio, an alkaline extract of wastes containing the aluminum component with a silica enriching material or mixing an alkaline extract of wastes containing the silica component with an aluminum enriching material, and flowing the mixture in the reaction tube, thus carrying out hydrothermal synthesis.例文帳に追加
アルミニウム成分を含有する廃棄物のアルカリ抽出液と珪酸富化材、もしくは珪酸成分を含有する廃棄物のアルカリ抽出液とアルミニウム富化材とを所定の珪礬比で混合したものを、80〜150℃に加熱した反応管内に連続的に導入し、流動させて水熱合成を行う。 - 特許庁
In a method of heat-treating a wafer introduced into a quartz reaction tube, a shielding member is arranged above or below the wafer, the wafer is shielded by the shielding member, so as to restrain products originating from the wafer from adhering to the inner wall of the quartz reaction tube, and a heat treatment is carried out in this state.例文帳に追加
石英製反応管内に投入されたウェーハの熱処理方法であって、前記ウェーハの少なくとも上方又は下方に遮蔽部材を配置し、該ウェーハからの生成物が該石英製反応管の内壁に付着しないように該遮蔽部材によって該ウェーハを遮蔽した状態で熱処理を行うようにした。 - 特許庁
The fuel cell 1000 is equipped with a plurality of tube type fuel cell modules 100A, 100B each having reaction gas manifolds 20A, 21A, 20B, 21B, and the reaction gas manifolds 20A, 20B, and 21A, 21B of adjacent tube type fuel cell modules 100A, 100B are made possible to connect.例文帳に追加
反応ガス用マニホールド20A、21A、20B、21Bを備えるチューブ型燃料電池モジュール100A、100B、を複数備え、隣接するチューブ型燃料電池モジュール100A、100Bの反応ガス用マニホールド20A、20B及び21A、21Bが、互いに連結可能である、燃料電池1000とする。 - 特許庁
The film forming device is composed of a reaction tube forming a carbon protective film by a CVD method and cylindrical counter electrodes in which the magnetic recording medium in which the magnetic layer has been formed is made run along the surfaces, and, oppositely to the magnetic recording medium running before and after the reaction tube, electron feeding devices 8 are provided.例文帳に追加
成膜装置は、CVD法によりカーボン保護膜を成膜する反応管と、磁性層が形成された磁気記録媒体が表面に沿って走行される円筒状の対向電極とから構成し、反応管の前後に走行する磁気記録媒体に対向して電子供給装置を設ける。 - 特許庁
To provide a multi-tubular reactor for gas-phase catalytic reaction capable of maintaining the life of a catalyst and inhibiting corrosion or failure of a reaction tube by an elevated temperature, and which can be suitably used particularly in the production of chlorine gas.例文帳に追加
触媒の寿命を維持し、高温による反応管の腐食または破損を防止することが可能で、特に塩素ガスの製造において好適に用いられる接触気相反応用多管式反応装置を提供する。 - 特許庁
Inert gas or a gaseous mixture of inert gas and reaction gas is introduced into the reaction tube 2, and moreover, the a.c.例文帳に追加
反応管2に不活性ガスまたは不活性ガスと反応ガスの混合気体を導入すると共に外側電極1と内側電極3の間に交流電界を印加することにより大気圧下で反応管2の内部にグロー放電を発生させる。 - 特許庁
When a raw material to be reformed and a reforming gas are supplied into a reaction tube 22 and brought into contact with a catalyst layer 24 in a microwave reformation apparatus 10, a reformation reaction is caused to produce a hydrogen-containing reformed gas.例文帳に追加
マイクロ波改質装置10では、改質原料と改質用ガスとが反応管22内に供給されて触媒層24に接触すると、改質反応が生じて水素を含有する改質ガスが生成される。 - 特許庁
As a result, the reaction gas of a desired introduction quantity f1 flows in the resistor tube 22 and the reaction gas of a most residual flow rate f2 flows in the split passage 28, and as soon as the target pressure P1 is modified, the introduction quantity is changed followingly.例文帳に追加
その結果、抵抗管22には所望の導入量f1の、スプリット流路28にはその残りの大部分の流量f2の反応ガスが流れ、目標圧力を修正するとすぐに導入量が追従して変化する。 - 特許庁
To provide a long life high-pressure vapor discharge lamp in which the temperature of a light emission narrow tube is made to be lower in lighting, and in which the reaction to a metal halide in an inner surface of the light emission narrow tube can be suppressed, and a leak is prevented.例文帳に追加
ランプ点灯中の発光管細管の温度を低下させ、発光管細管の内部表面での金属ハロゲン化物との反応を抑制でき、リ−クを防止した長寿命の高圧蒸気放電ランプを提供する。 - 特許庁
The striplike member 28 is provided with magnetic force such that one side in its widthwise direction becomes a south pole and the other side becomes a north pole, and reaction force acts on the flexible tube 26 for the endoscope when the flexible tube 26 for the endoscope is bendedly deformed.例文帳に追加
帯状部材28は、幅方向の一側方がS極に他側方がN極になるように磁力が付与され、内視鏡用可撓管26が曲げ変形された場合に前記内視鏡用可撓管26に反発力を作用する。 - 特許庁
The rocking tube 30 is rocked toward the Y direction around a part to be held as fulcrum, which is held by a pair of the contact members 70, 80, by the reaction when the pressurized fluid is sprayed from the spraying port 38 of the rocking tube 30.例文帳に追加
揺動チューブ30は、加圧流体が揺動チューブ30の噴射口38より噴射される際の反動により一対の当接部材70、80に保持される被保持部を支点としてY方向に向けて揺動する。 - 特許庁
In the tubular mold casting for metal injection molding, having a coating layer for releasing from the mold and/or preventing the reaction on the inner surface of the tube, a gas exhaust hole for exhausting the gas from the inner part of the tube, is provided at a position defining the upper part when the casting is performed.例文帳に追加
離型及び/又は反応防止用のコーティング層を管内面に有する金属射出成型用管状モールドにおいて、鋳込み時に上部となる位置に管内からガスを排除するための排気孔を備えるもの。 - 特許庁
Since the carrier 202 is integrally joined to the tube wall 203 of the hydrogen manufacturing reaction tube 201, the contact of the carrier 202 and the hydrogen separating membrane 206 is completely prevented and the durability of the hydrogen separating membrane 206 is improved.例文帳に追加
担体202は、水素製造用反応管201の管壁203と一体に接合されているため、担体202と水素分離膜206との接触は完全に防止され、水素分離膜206の耐久性が向上する。 - 特許庁
When accretion adheres to the interior of a system, the control unit 100 of a heat treatment apparatus 1 heats the inside of a reaction tube 2 to a predetermined temperature, and supplies a cleaning gas from a process gas introduction tube 17 to remove the accretion.例文帳に追加
熱処理装置1の制御部100は、装置内部に付着物が付着すると、反応管2内を所定の温度に加熱するとともに処理ガス導入管17からクリーニングガスを供給して付着物を除去する。 - 特許庁
In the microwave reactor, microwaves are radiated to the catalyst filled portion in a reaction tube to perform the catalytic reaction of a gas fluid introduced into the catalyst filled portion in the microwave irradiator having the air cooling fan, the periphery of the reaction tube corresponding to a position of the catalyst filled portion is covered with a microwave permeable heat insulating material having a specific dielectric constant of 1.0-5.0.例文帳に追加
空冷ファンを有するマイクロ波照射装置内で、反応管内の触媒充填部にマイクロ波を照射して該触媒充填部に導入したガス流体を触媒反応させるマイクロ波反応装置であって、前記触媒充填部位置の反応管周囲を比誘電率が1.0〜5.0のマイクロ波透過性の保温材で被覆したことを特徴とするマイクロ波化学反応装置である。 - 特許庁
In the process for producing a crystal of Al based III nitride such as aluminium nitride by causing reaction of the gas of Al based III halide such as aluminium trichloride and ammonia gas on a substrate held in a reaction region thereby causing vapor phase epitaxy on the substrate, the Al based III halide gas is touched to metal aluminium 15 before being fed out to a growth reaction tube 16 to cause reaction.例文帳に追加
三塩化アルミニウム等のAl系III族ハロゲン化物ガスとアンモニアガス等とを反応域に保持された基板上で反応させることにより、基板上に気相成長させて窒化アルミニウム等のAl系III族窒化物結晶を製造する方法において、該Al系III族ハロゲン化物ガスを金属アルミニウム15と接触させた後に成長反応器16に流出せしめて反応させる。 - 特許庁
In this reformer, a preheating flow passage 25 filled with a heat transfer accelerating material 41 is provided for the reaction tube and reaction flow passages 26, 28 filled with the reforming catalyst are provided concentrically around the preheating flow passage so as to generate the reforming reaction by preliminary heating the raw material gas by flowing down through the preheating flow passage and then flowing into the reaction flow passages.例文帳に追加
このような改質器について、その反応管に、伝熱促進材41を充填の予熱流路25を設けるとともに、改質触媒を充填の反応流路26、28を予熱流路の周囲に同心円状に設け、予熱流路を流下させることで原料ガスを予備的に加熱した後に反応流路に流入させて改質反応を生じさせるようにしている。 - 特許庁
This heat treatment apparatus 1 comprises a reaction chamber 2 for housing a wafer boat 9 which holds a plurality of semiconductor wafers 10, a treatment gas introducing tube 13 for feeding the gas into the reaction chamber 2, an exhaust means capable of setting the inner pressure of the reaction chamber 2 to a predetermined value, and a controller 20 for controlling these.例文帳に追加
熱処理装置1は、複数枚の半導体ウエハ10を保持したウエハボート9を収容する反応管2と、反応管内2に処理ガスを供給する処理ガス導入管13と、反応管2内を所定の圧力に設定可能な排気手段と、これらを制御する制御部20とを備えている。 - 特許庁
The solution tank 5 is pressurized by supplying the generated hydrogen to the reaction chamber 2 from a pressure transmission tube 16, a pressure condition at which the pressure regulating valve 13 works is maintained, and the reaction solution 7 is stably supplied to the reaction chamber 2 according to the pressure condition without using power, and the hydrogen is generated.例文帳に追加
発生した水素が圧力伝送管16から反応チャンバー2に送られて溶液タンク5を加圧し、圧力調整弁13が動作する圧力状態を保持し、動力を用いずに圧力状態により反応溶液7を安定して反応チャンバー2に供給して水素を生成する。 - 特許庁
To provide a more effective means which makes it possible to solve the problem due to a hot spot in a vapor-phase catalytic oxidation reaction using a fixed-bed multiple tube reactor.例文帳に追加
固定床多管式反応器を用いた気相接触酸化反応においてホットスポットに起因する問題を解決する、より効果的な手段を提供する。 - 特許庁
In a space 86 between the lower outside wall part 58b and the lower inside wall part 58f, an exhaust pipe 90 is connected through an exhaust outlet formed on the back face of the reaction tube.例文帳に追加
下部外側壁部58bと床板部58fとの間の空間86には、反応管背面に形成された排気口を介して排気管90が接続される。 - 特許庁
To provide a controller-having automated performance apparatus of polymerase chain reaction in at least one test tube in which a prescribed quantity of a liquid sample mixture is received.例文帳に追加
所定量の液体試料混合物を収容した少なくとも1つの試料管内におけるポリメラーゼ連鎖反応の、制御装置付自動遂行装置の提供。 - 特許庁
To provide a method for preventing a level sensor from malfunction by removing a reaction product with a simple operation if a liquid level sensor tube is clogged, or regularly.例文帳に追加
液面センサ用チューブが詰まったとき、あるいは定期的に、簡単な操作で反応生成物の除去を行い、液面センサが誤動作することを未然に防止する。 - 特許庁
By catalytic combustion heat of reaction at that time, the reformed gas supply tube 8 is kept hot at equal or more than the boiling point of water and at the temperature equal or less than the oxidation degradation temperature of the anode 3a.例文帳に追加
その際の触媒燃焼反応熱により、改質ガス供給管8を水の沸点以上アノード3aの酸化劣化温度以下に保温する。 - 特許庁
To provide a gene reaction tube and a gene detector for significantly improving detection efficiency by reducing inspection time, when inspecting genes.例文帳に追加
遺伝子検査における検査時間を短縮して検査効率を大幅に向上させることのできる遺伝子反応管および遺伝子検出装置を提供すること。 - 特許庁
A conductive shield member 208 is formed between the treatment chamber 201 and a heater 207 provided outside of the treatment room 201, and a reaction tube 203 is covered with the shield member 208.例文帳に追加
処理室201と処理室201の外側に設けたヒータ207との間に導電性のシールド部材208を設けて、シールド部材208で反応管203を覆う。 - 特許庁
In a reaction tube 1, a carbon source decomposing catalyst 29 of a Ti catalyst is placed at an upstream side of a carbon nanotube growing catalyst 25 of a Co catalyst.例文帳に追加
反応管1内において、Co触媒のカーボンナノチューブ成長触媒25より上流側に、Ti触媒の炭素源分解触媒29が配置されている。 - 特許庁
A material gas is allowed to flow through a reaction tube 5 while making its flow passage coincide with the vertical direction, and the substrates 1 and 1 are disposed in such a way that respective plain surfaces face each other with the flow passage in-between.例文帳に追加
反応管5内に、流路を鉛直方向に一致させて原料ガスを流し、この流路を挟み、平面を相対させて基材1,1を配置する。 - 特許庁
To provide an automatic device attached with a controlling device, for performing a polymerase chain reaction in at least one sample tube housing a prescribed amount of a liquid sample mixture.例文帳に追加
所定量の液体試料混合物を収容した少なくとも1つの試料管内におけるポリメラーゼ連鎖反応の、制御装置付自動遂行装置の提供。 - 特許庁
To ensure uniform thickness, quality and impurity diffusion of a film formed on a plurality of semiconductor wafers in a vertical reaction tube.例文帳に追加
縦型反応炉内において複数の半導体ウェーハを均一に処理ガスにさらすことによって、半導体ウェーハに均一な膜厚、膜質、不鈍物拡散を得ること。 - 特許庁
Thereby, the residual air and moisture flowing in from the downstream of the reaction tube 110 are prevented from reaching the surface of the substrate 122 by convection.例文帳に追加
このため、上述のように反応管110の下流から流入した残留空気や水分が対流により基板122の表面に到達することが防止される。 - 特許庁
Though holes 33 for guiding a cooling gas jetted from the cooling gas supply means 310 to the flange part 122 of the reaction tube 11 are formed on the flange support part 166.例文帳に追加
フランジ支持部166には、冷却ガス供給手段310が噴出した冷却ガスを反応管11のフランジ部122に導くための貫通孔33が設けられる。 - 特許庁
In the actuator 10, the volume of the deformation layer 3 is expanded or contracted by an oxidation-reduction reaction and driving is performed so that the inside diameter of the tube is changed.例文帳に追加
アクチュエータ10は、酸化還元反応によって変形層3の体積が膨張または収縮し、チューブの内径が変化するように駆動するものである。 - 特許庁
In a vertical heat treatment apparatus 1, a plurality of gas supply pipes 16-20 which supply processed gas in a reaction tube 2 holding a semiconductor wafer W is prepared.例文帳に追加
縦型熱処理装置1には、半導体ウエハWを収容する反応管2内に処理ガスを供給する複数のガス供給管16〜20が設けられている。 - 特許庁
To provide a gene reaction tube capable of markedly improving gene examination efficiency through shortening gene examination time, and to provide a gene examination device using the same.例文帳に追加
遺伝子検査における検査時間を短縮して検査効率を大幅に向上させることができる遺伝子反応管および遺伝子検査装置を提供する。 - 特許庁
A substrate 12, a boat 15 for holding at least an aluminum metal member 14 and a boat 17 for holding a gallium metal member 16 are arranged at the inside of a reaction tube 11.例文帳に追加
反応管11の内部に基板12と少なくともアルミニウム金属部材14を保持するボート15、ガリウム金属部材16を保持するボート17とを配置する。 - 特許庁
To achieve even film formation by eliminating the variation of wafer characteristics, which are due to an inter-wafer distance not matching with the distance between each of wafers and the wall surface of a reaction tube.例文帳に追加
ウエハ間距離、およびウエハと反応管の壁面との距離のそれぞれが不一致であることに起因するウエハ特性のばらつきを解決し、均一な成膜を行うこと。 - 特許庁
An incident opening number adjusting member provided at a rear side of the first optical element adjusts the number of openings upon radiating the light from the light source into the reaction tube.例文帳に追加
また入射開口数調整部材は、第1光学素子の後側に設けられ、光源からの光を反応管に入射させる際の開口数を調整する。 - 特許庁
At the time of shut-down of the system, the cooling water including exhaust heat of the cooling system 4 is introduced into a branch piping 7 arranged in contact with the reaction tube 51, and the adsorbent 53 is regenerated.例文帳に追加
システム停止時には、冷却系4の廃熱を含む冷却水を、反応管51に接して配置した分岐配管7に導入し、吸着剤53を再生する。 - 特許庁
A fluidized bed 9 of the carbon dioxide gas absorbent powder is formed in a reaction tube 1 using a fluid gas of the carbon dioxide gas and the absorption of the carbon dioxide gas is performed in this state.例文帳に追加
反応筒1内に、炭酸ガスを流動ガスとした炭酸ガス吸収材粉末の流動層9を形成し、この状態で炭酸ガス吸収を進める。 - 特許庁
To provide an automatic apparatus attached with a controlling device, for performing a polymerase chain reaction in at least one sample tube housing a prescribed amount of a liquid sample mixture.例文帳に追加
所定量の液体試料混合物を収容した少なくとも1つの試料管内におけるポリメラーゼ連鎖反応の、制御装置付自動遂行装置の提供。 - 特許庁
This apparatus for vapor-phase growth is constituted such that a part of the reaction-tube wall that faces to the substrate is tilted downward from the upstream to the downstream of the material-gas channel.例文帳に追加
基板と対向する反応管壁の一部が、原料ガス流路の上流から下流に向かって下方向に傾斜した構成の気相成長装置とする。 - 特許庁
The plasma treatment device carries out plasma treatment to a treated object 6 by the use of spouted plasma 5 by jetting the jet-like plasma 5 from the jetting hole 1 of the reaction tube 2.例文帳に追加
反応管2の吹き出し口1からジェット状のプラズマ5を吹き出して、流出するプラズマ5にて被処理物6をプラズマ処理するプラズマ処理装置に関する。 - 特許庁
In the apparatus for producing a nitride 1, a gas dissociation accelerating part 6 of a nitrogen compound is made to coexist inside a reaction tube 3 which is made into a nitrogen compound gas atmosphere.例文帳に追加
本発明の窒化物製造装置1では、窒素化合物ガス雰囲気にした反応管3の内部に窒素化合物のガス解離促進部6を共存させる。 - 特許庁
Trimethylamine is heated at 550°C by means of the heater 15 and fed through the second gas introduction pipe 14 into the reaction tube 2.例文帳に追加
そして、加熱器15によりトリメチルアミンを550度に加熱し、加熱されたトリメチルアミンを第2ガス導入管14を介して、550度に設定された反応管2に供給する。 - 特許庁
After film formation processing, a control unit 29 performs control to supply a vent gas into the reaction tube 4, into vent piping 17 downstream from a vent valve 18, and to a conveyance chamber 6.例文帳に追加
成膜処理後、制御部29は、反応管4内、ベントバルブ18よりも下流のベント配管17内、ならびに搬送室6にベントガスを供給するように制御する。 - 特許庁
A sample 10, in which a semiconductor layer composed of a III nitride compound semiconductor is formed on a substrate, is placed on a pedestal 22 set up in a reaction tube 21.例文帳に追加
基板の上にIII族ナイトライド化合物半導体よりなる半導体層が形成された試料10を反応管21の内部に配設された載置台22の上に載置する。 - 特許庁
Thus, the supplied dichlorosilane is activated, and made to react to contaminant contained in quartz configuring the reaction tube 2, and the contaminant is removed from the quartz.例文帳に追加
これにより、供給されたジクロロシランが活性化して、反応管2を構成する石英中に含まれる汚染物質と反応し、石英中から汚染物質が除去される。 - 特許庁
A sample section 111 or a reagent section 112 injects a detergent solution in the reaction tube after cleaned as an infusion fluid under the control of a system controller 160.例文帳に追加
サンプル部111または試薬部112はシステム制御部160の制御の下に、洗浄後の反応管の内部に洗剤溶液を注入液として注入する。 - 特許庁
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