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「reaction-tube」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索
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reaction-tubeの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 973



例文

The device for producing a semiconductor comprises a reaction tube 31, a susceptor 11 for supporting a substrate disposed in the reaction tube, an adapter 35 for supporting the susceptor 11 and moving it up and down, and a substrate carrying robot having a susceptor replacing tweezer 28 for transferring the substrate onto the susceptor 11.例文帳に追加

半導体製造装置は、反応管31と、反応管内に設けられ基板を支持するサセプタ11と、サセプタ11を支持し且つ上下動させるアダプタ35と、基板をサセプタ11上に移載するサセプタ交換用ツィーザ28を有する基板搬送ロボットとを備える。 - 特許庁

The water treatment apparatus is equipped with spiral blades having spiral blade elements, and the water to be treated flowing into a reaction tube by a pump and the air introduced into the reaction tube by an air introducing part flow toward a discharge pipe along the stirring blades while stirred.例文帳に追加

本発明の水処理装置は、螺旋状の羽根体を有する螺旋羽根を備えることで、ポンプによって反応管内に流入した被処理水と気体導入部によって反応管内に導入された気体とが、撹拌されながらその螺旋羽根に沿って排出管に向かって流れる。 - 特許庁

The rotational driving source 5 is hung down from a boom 1a for a crane 1, a connecting reinforcing member 3 of a narrow cylindrical body provided along the casing tube 2 is locked with a reaction force stopper 6 set on the ground to support the external form of the casing tube 2, and reaction force applied to the auger device 4 is received.例文帳に追加

この回転駆動源5をクレーン1のブーム1aから吊下げ、ケーシングチューブ2に沿って設けられた細い円筒体の連結補強部材3を、地上に設置した反力止め6で係合するようにしてケーシングチューブ2の外形を支持し、オーガ装置4に係る反力を受ける。 - 特許庁

In this blank baking method of the heat treatment furnace having a reaction tube, oxidizing gas is supplied to the reaction tube of the heat treatment furnace to perform first heat treatment at 900 to 1350°C, and then, non-oxidized gas is supplied thereto to perform second heat treatment at 900 to 1350°C.例文帳に追加

反応管を有する熱処理炉の空焼き方法であって、熱処理炉の反応管内に酸化性ガスを導入して900〜1350℃の温度で第1の熱処理をした後、非酸化性ガスを導入して900〜1350℃の温度で第2の熱処理をするようにした。 - 特許庁

例文

The column attachment knee airbag device has a knee airbag module 14 using a flexible module case 44; and a reaction force member 16 extending between the module case 44 and a column tube 22 so as to allow the contraction action of the column tube 22 and causing the reaction force of the knee airbag 46 at an initial stage of deployment.例文帳に追加

可撓性のあるモジュールケース44を用いたニーエアバッグモジュール14と、コラムチューブ22の収縮動作を許容するようにモジュールケース44とコラムチューブ22との間に延び、ニーエアバッグ46の展開初期反力を生じさせる反力部材16を有している。 - 特許庁


例文

The pressure in the discharge tube 4 is adjusted to be almost as high as the in-furnace pressure of the reaction pipe 1 so that the active seed generated by the discharge tube 4 almost has a lifetime which is sufficiently long to reach the whole of the substrate W in the reaction pipe 1 in an active state.例文帳に追加

放電管4の管内圧力は、放電管4で生成した活性種が、活性な状態のまま反応管1の基板Wの全体に行き届く程度のライフタイムを有することとなるように、反応管1の炉内圧力と同程度に低圧に調整される。 - 特許庁

A push bolt 62 is screwed into a screw hole 68b provided in the furnace throat flange 68, and by turning the push bolt 62, a tip end 62a of the push bolt 68 rises to push up the reaction tube 52 by the tip end 62a, and the reaction tube 52 separates from the lower vessel 56.例文帳に追加

炉口フランジ68に設けられたネジ孔68bに、下側からプッシュボルト62が螺合されていて、このプッシュボルト62を回転させることで、プッシュボルト68の先端部62aが上昇し、先端部62aで反応管52が押し上げられ、反応管52が下側容器56から離間する。 - 特許庁

In this vapor growing method, a gas which contains raw gas is introduced to a substrate 2 from an actually parallel gas inlet part 5, the gas, which does not contain raw gas, is introduced from the ventilating microscopic porous member 7 arranged on the wall of the reaction tube 1 counterposing in parallel to the substrate 2, and the contamination on the wall of the reaction tube is prevented.例文帳に追加

基板2に実質的に平行なガス導入部5から原料ガスを含むガスを導入し、基板と平行に対向する反応管1壁に配置された通気性を有する微多孔質部材から原料を含まないガスを導入することにより、反応管壁の汚染を防止する。 - 特許庁

In a shell-and-tube reactor which has a reaction tube packed with a catalyst and in which a heating medium is circulated as fluid outside a tube, gas is introduced to the reactor so that a catalytic layer is made to have ≤40% relative humidity and the reactor is heated and started.例文帳に追加

触媒を充填した反応管を有し、管外流体に熱媒を循環させるシェルアンドチューブ式反応器において、該触媒層が相対湿度40%以下になるようにガスを導入して昇温し該反応器をスタートアップすることを特徴とする。 - 特許庁

例文

To provide an electrode for a cold-cathode fluorescent tube and a cold-cathode fluorescent tube using it, endowed with excellent sputtering resistance and processibility, and capable of realizing mercury reduction as environment measures by lowering tube voltage and restraining reaction with the mercury.例文帳に追加

優れた耐スパッタ性及び加工性を備え、管電圧を低くするとともに、水銀との反応を抑制して環境対策としての低水銀化を実現することができる冷陰極蛍光管用電極及びそれを用いた冷陰極蛍光管を提供する。 - 特許庁

例文

This lamp is provided with a discharge tube 20 made of a material showing reaction resistance to sodium at a high temperature, both of first main electrodes located at both end parts facing each other within the discharge tube 20 and an envelope 11 filled with nitrogen to be a contour surrounding the discharge tube 20.例文帳に追加

高温でナトリウムに耐反応性を示す材料からなる放電管20と、この放電管20内の向かい合う両端部に位置する両第一主電極と、放電管20を取り囲む外郭であって窒素が封入されたエンベロープ11とを備える。 - 特許庁

To provide a reactor reducing a temperature difference in the reactor even when a length of a reaction tube is increased more than a conventional one.例文帳に追加

従来より反応管の長さを長くした場合でも、反応炉内の温度差を小さくすることができる反応炉を提供することにある。 - 特許庁

To provide a blank baking method of a heat treatment furnace whereby metallic contamination in a reaction tube of a heat treatment furnace can be reduced in an efficient and sufficient manner.例文帳に追加

熱処理炉の反応管の金属汚染を効率良く、かつ十分に低減することのできる熱処理炉の空焼き方法を提供する。 - 特許庁

The cleaning gas supply pipe 10 is formed at a position facing a position where the exhaust ports 3a at a lower portion of the reaction tube 2 are provided.例文帳に追加

また、クリーニングガス供給管10は、反応管2の下部の排気口3aが設けられた位置と対向する位置に形成されている。 - 特許庁

The Si partial pressure in a reaction tube 2 during film deposition is controlled by utilizing the fact that the vapor pressure of the Si material 5 is changed when it is heated.例文帳に追加

Si材料5は加熱によってその蒸気圧が変化するため、それによって成膜中の反応管2内のSi分圧を制御する。 - 特許庁

Thereby, the reaction gas remaining in the conduit tube 14 is sucked by a pressure difference into the vacuum chamber 10 having a highly vacuum to be removed.例文帳に追加

これにより、導管14内に残留する反応ガス等が差圧により高真空である真空チェンバ10内部に吸引・排除される。 - 特許庁

To provide a semiconductor heat treatment device with which the temperature of heat treatment can be constantly maintained both in heightwise direction and horizontal direction of a reaction tube.例文帳に追加

反応管内の高さ方向でも水平方向でも熱処理の温度を一定に保持できる半導体熱処理装置を提供する。 - 特許庁

The apparatus for purifying hydrogen is provided with a reaction tube filled with a carbon monoxide conversion catalyst inside a cylinder formed of a palladium alloy membrane.例文帳に追加

パラジウム合金膜で形成された筒体の内側に一酸化炭素変成触媒が充填された反応管を備えて成る水素精製装置。 - 特許庁

By introducing the heated gas to the reaction tube beforehand, the resolidification of the heat medium after its circulation can be prevented, which realizes quick start-up.例文帳に追加

予め反応管に昇温ガスを導入することで、熱媒循環後の熱媒の再凝固を防止し、迅速にスタートアップ達成できる。 - 特許庁

(3) The pitch formed by the spiral is within a range between 1 to 8 times the inner diameter of the reaction tube, and the spiral rotation always has the same direction.例文帳に追加

(3)螺旋が形成するピッチは、反応管の内径に対して1〜8倍の範囲にあり、螺旋の回転は常に同一方向である。 - 特許庁

Next, an oxygen radical is supplied into the reaction tube 2 to oxidize the adsorbed DCS and form a silicon oxide film on the semiconductor wafer W thereafter.例文帳に追加

次に、反応管2内に酸素ラジカルを供給して、吸着したDCSを酸化させ、半導体ウエハWにシリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁

By applying an A.C. electric field between the pair of electrodes 3, 4, glow- like discharge is generated in the reaction tube 2 under the atmospheric pressure.例文帳に追加

一対の電極3、4の間に交流電界を印加することにより、大気圧下で反応管2内にグロー状の放電を発生させる。 - 特許庁

The gas heated at suitable temperature in a suitable source position in the reaction tube 23 forms uniform temperature distribution at a part in the vicinity of the processed substrate 21.例文帳に追加

反応管23内の好適位置で好適温度に加熱されたガスは、被処理基板21付近において均一な温度分布を形成する。 - 特許庁

When inserting a support device 30 with a substrate 54 placed thereon into a reaction tube 42, a preset temperature of each heater zone in a heater 46 is set to be T5<T4<T3<T2<T1.例文帳に追加

反応管42内に基板54が載置された支持具30を挿入時、ヒータ46の各ヒータゾーンの設定温度をT5<T4<T3<T2<T1とする。 - 特許庁

The amt. of the electrons to be irradiated is controlled to 90 to 110% of the total electric current to be fed to a reaction tube 5 at the time of forming the carbon protective film.例文帳に追加

電子の照射量は、カーボン保護膜を成膜する際に反応管に供給される総電流の90〜110%とする。 - 特許庁

To provide a tube-type reaction apparatus which is compact in composition, is sufficient in energy efficiency and can correctly controll feed energy.例文帳に追加

コンパクトな構成で、エネルギ効率が良く、供給エネルギを正確に制御可能とすることができるチューブ型反応装置を提供すること。 - 特許庁

The adapter 35 is lowered furthermore and the susceptor 11 is freed from the adapter 35 and then the susceptor 11 is drawn out from the reaction tube 31 along with the susceptor 11.例文帳に追加

アダプタ11をさらに降下させてサセプタ11をアダプタ35からフリーにし、ツィーザ28ごとサセプタ11を反応管31内から抜き取る。 - 特許庁

The brazing is performed by brazing filler metal produced by reaction of K_2SiF_6 and Al component of the tube by brazing heating by using these members.例文帳に追加

これら部材を用いてろう付け加熱によってK_2SiF_6とチューブのAl成分との反応により生成されるろうにより、ろう付けする。 - 特許庁

Then, an oxide removal step of removing the oxidized silicofluoride is performed by supplying the cleaning gas containing the hydrogen fluoride in the reaction tube 2.例文帳に追加

続いて、反応管2にフッ化水素を含むクリーニングガスを供給して酸化された珪フッ化物を除去する酸化物除去工程を実行する。 - 特許庁

In this way, the phosphorus on the surface of the film to be processed is previously removed by purposefully oxydizing in a reaction tube 1 before unloading a boat 6.例文帳に追加

このようにして、ボート6をアンロードする前に、反応管1内で被処理膜表面の燐を意図的に酸化させて予め除去する。 - 特許庁

The aqueous solution containing manganese ions is mixed with the water in a subcritical or supercritical state at the end portion of the entrance side of a reaction tube.例文帳に追加

マンガンイオンを含む水溶液と亜臨界状態または超臨界状態の水とは、反応管の入口側の端部において混合される。 - 特許庁

To provide an apparatus for decomposing organic halogen compounds improved in durability by replacing a reaction tube having excellent corrosion resistance.例文帳に追加

耐食性に優れた反応管とすることで耐久性を向上させた有機ハロゲン化合物の分解装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a barrier coating for reducing or preventing a chemical reaction between a discharge medium and an arc tube, in a discharge lamp.例文帳に追加

放電ランプにおける放電媒体とアーク管との間の化学反応を低減しまたは防止するためのバリアコーティングを提供することにある。 - 特許庁

The internal temperature of the reaction tube 21 is raised to a value between 500°C and 900°C by means of a lamp alloy furnace 23 and maintained at the value for about 20 minutes.例文帳に追加

ランプアロイ炉23により反応管21の内部温度を500℃以上900℃以下の範囲内まで加熱し、20分程度保持する。 - 特許庁

A returning part 128 of the heated flow passage 32 is formed to return from inside the concave part 120 toward the outer circumference side of the reforming reaction tube 18.例文帳に追加

加熱流路32の折り返し部128は、凹部120の内側から改質反応筒18の外周側に向かって折り返されている。 - 特許庁

To provide an automatic analyzing method and device preventing soiling difficult to remove and keeping a reaction tube clear for a long time.例文帳に追加

落ち難い汚れを防ぐとともに、長期間にわたり反応管を清浄に保つような自動分析方法及び装置を提供することにある。 - 特許庁

In the case that the silicon carbide thin film is grown on the silicon carbide single crystal substrate 5 in an atmosphere free from oxygen in the quartz reaction tube 1, deterioration of the silicon carbide thin film is inhibited, because no oxidation reaction occurs.例文帳に追加

また、石英反応管1内で酸素を含まない雰囲気中で炭化珪素単結晶基板5上に炭化珪素薄膜を成長させる場合には酸化反応がないので、炭化珪素薄膜の劣化が防止される。 - 特許庁

To precisely know the inside pressure of a hydrothermal reaction vessel without being affected by a deposited solid substance, even if a pressure detection tube having a manometer at its upper end is thrusted into the hydrothermal reaction vessel.例文帳に追加

圧力計を上端に取付けた圧力検出管を水熱反応容器内に突入させても、析出した固形物の影響を受けることなく器内の圧力を正確に知ることができるようにする。 - 特許庁

To provide a method for cleaning the inside of a reaction container that restrains damage to a quartz reaction tube and wafer boat and reduces the running cost, when the inside of a reaction vessel is cleaned after deposition of poly-silicon or titanium nitride using a vertical heat treatment equipment for example.例文帳に追加

例えば縦型熱処理装置を用いてポリシリコン膜やチタンナイトライド膜の成膜を行った後、反応容器内をクリーニングするにあたって、石英製の反応管やウエハボートの損傷を抑え、しかもランニングコストの削減を図ることのできる方法を提供すること。 - 特許庁

In addition, an reaction gas supply tube 3, in which a reaction gas supply passage 5 is formed to supply to a clearance between the rotary electrode 1 and substrate S a reaction gas for generating a plasma by a voltage applied from a high-frequency power supply 2, is provided in the cavity 1d of the rotary electrode 1.例文帳に追加

そして、この回転電極1の空洞部1dには、高周波電源2から印加される電圧によってプラズマを発生させる反応ガスを、回転電極1と基板Sとの間隙に供給する反応ガス供給路5が形成された反応ガス供給管3が設けられている - 特許庁

An antimonous oxide d is placed in a hermetic heating tube 3 and is heated by a second heater 4, provided outside an outer periphery of the heating tube 3a, to produce a sublimation gas (reaction gas) of the antimonous oxide d.例文帳に追加

密閉可能な加熱チューブ3内に三酸化アンチモンdを置いて、その加熱チューブ3の外周外方に設けた第2のヒータ4により加熱することで上記三酸化アンチモンdの昇華ガス(反応ガス)を生成する。 - 特許庁

The reaction liquid is pumped to the teflon tube 3, inserted in an inner pipe of an NMR probe 8 through a low-temperature air path of the low-temperature box 5 to pass a detection part 9, while being held in the teflon tube 3 at the low temperature.例文帳に追加

反応液は、テフロンチューブ3の中で、低温に保持されたまま、低温ボックス5の低温空気路を経由して、NMRプローブ8の内管に通したテフロンチューブ3に送液され検出部9を通過する。 - 特許庁

This problem can be solved, because a spring is mounted within the outer sleeve tube and when the operation rod comes into contact with the bottom of the outer sleeve tube, the compressed spring releases in reaction to it and pushes up the operation rod.例文帳に追加

外套管の中にバネを装着し操作用ロッドが、外套管の底に当たった時、その反動で縮まったバネが、伸びることによって操作用ロッドが上がってくる仕組みなので、この課題を解決するものである。 - 特許庁

The control unit 100 of a heat treatment device 1 heats the inside of a reaction tube 2 to 400 to 700°C, and removes a sticking matter by supplying cleaning gas comprising fluorine and hydrogen fluoride from a treatment gas introduction tube 17.例文帳に追加

熱処理装置1の制御部100は、反応管2内を400℃〜700℃に加熱するとともに、処理ガス導入管17からフッ素とフッ化水素とを含むクリーニングガスを供給して付着物を除去する。 - 特許庁

While evacuating through the bypass tube 65 with the sub valve SSV open, a wafer boat 14 is loaded to / unloaded from a reaction tube 11, to prevent sublimation gases and particles as by-product materials from being adsorbed to a semiconductor substrate 15.例文帳に追加

このサブバルブSSVを開いて、サブバイパス管65で排気しながら、ウエハボート14を反応管11にロード又はアンロードし、反応副生成物の昇華ガスやパーティクルの半導体基板15への吸着を防止する。 - 特許庁

The first gas supply passage 4 consists of an inner tube and an outer pipe, the tip extends to a semiconductor substrate 6 proximity, and enables it to supply the first reaction gas 25 to the inner tube while supplying a hydrogen gas to the outer pipe.例文帳に追加

第1のガス供給路4は、内管と外管とからなって、先端が半導体基板6近傍まで延び、外管に水素ガスを供給しながら、内管に第1の反応ガス25を供給できるようにする。 - 特許庁

Two reaction gas inlets 32 are provided so as to pinch the case 31 from both sides to be perpendicular to a cell face, and also, is equipped with an inlet side manifold 33 coupling two reaction gas inlets 32 at outside of the case 31, a reaction gas tube 34 supplying reaction gas pressured and transmitted from the turbocharger to the inlet side manifold 33 is connected.例文帳に追加

反応ガス吸入口32が、セル面に対して垂直でケース31を両側から挟み込むように2つ設けられると共に、2つの反応ガス吸入口32をケース31の外側で連結する吸入側マニホールド33を備え、該吸入側マニホールド33に過給機から圧送される反応ガスを供給する反応ガス管34が接続される。 - 特許庁

To optimize an atmospheric pressure vent condition by greatly reducing the pressure difference between the pressure in a reaction tube and actual atmospheric pressure when a semiconductor wafer is carried out.例文帳に追加

半導体ウエハの搬出の際に反応管内と実大気圧との圧力差を大幅に縮小させ、大気圧ベント条件を最適化する。 - 特許庁

To provide a cleaning equipment which accurately detects the occurrence of the clogging of a nozzle and minimizes a liquid overflowing reaction tube, and to provide an analyzer.例文帳に追加

ノズル詰まりの発生を的確に検出し、液体が溢れる反応管を最低限に抑えた洗浄装置および分析装置を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a method of improving productivity of a substrate by forcibly removing cracks and film peeling and preventing a reaction tube from generating any particles.例文帳に追加

クラックや膜剥がれを強制除去し、反応管をパーティクルが発生しない状態にすることで基板の生産性を向上できる手法を提供する。 - 特許庁




  
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