「reaction-tube」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The produced gas ascends in a reaction tube inside pipe 8 and is discharged from a produced gas outlet nozzle 6.例文帳に追加

生成ガスは反応管内管８内を上昇して上胴１の製品ガス出口ノズル６から出る。 - 特許庁

The organic substance decomposition method is carried out using a photocatalytic structure body comprising an inorganic fiber sleeve as a substrate and the organic substance decomposition is carried out by filling a light transmissive reaction tube with the inorganic fiber sleeve bearing a photolysis catalyst and radiating light from the outside to the reaction tube while an object fluid to be treated being passed through the reaction tube.例文帳に追加

無機質繊維スリーブを基材とした光触媒構造体を用いた有機物分解の方法であって、光透過性のある反応管内に光触媒を担持させた無機質繊維スリーブを充填し、該反応管内に被処理流体を通過させつつ外部から光を照射することを特徴とする。 - 特許庁

A vertical furnace 10 includes a reaction tube 11, a heater 20, a manifold 16, and a cooling gas supply means 310.例文帳に追加

縦型炉１０は、反応管１１、ヒータ２０、マニホールド１６、冷却ガス供給手段３１０を備える。 - 特許庁

Since most of the raw material gas is consumed, a tar-like substance is not formed also in the reaction tube 4.例文帳に追加

原料ガスの多くが消費されるから、反応管４内にもタール状物質が生成されない。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus which can carry out maintenance without lowering temperature in a reaction tube.例文帳に追加

反応管内の温度を下げることなく、メンテナンスを実施することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

The deviation between the center position of the reaction tube 2 and the center position of the internal electrode 3 can be prevented.例文帳に追加

反応管２の中心位置と内側電極３の中心位置をずれないようにすることができる。 - 特許庁

CONTAINING METHOD AND EQUIPMENT FOR CONTINUOUSLY PRODUCING WHITE ARTIFICIAL ZEOLITE COMPOSITION WITH HEATED REACTION TUBE AND APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

加熱反応管接触による連続式白色人工ゼオライト組成物の製造方法及びその装置 - 特許庁

The oxidating/diffusing apparatus discharges a processed exhaust gas from a reaction tube 16 via an exhaust piping 32.例文帳に追加

酸化／拡散装置は、反応管１６内から処理済みの排気ガスを排気配管３２より排出する。 - 特許庁

To use gas supplied into a reaction tube efficiently by improving the shape of a gas nozzle.例文帳に追加

ガスノズルの形状を改善して、反応管内に供給したガスを効率良く使用できるようにする。 - 特許庁

Inside of the reaction tube 2 of heat treatment equipment 1 is heated at a specified temperature by means of a temperature rising heater 12.例文帳に追加

熱処理装置１の反応管２内を昇温用ヒータ１２により所定の温度に加熱する。 - 特許庁

First, a DCS is supplied into a reaction tube 2, and the DCS is adsorbed onto a semiconductor wafer W.例文帳に追加

まず、反応管２内にＤＣＳを供給し、半導体ウエハＷにＤＣＳを吸着させる。 - 特許庁

(1) The production apparatus comprises a reaction tube 6, a gas feed pipe 4 that feeds a stream containing a carbon-containing raw material into the inside of the reaction tube 6, a heating means 5 that heats the inside of the reaction tube 6, a gas decomposer 7 that decomposes the stream by contact therewith, and a synthesis part 8 that synthesizes carbon nanotubes.例文帳に追加

１）反応管６と、炭素含有原料を含む気流を反応管６内部に供給するガス供給配管４と、反応管６内部を加熱する加熱手段５と、前記気流と接触してこれを分解するガス分解器７と、カーボンナノチューブが合成される合成部８と、を含む製造装置。 - 特許庁

Thereby, the temperature rise at the inlet side of each tube 37 in response to a strong catalytic reaction is suppressed.例文帳に追加

これによってチューブ３７内の入口側の強い触媒反応に応じた温度上昇を抑制する。 - 特許庁

The reaction tube 16 is immersed in a bath 10 of fused metal salt and left in the bath for a specified time.例文帳に追加

反応管１６を金属塩溶融浴１０内に浸漬し、所定の反応時間ここに載置する。 - 特許庁

To reduce the size of a reaction tube in the direction of its height, with respect to a reformer for a hydrogen production apparatus.例文帳に追加

水素製造装置用の改質器についてその反応管の高さ方向でのコンパクト化を図る。 - 特許庁

Substrate treatment equipment is provided with a reaction tube 30 which forms a substrate treatment region for treating a wafer W, the furnace throat flange 4 which supports the reaction tube 30, a gas supply line 7 which is arranged in the furnace throat flange 4 and supplies gas inside the reaction tube 30, and an electrode 32a and a ground electrode 32b which generate plasma.例文帳に追加

基板処理装置は、ウェーハＷを処理する基板処理領域を形成する反応管３０と、反応管３０を支持する炉口フランジ４と、炉口フランジ４に設けられて反応管３０内にガスを供給するガス供給管７と、プラズマを生成する電極３２ａとアース電極３２ｂとを備える。 - 特許庁

Almost of all gaseous starting material is consumed and the tar-like material is not produced also in the reaction tube 4.例文帳に追加

原料ガスの多くが消費されるから、反応管４内にもタール状物質が生成されない。 - 特許庁

In addition, an orifice 6 is formed in the introducing path of the N2O gas between the heating chamber 51 and reaction tube 2.例文帳に追加

また加熱室５１と反応管２との間の前記Ｎ2Ｏガスの導入路にオリフィス６を形成する。 - 特許庁

A microwave 4 generated at a microwave generator passes through a waveguide 5 and is irradiated to the reaction tube 9.例文帳に追加

マイクロ波発生装置で発生したマイクロ波４は、導波管５を経て、反応管９に照射される。 - 特許庁

A cooling gas passageway is provided in the space between the reaction tube and the above heating coil array.例文帳に追加

加熱壁反応管と前記加熱コイル列との間の空間はその間に冷却ガス通路を提供する。 - 特許庁

The nitrogen enters the reaction chamber 15 through a tube 102, and a stream of a boron halide precursor is passed.例文帳に追加

窒素はチューブ１０２を経て反応室１５に入り、続いてハロゲン化ホウ素前駆体が通流される。 - 特許庁

A very small part of ions moves toward the coil antenna 23 and collides against the inner wall of the reaction tube 14.例文帳に追加

そして、イオンの極一部はコイルアンテナ２３の方向に向かい反応管１４内壁に衝突する。 - 特許庁

When the coating layer is formed on the inner peripheral surface of the metallic tube, the metallic tube is rotated and, at least two kinds of molten metals are poured into the metallic tube to form the coating layer composed of an intermetallic compound by the reaction of the molten metals and to join the coated layer to the matallic tube by melting the inner peripheral wall of the tube with the reaction heat.例文帳に追加

金属管の内周面に被覆層を形成するに当り，金属管を回転させ，次いでその金属管内に少なくとも二種の溶湯を注入してそれら溶湯の反応による金属間化合物よりなる被覆層を形成すると共にその反応熱により金属管内周壁を溶融させて，その金属管に被覆層を接合する。 - 特許庁

The circulation area C is formed on the inside wall side of the reactor body 10 and one cooling tube or cooling tube groups 40 are installed in the reaction area R.例文帳に追加

循環領域Ｃは反応器本体１０の内壁側に形成され，反応領域Ｒには１の冷却管または冷却管群４０が配設される。 - 特許庁

The protecting tube 44 can prevent the occurrence of reaction when absorbing a twist since the protecting tube has a characteristic of holding a twisted shape.例文帳に追加

また、プロテクトチューブ４４は、捩じれた形状を保持するという特性を備えているので、捩じれを吸収した際の反力の発生を防止することができる。 - 特許庁

Each reaction tube is separately supplied with a raw material and the cleaning of the tube can be carried out without interrupting the production in the remaining tubes.例文帳に追加

各反応チューブには個々の供給を行い、各チューブの清掃を残りのチューブにおける生成の中断をせずに行うことが可能である。 - 特許庁

An atmospheric gas supplying port 3 provided to the top of a reaction tube 1, which is heated by means of a heat source 2, is opened in the peripheral direction of the tube 1.例文帳に追加

熱源２により加熱される反応管１の上部に設けた雰囲気ガスの供給口３を、反応管の周方向に向けて開口せしめる。 - 特許庁

Subsequently, the inside of the reaction tube 2 is maintained at 450°C, and a planarization gas containing fluorine and hydrogen fluoride is supplied from the process gas introduction tube 17.例文帳に追加

続いて、反応管２内を４５０℃に維持するとともに処理ガス導入管１７からフッ素とフッ化水素を含む平坦化ガスを供給する。 - 特許庁

A gas control part 62 controls a valve member 31 in such a manner that a reaction gas is supplied in a reaction tube 1 in the temperature control process and the supply of the reaction gas is prevented in the temperature change process.例文帳に追加

ガス制御部６２は、温度管理工程では反応ガスを反応管１内に供給する一方、温度変化工程では反応ガスの供給を阻止するように弁体３１を制御する。 - 特許庁

The hydrogen manufacturing reaction tube 112 constituting the reactor 102 is equipped with a tube wall 203, a carrier 202 for carrying a steam reforming catalyst, a membrane tube 204 which is a porous tube 205 having a hydrogen separating membrane 206 on the surface, a gaseous raw material supply tube 116, a hydrogen recovering tube 117, and an off gas recovering tube 118.例文帳に追加

反応器１０２を構成する水素製造用反応管１１２は、管壁２０３と、水蒸気改質触媒を担持する担体２０２と、表面に水素分離膜２０６を有する多孔質製管２０５であるメンブレン管２０４と、原料ガス供給管１１６と、水素回収管１１７と、オフガス回収管１１８とを備えている。 - 特許庁

The supplied cleaning gas is heated in the reaction tube 2 and fluorine gas in the cleaning gas is activated, in other words, being in the state having a number of free atoms having reactive property, then supplied to an exhausting tube 5 from the reaction tube 2 through a top part 3 and the exhausting opening 4.例文帳に追加

供給されたクリーニングガスは反応管２内で加熱され、クリーニングガス中のフッ素ガスが活性化、すなわち、反応性を有するフリーな原子を多数有した状態になって、反応管２から頂部３、排気口４を介して排気管５に供給される。 - 特許庁

A center body is located within a first radially outer tube, and the center body includes a second radially intermediate tube 44 for supplying fuel to a reaction zone and a third radially inner tube 54 for supplying air to the reaction zone.例文帳に追加

中心本体が、第１の半径方向外側チューブ内に設置され、中心本体は、反応ゾーンに対して燃料を供給する第２の半径方向中間チューブ４４と反応ゾーンに対して空気を供給する第３の半径方向内側チューブ５４とを含む。 - 特許庁

In forming a projecting portion on an outer circumference of a metallic tube 10, a metallic ring 12 having a layer 14 formed of the powder for thermit reaction on an inner circumference is externally fitted to the tube 10, and the ring 12 is welded to the outer circumference of the tube 10 by the thermit reaction.例文帳に追加

金属製の管１０の外周に突部を形成するに際し、テルミット反応用の粉末にて形成された層１４を内周に有する金属製のリング１２を管１０に外ばめして、テルミット反応によりリング１２を管１０の外周に溶着させる。 - 特許庁

This reformer comprises a reforming reaction tube for reforming hydrocarbon-based fuel and a tubular burner provided with a plurality of flame holes on the wall of the tube, where the tubular burner is located at a position where the reforming reaction tube can be heated by a flame blown out from the flame holes.例文帳に追加

炭化水素系燃料を改質する改質反応管と、管壁に複数の炎孔が設けられた管状バーナーとを有し、管状バーナーが、炎孔から吹き出す炎によって改質反応管を加熱可能な位置に配置された改質器。 - 特許庁

The vapor phase epitaxial growth device further comprises a straightening plate provided between the plurality of gas introduction sections and the gas reaction section of the reaction tube, a plurality of gas introduction tubes connected, respectively, to the plurality of gas introduction sections of the reaction tube, and a switching device which switches the gas to be fed, respectively, to the plurality of gas introduction tubes at the outside of the reaction tube.例文帳に追加

また、前記反応管の、前記複数のガス導入部及び前記ガス反応部間に設けられた整流板と、前記反応管の、前記複数のガス導入部それぞれに接続されてなる複数のガス導入菅と、前記反応管の外部において、前記複数のガス導入管それぞれに供給すべきガスを切り替えるための切替装置と、を具える。 - 特許庁

A susceptor 14 is provided on the side surface of a reaction tube 20, so as to have its circular plane 32 for retaining a substrate 12 placed on the inner side of the reaction tube 20 and have the circular plane 32 placed in the vertical direction.例文帳に追加

反応管２０の側面には、基板１２を保持するための円形面３２が反応管２０の内部に位置するように、また、円形面３２が鉛直方向を向くようにサセプター１４が配置されている。 - 特許庁

To provide a substrate holding structure of vapor depositing equipment which can take out a rotating shaft and a bearing pipe from an inside of a reaction tube and easily adjust a location of the substrate without atmosphere entering in the reaction tube.例文帳に追加

反応管内から回転軸及び軸受管を簡単に取り出し可能であり、反応管内に大気が入ることなく基板の位置を容易に調整可能な気相成長装置の基板保持構造を提供する。 - 特許庁

The flow of the material gas inside the reaction tube 3 is set in a direction, parallel to the growth surface of a substrate 14, and the velocity of flow of the material gas inside the reaction tube 3 is set at 2 m/s or less.例文帳に追加

反応管３の内部における原料ガスの流れは基板１４の成長面に対して平行な方向となっており、反応管３の内部における原料ガスの流速は２ｍ／ｓ以下となっている。 - 特許庁

Thus, the cap is brought into contact with a flange of an inlet adapter by using the springs, maintained airtightly, and simultaneously the port is held parallel to an inside reaction tube and an outside reaction tube.例文帳に追加

これにより、スプリングを用いることで前記シールキャップはインレットアダプタのフランジ部に当接し気密性の維持がなされると同時に、前記ボートを内側反応管及び外側反応管に対し平行に保持するものである。 - 特許庁

To decrease a leakage amount to improve substrate treatment quality and to reduce running cost when sealing the boundary between a reaction tube and an adapter using a sealing gas in substrate treatment equipment having the reaction tube and the adapter.例文帳に追加

反応管とアダプタを有する基板処理装置に於いて、反応管とアダプタの境界部をシールガスでシールする場合に、リーク量を減少させ、基板の処理品質を向上させると共にランニングコストを低減する。 - 特許庁

The manifold 16 has at least a flange support part 166 for supporting a flange part 122 of the reaction tube 11 and is constituted so as to be joined to the flange part 122 of the reaction tube 11 through an O-ring 174.例文帳に追加

マニホールド１６は、反応管１１のフランジ部１２２を支持するフランジ支持部１６６を少なくとも有し、反応管１１のフランジ部１２２にＯリング１７４を介して接合されるように構成される。 - 特許庁

A treatment gas introduction duct is provided in the vertical direction along an outer peripheral surface of the reaction tube, and treatment gas is raised in the duct so as to be introduced in a treatment space through a gas inlet on an upper end surface of the reaction tube.例文帳に追加

反応管の外周面に沿って処理ガス導入ダクトを上下方向に設け、このダクト内を処理ガスを上昇させ、反応管の上端面のガス導入口から処理空間に導入する。 - 特許庁

Vertical-type CVD system as substrate treatment equipment, which treats a substrate W at a prescribed treatment temperature is provided with an external reaction tube 11, formed of quartz and an internal reaction tube 12 formed of quartz which are arranged concentrically.例文帳に追加

所定の処理温度で基板Ｗを処理する基板処理装置としての縦型ＣＶＤ装置は、同心状に配設された石英製外部反応管１１と石英製内部反応管１２とを備える。 - 特許庁

A distance from a site, where the organometallic compound gas containing a group III element and a compound gas containing a group V element are converged in the reaction tube 11, to a substrate fitted in the reaction tube is set in 20 cm or less.例文帳に追加

また、ＩＩＩ族元素を含む有機金属化合物ガスとＶ族元素を含む化合物ガスとが反応管１１内で合流する部位から反応管内に設置される基板までの距離を２０ｃｍ以下にする。 - 特許庁

Bundle-shaped carbon nanotubes are obtained by synthesizing the carbon nanotubes by a hydrocarbon catalytic decomposition method taking hydrocarbon as a raw material in a reaction tube 1 and collecting them in a copper pipe 9 installed on the bottom of the reaction tube.例文帳に追加

反応管内１で炭化水素を原料とした炭化水素触媒分解法によりカーボンナノチューブを合成し、それを反応管底部に設置したＣｕパイプ９内に捕集して、バンドル状カーボンナノチューブを得る。 - 特許庁