「reaction-tube」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目)

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例文

Furthermore, the vapor phase epitaxial growth device comprises a plurality of gas introduction tubes arranged sequentially in the height direction of the reaction tube at the gas introduction section of the reaction tube, and a switching device which switches the gas to be fed to each of the plurality of gas introduction tubes at the outside of the reaction tube.例文帳に追加

また、前記反応管の前記ガス導入部において、前記反応管の高さ方向において順次に配置されてなる複数のガス導入菅と、前記反応管の外部において、前記複数のガス導入管それぞれに供給すべきガスを切り替えるための切替装置とを具える。 - 特許庁

When a reaction tube 10 to be heated with a heater 13 is disposed upright on a furnace pot flange 20, and a boat 31 having a furnace port lid 32 is inserted in the reaction tube 10, a furnace port 16 of the furnace port flange 20 is closed by the furnace port lid 32, and the reaction tube 10 is closed tightly.例文帳に追加

縦型ＣＶＤ装置は、ヒータ１３により加熱される反応管１０を炉口フランジ２０上に立設し、反応管１０内に炉口蓋３２を有するボート３１を挿入したとき、炉口蓋３２により炉口フランジ２０の炉口１６が塞がれて反応管１０が密閉される。 - 特許庁

The reformer is equipped with a reaction tube 21 for producing a reformed gas Gh, which tube effects a reforming reaction of a raw material gas Gr by bringing it into contact with a reforming catalyst 44 and a heated gas flow passage 22 formed so as to enclose the circumference of the reaction tube by a liner 47, where the reaction tube is heated by passing a heated gas F through the heated gas flow passage.例文帳に追加

改質器は、改質触媒４４に接触させることで原料ガスＧｒに改質反応を生じさせて改質ガスＧｈを生成する反応管２１を備えるとともに、ライナ４７により反応管の周囲を囲むようにして形成された加熱ガス流路２２を備え、加熱ガス流路に加熱ガスＦを流すことで反応管を加熱できるようにされている。 - 特許庁

A cleaning method includes: a step for etching deposits including a thin film adhering to the inner wall of a reaction tube by supplying the etching gas into the reaction tube composed of a heat-resistant nonmetallic member after forming a thin film on a substrate; and a step for etching the surface of the inner wall of the reaction tube by supplying the etching gas into the reaction tube after etching the deposits.例文帳に追加

耐熱性非金属部材で構成された反応管内で基板上に薄膜を形成した後の反応管内にエッチングガスを供給して、反応管内壁に付着した薄膜を含む付着物をエッチングする工程と、付着物をエッチングした後の反応管内にエッチングガスを供給して、反応管内壁の表面をエッチングする工程と、を有する。 - 特許庁

例文

A space SP formed between an outer wall of the supply tube 24 and an inner wall of the reaction tube 12 is a flow path of the raw gas G2.例文帳に追加

供給管２４の外壁と反応管１２の内壁との間に形成される空間ＳＰは原料ガスＧ２の流路となる。 - 特許庁

例文

A plasma discharge tube (discharge tube) 11 is installed inside a reaction processing chamber 1, penetrating through the wall of the processing chamber 1.例文帳に追加

反応処理槽１内部に反応生成堆積物除去を目的としてプラズマ放電管（放電管）１１を壁面貫通設置する。 - 特許庁

Also this tubular structure 102 is preferably-used as a reactor tube of a multi-tube type reactor vessel utilized for a contact vapor phase oxidizing reaction.例文帳に追加

また、この管状体１０２は、接触気相酸化反応に使用する多管式反応器の反応管として好適に用いられる。 - 特許庁

Heat treatment equipment 1 is provided with a reaction tube 2 accommodating a semiconductor wafer 10, a heater 11 for rise of temperature which heats the reaction tube 2, a gas introducing tube 12 for supplying treating gas, and a control unit 19 for controlling them.例文帳に追加

熱処理装置１は、半導体ウエハ１０を収容する反応管２と、反応管２を加熱する昇温用ヒータ１１と、処理ガスを供給するガス導入管１２と、これらを制御する制御部１９とを備えている。 - 特許庁

Next, the control part 100 controls an MFC control part to supply nitrogen gas into the heated reaction tube 2 from a purge gas supply tube 18, whereby the inside of the reaction tube 2 is purged to remove water from the semiconductor wafer W.例文帳に追加

次に、制御部１００は、ＭＦＣ制御部を制御して、加熱された反応管２内にパージガス供給管１８から窒素ガスを供給することにより、反応管２内をパージして半導体ウエハＷからの水を除去する。 - 特許庁

例文

Subsequently, the control part 100 controls the heat-up heater 16 to heat the interior of the reaction tube 2 to a predetermined temperature and controls the MFC part to supply ethylene from a process gas introduction tube 17 to the interior of the heated reaction tube 2.例文帳に追加

続いて、制御部１００は、昇温用ヒータ１６を制御して、反応管２内を所定の温度に加熱し、ＭＦＣ制御部を制御して、加熱された反応管２内に処理ガス導入管１７からエチレンを供給する。 - 特許庁

例文

The control unit 19 makes the heater 11 heat the reaction tube 2, and makes the gas introducing tube 12 supply the treating gas to the reaction tube 2, at a flow rate which can cool the peripheral part of the semiconductor wafer 10.例文帳に追加

そして、制御部１９は昇温用ヒータ１１に反応管２を加熱させるとともに、ガス導入管１２に半導体ウエハ１０の周縁部を冷却可能な流量で、反応管２内に処理ガスを供給させる。 - 特許庁

The vapor phase epitaxial growth device comprises a reaction tube including a plurality of gas introduction sections and a plurality of gas reaction sections located below the plurality of gas introduction sections, and a susceptor which has a surface exposed to the interior of the gas reaction section of the reaction tube and mounting and fixing a substrate on the surface.例文帳に追加

実施形態の気相成長装置は、複数のガス導入部、及びこれら複数のガス導入部の下方に位置するガス反応部を含む反応管と、前記反応管の、前記ガス反応部の内部に表面が露出し、前記表面に基板を載置及び固定するためのサセプタとを具える。 - 特許庁

The vapor phase epitaxial growth device comprises a reaction tube including a gas introduction section and a gas reaction section provided so as to be continuous to the gas introduction section, and a susceptor which exposes the surface to the interior of the gas reaction section of the reaction tube and mounts and fixes a substrate on the surface.例文帳に追加

実施形態の気相成長装置は、ガス導入部、及びこのガス導入部と連続するようにして設けられたガス反応部を含む反応管と、前記反応管の、前記ガス反応部の内部に表面が露出し、前記表面に基板を載置及び固定するためのサセプタとを具える。 - 特許庁

Also, the vapor growing device uses the reaction tube.例文帳に追加

発明２の気相成長装置は、発明１の反応管を用いることを特徴とする者である。 - 特許庁

SIMPLE METHOD FOR MEASURING ANALYSIS SUBSTANCE, REACTION TUBE, AND KIT FOR SIMPLE METHOD FOR MEASURING ANALYSIS SUBSTANCE例文帳に追加

分析物質の簡易測定方法、反応管および分析物質の簡易測定のためのキット - 特許庁

The external reaction tube 11 is disposed upright via an O-ring 7 on the upper end of the metal flange 20.例文帳に追加

外部反応管１１は金属フランジ２０の上端にＯリング７を介して立設される。 - 特許庁

A cleaning gas introduction pipe 13 is inserted into a lower part of a reaction tube 2 of a heat treatment apparatus 1.例文帳に追加

熱処理装置１の反応管２の下部にはクリーニングガス導入管１３が挿通されている。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus which eliminates a cleaning operation in an outside reaction tube.例文帳に追加

外側反応管の洗浄作業を無くすことが可能な半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

This gene examination vessel comprises a sample charger, a reaction tube, a sample pad, a flow membrane and a water-absorbing pad.例文帳に追加

サンプルチャージャー、反応チューブ、サンプルパッド、フロー膜、吸水パッドを含む遺伝子検査容器容器。 - 特許庁

First, second and third electrodes 20, 30 and 40 are provided surrounding a reaction tube 10.例文帳に追加

反応管１０に第１、２、３電極２０、３０、４０が反応管を周囲して配設されている。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE, REACTION TUBE THEREFOR, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体製造装置用反応管、半導体製造装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

Thus, the contaminant contained in a quartz forming the reaction tube 2 can be purged out.例文帳に追加

これにより、反応管２を構成する石英中に含まれる汚染物質がパージアウトされる。 - 特許庁

The inside of the inner tube 1a is used as a reaction space 2, into which the liquid is introduced.例文帳に追加

内管１ａの内側を反応空間２として、この反応空間２に液体を導入する。 - 特許庁

After heating and cooling the reaction vessel 1, a heat exchange object in the reaction vessel 1 can be dried by sucking the inside of the reaction vessel 1 via the communicating tube 14.例文帳に追加

反応釜１を加熱・冷却した後に、連通管１４を介して反応釜１内を吸引することによって、反応釜１内の被熱交換物を乾燥することができる。 - 特許庁

The reaction tubes of the reaction section and the detectors of the detecting section are installed in a hermetically-sealed condition, and each set of reaction tube and the corresponding detector is made up in a continuous cylindrical structure.例文帳に追加

反応部の反応管および検出部の検出器は互いに密閉状態で取り付けられ、反応管およびそれに対応する検出器は連続した筒状構造を構成する。 - 特許庁

A vessel 27 filled with a Ni powder 28 is placed in a reaction part 23 of a reaction tube 21, and a nozzle 24 is inserted into the Ni powder 28.例文帳に追加

反応管２１の反応部２３にＮｉ粉末２８が充填された容器２７を配置し、Ｎｉ粉末２８中にノズル２４を差し込む。 - 特許庁

This mixed solution 4, based on a reaction coil 5, is implemented in a fluoroplastic tube by a reaction coil 5, and a detector 6 measures the light transmittance.例文帳に追加

この混合溶液４を反応コイル５のもとに弗素樹脂チュ−ブ内で発色反応させ、検出器６で光透過率を測定する。 - 特許庁

A dispensing mechanism control unit 13 controls a probe, an arm, and a reaction disk to make the probe dispense a solution to a reaction tube.例文帳に追加

分注機構制御部１３は、プローブとアームと反応ディスクとを制御して、反応管に対してプローブに溶液の分注を行なわせる。 - 特許庁

To surely find out a reaction tube of which the pressure loss is out of an allowable range, from among a number of reaction tubes in a short time and a little efforts.例文帳に追加

短時間かつ少ない労力で、多数本の反応管のなかから、圧力損失が許容範囲外となる反応管を確実に見出す。 - 特許庁

To avoid the effects of reaction force by absorbing the reaction through thermal elongation of a tube in an air cooling device side in a support structure of the air-cooling device.例文帳に追加

空気冷却器の支持構造に関し、配管の熱伸びによる反力を空気冷却器側で吸収し、反力の影響を避ける。 - 特許庁

A reaction tube 12 includes a fine particle self-flocculation reaction region S1, a particle size increasing and adjusting region S2 and a classification region S3, and the fluid (solution to be treated) supplied to the reaction tube 12 is adjusted in pH value corresponding to a component to be separated.例文帳に追加

反応管１２は、微小粒子自己凝集反応域Ｓ１、粗大化整粒域Ｓ２、分級域Ｓ３を備えており、反応管１２に供給される流体（被処理液）は、分離させる成分に応じてｐＨ値が調整される。 - 特許庁

The falling part 33 of a coil antenna 23 is brought close to the outer circumference of a reaction tube 14 in order to establish capacitive coupling and the coil antenna 23 is made to turn along the outer circumference of the reaction tube 14.例文帳に追加

コイルアンテナ２３の立下り部分３３を反応管１４外周に近づけて容量性結合を持たせ、該コイルアンテナ２３を反応管１４外周に沿って回動させるようにした。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 10 includes a reaction tube 52 having a downward opening 54 and a lower vessel 56 for occuluding the opening 54 while supporting the reaction tube 52 from a lower side in the direction of gravity.例文帳に追加

基板処理装置１０は、下向きの開放部５４か形成された反応管５２と、この反応管５２を重力方向下側から支持しつつ、開放部５４を塞ぐ下側容器５６とを有する。 - 特許庁

To assure airtightness between a reaction tube and a manifold without inserting an additional buffer even when the thickness of a flange in a reaction tube is reduced by chemical cleaning in a vertical type wafer processing apparatus.例文帳に追加

縦型ウエハ処理装置において、反応管のフランジの厚みが薬液洗浄により減少した場合であっても、追加で緩衝材を挿入することなく、反応管とマニホールドの気密性を確保する。 - 特許庁

When the catalyst 5 in each reaction tube 2 is pulverized owing to a long-hour operation to decrease the packing quantity, the packed auxiliary 6 falls down into the reaction tube 2 and compensates for the volume reduction portion of the catalyst 5.例文帳に追加

長時間運転で各反応管２内の触媒５が粉化して充填量が減少すると、充填補助物６が反応管２内に落ち込んで触媒５の体積減少分を補填する。 - 特許庁

The heater element 18 is inserted in the O-ring 19 in the hole 16a, maintaining a prescribed interval from the reaction tube 2, thereby being arranged between the thermal insulation body 15 and the reaction tube 2.例文帳に追加

そして、ヒータエレメント１８は、反応管２と所定の間隔を有するように孔１６ａ内のＯリング１９に挿嵌することにより、断熱体１５と反応管２との間に配置されている。 - 特許庁

The heat treating system 1 comprises a pipe 13 for introducing a treating gas into a reaction tube 2, a pipe 17 for exhausting gas in the reaction tube 2, and a control section 21 therefor.例文帳に追加

熱処理装置１は、反応管２内に処理ガスを導入する処理ガス導入管１３と、反応管２内のガスを排気する排気管１７と、これらを制御する制御部２１とを備えている。 - 特許庁

To provide a technique for surely specifying a reaction tube, which is detected to be packed faultily with a solid packing material, of a multitubular reactor and withdrawing the packed solid packing material certainly from the specified reaction tube.例文帳に追加

本発明は、多管式反応器において、固形充填物の不良充填が検知された反応管を確実に特定し、該反応管より間違いなく固形充填物を抜き出す技術を提供する。 - 特許庁

In the reactor, the distance between the reaction tube 1 and the selective permeation membrane 5 in the inside of the reaction tube 1 is gradually narrowed from the inlet 9 toward the outlet 10.例文帳に追加

この選択透過膜型反応器においては、反応管１と、その内部の選択透過膜５との間隔が、入口９から出口１０に向かうに従って徐々に小さくなるような構造となっている。 - 特許庁

To improve a quality of an artificial zeolite by effectively stirring a slurry moving inside a screw reaction tube while inhibiting its precipitation and coagulation onto an inner wall of the screw reaction tube.例文帳に追加

スクリュー反応管の内部を移動するスラリーを、スクリュー反応管の内壁への沈殿凝固を防ぎながら効果的に撹拌させることで、生成される人工ゼオライトの品質を向上させることができる。 - 特許庁

As the tube 31 is bent downward in the vicinity of the vent 30, the impurities do not flow backward from the vent 30 to the interior of the tube 22 even though the impurities are liquefied in the interior of the reaction tube 22.例文帳に追加

排気管３１は、排気口３０の近傍で下方に曲がっているので、内部で不純物が液化しても、排気口３０から反応管２２内へは逆流しない。 - 特許庁

A metallic flange retainer 29 that is fitted detachably to a metal tube 7 is provided to press the upper face of the flange 1a of a reaction tube 1 to the side of the metal tube 7.例文帳に追加

反応管１のフランジ１ａの上面を金属管７側に付勢するために金属管７に着脱可能に取り付けられた金属製のフランジ押え部２９を備えている。 - 特許庁

For adjusting the pressure in the discharge tube 4 to pressure nearly as low as the in-furnace pressure of the reaction pipe 1, a straight discharge tube is used preferably which has the same inside diameter extending along its tube axis.例文帳に追加

放電管４の管内圧力を炉内圧力と同程度に低圧に調整するには、管軸方向にわたって内径が同一のストレート放電管を用いるとよい。 - 特許庁

To proceed a sufficient cristallizing reaction even in a draft tube by making a large quantity of crystal seeds present in the draft tube in a crystallizer where the draft tube for circulation of the crystal seeds is installed in a reaction crystallizer and a crystallizing method.例文帳に追加

結晶種循環用のドラフト管が反応晶析槽内に設けられている晶析装置及び晶析方法において、ドラフト管内に結晶種を多量に存在させ、ドラフト管内でも十分な晶析反応を進行させることを目的とする。 - 特許庁

The apparatus 10 for producing acetylene to generate the acetylene gas by hydrolysis reaction of calcium carbide and water includes: a reaction tube 1 filled up with calcium carbide 1a, a conduit tube 2 having a supplying port 2a provided to one end side 1A of the reaction tube 1 for supplying water, and the outlet 3a of generated gas provided to the other end side 1B of the reaction tube 1.例文帳に追加

炭化カルシウムと水との加水分解反応によりアセチレンガスを発生させるアセチレンの製造装置であって、炭化カルシウム１ａを充填した反応管１と、反応管１の一端側１Ａに供給口２ａが設けられた水を供給するための導管２と、反応管１の他端側１Ｂに設けられた生成ガスの取り出し口３ａと、を備えることを特徴とするアセチレンの製造装置１０を選択する。 - 特許庁

A microreactor module 1 comprises: a high temperature reaction part 4 having reformers 506, 510 and a combustor 508; a low temperature reaction part 6 having a carbon monoxide remover 512; a connection tube 8 constructed between the high temperature reaction part 4 and the low temperature reaction part 6; and an external circulation tube 10 connected to the lower face of the low temperature reaction part 6.例文帳に追加