「reaction-tube」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a raw material gas supply nozzle capable of improving efficiency of reaction in a reaction tube, to provide an apparatus for producing a carbon fiber material, and to provide a method for producing the carbon fiber material.例文帳に追加

反応管内の反応効率を向上させることができる原料ガス供給ノズル、炭素繊維質物製造装置、および炭素繊維質物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The flow rate of the carrier gas flowing through piping 1 for supplying the organometallic compound gas connected to the reaction line 10 connected to the reaction tube 11 is set to 100 cc or more per min.例文帳に追加

また、反応管１１に接続されたリアクトライン１０に接続された有機金属化合物ガス供給用の配管１に流すキャリアガスの流量を毎分１００ｃｃ以上にする。 - 特許庁

To provide a vertical furnace which can maintain a boat perpendicular to a reaction tube while maintaining sealability of a reaction chamber even when a base is inclined when the boat is airtightly mounted in the chamber.例文帳に追加

反応室にボートを気密に装填するとき、ベースに傾きが生じたとしても、反応室の気密性を維持しつつ、ボートを反応管に対し垂直に保持できる縦型炉を提供する。 - 特許庁

To provide a system for etching a material of low reactivity in the processing of product while reducing adhesion of reaction products to the side wall of a reaction tube made of a dielectric.例文帳に追加

製品処理において反応性の低い材料のエッチングを行い、誘電体よりなる反応管側壁における反応生成物の付着量が少ないエッチング装置を提供すること。 - 特許庁

The method of producing the corresponding unsaturated aldehyde and unsaturated carboxylic acid comprises: packing the solid catalyst into the reaction tube according to the above-mentioned packing method: removing the organic matter contained in the solid catalyst in the reaction tube; and subjecting propylene, isobutylene, tertiary butanol or methyl tertiary-buthyl ether to vapor phase contact oxidation by using molecular oxygen in the reaction tube.例文帳に追加

固体触媒を上記方法で反応管に充填し、当該反応管中で固体触媒に含まれる有機物を除去した後、当該反応管を使用してプロピレン、イソブチレン、第三級ブタノール又はメチル第三級ブチルエーテルを分子状酸素により気相接触酸化して、それぞれに対応する不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸を製造する方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing the titanium dioxide by reacting a gas containing titanium tetrachloride with an oxidative gas with a vapor phase process, the gas containing the titanium tetrachloride and the oxidative gas are each introduced into a reaction tube in such a manner that the reaction is carried out at a temperature inside the reaction tube of 1,050°C or higher and lower than 1,300°C.例文帳に追加

気相法で四塩化チタンを含むガスと酸化性ガスとを反応させることにより二酸化チタンを製造する方法において、四塩化チタンを含むガス及び酸化性ガスをそれぞれ反応管に導入し反応させたとき、該反応管内の温度が１，０５０℃以上１，３００℃未満である。 - 特許庁

Into the hydrothermal reaction vessel 10 which performs decomposition by hydrothermal reaction in a supercritical state of water, the pressure detection tube 21 to which the manometer 20 has been attached is thrusted, and the free-standing end 21' of the pressure detection tube thrusted into the hydrothermal reaction vessel is put in a subcritical water region into which cooling water is injected.例文帳に追加

水の超臨界状態での水熱反応により分解を行う水熱反応容器１０の内部に、圧力計２０を取付けた圧力検出管２１を突入させ、その圧力検出管の水熱反応容器内に突入した端部２１′を冷却水が注入される亜臨界水領域に位置させる。 - 特許庁

A reaction chamber and a vacuum pump are connected with a flexible tube comprising a tube body which has convex parts and concave parts and is composed of a hard material, and a cover which is arranged on the outer surface of the tube body and is composed of an elastic material.例文帳に追加

反応室と真空ポンプとの間を、凸部と凹部とを有し、硬い材料で形成されたチューブ本体と、このチューブ本体の外部表面に設けられ、弾性材料で形成されたカバーとを有するフレキシブルチューブで接続する。 - 特許庁

The control unit 21 heats the exhaust tube 16 up to 100 to 200°C and supplies hexachlorodisilane and ammonia from a treatment gas inlet tube 13 to the reaction tube so as to cause the input amount of the ammonia to be 20 to 50 times the input amount of the hexachlorodisilane.例文帳に追加

制御部２１は、排気管１６を１００℃〜２００℃に加熱するとともに、アンモニアの導入量がヘキサクロロジシランの導入量の２０〜５０倍となるように、処理ガス導入管１３からヘキサクロロジシラン及びアンモニアを供給する。 - 特許庁

At least one component is passed through a tube pump as a forcibly feed pump to be moved by a pushing body moving relatively to a tube and for pressing the tube with the reaction component along the forcibly feed device.例文帳に追加

少なくとも１つの反応成分を、圧送装置としてのチューブポンプを通して、チューブに対して相対的に運動させられる、圧送装置に沿ってチューブを反応成分と一緒に押し潰す押退け体によって移動させるようにした。 - 特許庁

A reaction chamber is connected with a vacuum pump using a flexible tube having a tube body which has a convex portion and a recess, is formed of a stiff material and a cover which is provided on the outer surface of the tube body and formed of an elastic material.例文帳に追加

反応室と真空ポンプとの間を、凸部と凹部とを有し、硬い材料で形成されたチューブ本体と、このチューブ本体の外部表面に設けられ、弾性材料で形成されたカバーとを有するフレキシブルチューブで接続する。 - 特許庁

Therefore, even when a variation in shape occurs in the corrugated tube 12, and even when the reaction force of the corrugated tube 12 is changed depending on the number of the wiring harnesses 14 housed in the corrugated tube 12, the rotation of the corrugated tube 12 relative to the corrugated clamp 22 can surely be controlled.例文帳に追加

このため、コルゲートチューブ１２に形状バラツキが生じる場合や、コルゲートチューブ１２内に収容されたワイヤハーネス１４の本数によってコルゲートチューブ１２の反力が変化する場合でも、コルゲートクランプ２２に対するコルゲートチューブ１２の回転を確実に規制することができる。 - 特許庁

In the construction comprising a lamp to radiate UV light and a tube to pass the gas to be ozonized in order to ozonize oxygen by photochemical reaction, the arrangement and material of the tube allow the tube to receive the UV light radiated by the lamp and the inside of the tube is separated from the electrode of the lamp.例文帳に追加

光化学反応によって酸素をオゾン化するために、紫外線を放射するランプと、オゾン化の対象気体を導通する管とを備えた構成において、管の配置及び材質を、ランプから放射される紫外線を受光可能とすると共に、管の内部を、ランプの電極と離隔する。 - 特許庁

In a reaction tube 2 the internal pressure of which is reduced to a prescribed degree of vacuum, film formation is performed on the surfaces of wafers at a prescribed processing temperature by introducing an N2O gas and an SiH2Cl2 gas into the tube 2.例文帳に追加

所定の真空度に減圧された反応管２内において、Ｎ2ＯガスとＳｉＨ2Ｃｌ2ガスとを導入して所定のプロセス温度にてウエハ表面に成膜を行う。 - 特許庁

To provide an exhaust gas treatment system capable of preventing the generation of chemical reaction caused during a replacement work of a medicament tube, the medicament tube and a maintenance method of the exhaust gas treatment system.例文帳に追加

薬剤筒の交換作業の際に生じる化学反応の発生を避けることができる排ガス処理装置、薬剤筒及び排ガス処理装置のメンテナンス方法を提供する。 - 特許庁

An impurity diffusion device is constituted into a structure, wherein carrier gas containing impurities for diffusion, which is passed through an impurity bubbler 27, is introduced in a reaction tube 22 of a vertical type diffusion furnace 21 through a nozzle 26 provided in the upper part of the tube 22.例文帳に追加

縦型拡散炉２１の反応管２２内には、上部に設けられるノズル２６から、不純物バブラ２７を通過して拡散用の不純物を含むキャリアガスが導入される。 - 特許庁

When the inside of the reaction tube 2 is heated at 400°C, the controller 100 activates chlorine contained in processing gas including chlorine supplied from a processing gas introducing tube 17.例文帳に追加

反応管２内が４００℃に加熱されると、制御部１００は、処理ガス導入管１７から、塩素を含む処理ガスを供給することにより処理ガスに含まれる塩素を活性化させる。 - 特許庁

The reaction tube for a microreactor includes a titanium or titanium alloy layer 2, on the internal surface of an iron alloy or nickel alloy tube 1, and a laminated catalyst metal layer 3 as the uppermost layer.例文帳に追加

鉄合金またはニッケル合金チューブ１の内面に、チタンまたはチタン合金層２を有し、最上層として触媒金属層３を積層してなるマイクロリアクター用反応管。 - 特許庁

This spindle includes a fastening element generating a fastening force in an axial direction on the inner tube and generating a reaction force against the fastening force on the outer tube at least together with the connection means.例文帳に追加

結合手段が少なくとも一緒に、軸方向の緊締力を内管に生ぜしめかつ該緊締力と抗して作用する反力を外管に生ぜしめる緊締エレメントを有していること。 - 特許庁

When a percussion is applied, a tube body 41 is pressed from the head 12, a skirt part 47 flexes, and a proper reaction force is generated through shrinkage of a column body 45 and flection of the tube body 41 to obtain damping effect.例文帳に追加

打撃時には、ヘッド１２からチューブ体４１が押圧され、スカート部４７の撓み、柱体４５の縮み及びチューブ体４１の撓みによって、適当な反力が発生して防振される。 - 特許庁

After the support device 30 is inserted into the reaction tube 42, first, the preset temperature of T5 is increased to be equal to that of T4 (T5=T4<T3<T2<T1).例文帳に追加

反応管４２内に支持具３０を挿入後、まずＴ５の設定温度を上昇させ、Ｔ４と等しくする（Ｔ５＝Ｔ４＜Ｔ３＜Ｔ２＜Ｔ１）。 - 特許庁

A thermocouple or the like is inserted from the opening portion A1 to measure the internal temperature of the reaction tube 1.例文帳に追加

そして、開口部Ａ１から熱電対などを挿入して反応室１の内部温度を測定できるように構成されている。 - 特許庁

Subsequently, gas is supplied from a nozzle 21 to the plurality of wafers W in the reaction tube 12 thus depositing a thin film on the wafers W.例文帳に追加

円筒反応管１２内の複数のウェーハＷにノズル２１からガスを供給してウェーハＷに薄膜を堆積する。 - 特許庁

In the downstream of the substrate 122, a convection preventing member 150 shields at least the outside of the interior of the reaction tube 110.例文帳に追加

基板１２２の下流で反応管１１０の内部の少なくとも外側を対流防止部材１５０が遮蔽している。 - 特許庁

To provide a temperature sensing tube for an expansion valve in which a hunting can be prevented by slowing of a temperature reaction rate of an expansion valve.例文帳に追加

膨張弁の温度反応速度を遅くしてハンチングを防止することができる膨張弁用感温筒を提供する。 - 特許庁

To provide a fuel cell equipped with a tube type fuel cell module capable of enhancing the supply efficiency of reaction gas.例文帳に追加

反応ガスの供給効率を向上させることが可能な、チューブ型燃料電池モジュールを備える燃料電池を提供する。 - 特許庁

While the gaseous starting material is introduced into a main reaction tube part 21B, it is compressed by shockwave caused by the detonation.例文帳に追加

一方，主反応管部２１Ｂには，原料ガスが供給され，その原料ガスがデトネーションの衝撃波により圧縮される。 - 特許庁

A CVD (chemical vapor deposition) reactor is provided with a reaction chamber, a gas tube heater, a substrate holder, a holder heater, a plurality of hot filaments, an electric field generator, and a magnetic field generator.例文帳に追加

主にチャンバー、気体管路加熱器、基材キャリア、キャリア加熱器、複数のホットフィラメント、電場装置、磁場装置を含む。 - 特許庁

First, diisopropylaminosilane is supplied into a reaction tube 2 under room temperature to permit Si to adsorb on the surface of semiconductor wafer W.例文帳に追加

まず、室温下の反応管２内にジイソプロピルアミノシランを供給し、半導体ウエハＷの表面にＳｉを吸着させる。 - 特許庁

Carrier gas and Trimethylantimony (CH_3)_3Sb are introduced to a quartz reaction tube 10 through a gas introduction pipe 30a.例文帳に追加

石英反応管１０には、ガス導入パイプ３０ａを介して、キャリアガス（Carrier Gas）とトリメチルアンチモン（Trimethylantimony：（ＣＨ_３）_３Ｓｂ）が導入される。 - 特許庁

The space between the ozone reaction tank 15 and the acid generation tank 12 is provided with a return tube 31 having a return pump 19a.例文帳に追加

オゾン反応槽１５と酸生成槽１２との間に、返送ポンプ１９ａを有する返送管３１が設けられている。 - 特許庁

Next, an oxidation step of oxidizing silicofluoride which is deposited inside the apparatus is performed by supplying oxygen radical in the reaction tube 2.例文帳に追加

次に、反応管２に酸素ラジカルを供給して装置内部に付着した珪フッ化物を酸化する酸化工程を実行する。 - 特許庁

Next, a hydrogen radical is supplied into the reaction tube 2 to react it with the reactant to remove chlorine contained in the reactant.例文帳に追加

次に、反応管２内に水素ラジカルを供給してこの反応物と反応させ、反応物に含まれる塩素を除去する。 - 特許庁

CATALYTIC COMBUSTION REACTOR INCLUDING TUBE BUNDLE FOR HEAT EXCHANGER, CATALYTIC STRUCTURE AND CATALYTIC COMBUSTION REACTION METHOD USING THEM例文帳に追加

熱交換器の管束を内蔵した触媒燃焼反応器、触媒構造体及びこれらを用いた触媒燃焼反応方法 - 特許庁

Oxygen is supplied from a gas source 4 into the reaction tube 2, and a mixed gas is plasma gasified by a microwave from a microwave generator 5.例文帳に追加

酸素をガス源４から反応管２に供給し、マイクロ波発振器５からのマイクロ波により混合ガスをプラズマ化する。 - 特許庁

The apparatus also has one reaction tube 26 so as to linearly pass through the gasification section 22, the reduction section 23 and the cooling section 24.例文帳に追加

また、気化部２２、還元部２３及び冷却部２４を直線的に挿通するように、１本の反応管２６を設ける。 - 特許庁

Further, the addition of a heating means to an electrical discharge tube 22 allows the reaction products to be heated and evaporated to rapidly eliminate them.例文帳に追加

また、放電管２２に加熱手段を付加することにより、反応生成物を加熱・蒸発させて迅速に除去できる。 - 特許庁

First, the helium gas is led into the reaction tube, and a high-frequency power supply 50 is turned on to start the generation of plasma, and then, after the generation is stabilized, the introduction of an argon gas is stopped and oxygen is led.例文帳に追加

アルゴンガスによるプラズマが安定したならば、ヘリウムガスの導入を停止し、それから、酸素ガスを導入する。 - 特許庁

The nucleic acid amplification reactor includes a reaction region formed in a thin-tube shape as a nucleic acid amplification reaction site, a temperature controlling means for heating the reaction region, an irradiating means for irradiating light from one end of the reaction region into the lumen and a detecting means for detecting the quantity of the light emitted from the other end of the reaction region.例文帳に追加

核酸増幅反応の反応場となる細管形状に形成された反応領域と、反応領域を加熱する温度制御手段と、反応領域の一端から管腔内に光を照射する照射手段と、反応領域の他端から出射する前記光の光量を検出する検出手段と、を備える核酸増幅反応装置。 - 特許庁

A reaction container 1 made from a quartz raw material is equipped with a spiral capillary tube flow path 2 in the reaction container and a sample introducing opening 3, and the reaction container 1 is inserted and set in a holder so as to be able to perform heating setting.例文帳に追加

石英素材の反応容器１と、その反応容器内において螺旋状である毛細管流路２と、試料導入口３で反応容器が構成され、反応容器１は、加温設定できるように、ホルダーに挿入設置されている。 - 特許庁

The carrier gas having the material solution dispersed therein, which comprises a liquid or powder, is supplied to a spiral reaction tube 103 from the upstream side, and the carrier gas having the material solution dispersed therein, which passes the inside of the reaction tube 103, is vaporized by radiant heat from a heater 104.例文帳に追加

螺旋状の反応管１０３に液体若しくは粉体からなる原料溶液を分散したキャリアガスが上流側から供給され、反応管１０３内を通過する原料溶液を分散したキャリアガスがヒータ１０４の輻射熱により気化される。 - 特許庁

The carrier gases resulting from diffusing the raw material solution composed of a liquid or powder are supplied from the upstream side to a helical reaction tube 103, and the carrier gases resulting from diffusing the raw material solution passing inside the reaction tube 103 are vaporized by the radiation heat of a heater 104.例文帳に追加

螺旋状の反応管１０３に液体若しくは粉体からなる原料溶液を分散したキャリアガスが上流側から供給され、反応管１０３内を通過する原料溶液を分散したキャリアガスがヒータ１０４の輻射熱により気化される。 - 特許庁

The vapor growth equipment has a constitution where an interval between a susceptor and a reaction tube wall part facing the susceptor is narrower than an interval in the vertical direction in a reaction tube wall between a gas supplying pot of a material gas inlet part and the upper stream side end portion of a material gas channel of the susceptor.例文帳に追加

サセプタとこれに対向する反応管壁部の間隙が、原料ガス導入部のガス供給口とサセプタの原料ガス流路上流側端部の間の反応管壁における垂直方向の間隙より狭い構成の気相成長装置とする。 - 特許庁

By filling the reaction tube 20 with water through the injection pipe 66 while sealing the lower end of the reaction tube 20 with the sealing plate 62, calcium chloride, calcium iodide and the like are dissolved into water thanks to their water solubilities and are discharged through the discharge pipe 68 to outside.例文帳に追加

反応管２０の下端を封止板６２により封止して、反応管２０内に注入管６６を介して水を充填すると、塩化カルシウム、臭化カルシウム等が水溶性であるため水に溶け、これらが排出管６８から外部に排出される。 - 特許庁

A heat treatment apparatus 1 includes a reaction tube 2, being supplied with hexachlorodisilane and ammonia to form a silicon nitride film on the semiconductor wafer 10, an exhaust pipe 16 connected to the reaction tube 2, and a control unit 21 for controlling each part of the heat treatment apparatus 1.例文帳に追加

熱処理装置１はヘキサクロロジシラン及びアンモニアを供給して半導体ウエハ１０にシリコン窒化膜を形成する反応管２と、反応管２に接続された排気管１６と、熱処理装置１の各部を制御する制御部２１とを備えている。 - 特許庁