「sio2」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

(T.CaO)/(SiO2)≤1.5...(1), wherein, (T.CaO): the concentration (mass%) converting total (Ca) contained in the slag into (CaO), (SiO2): SiO2 concentration in the slag.例文帳に追加

（T.CaO)／(SiO_2)≦1.5 ……… (1) 但し、(T.CaO) はスラグ中に含まれる全(Ca)を(CaO) に換算した濃度（mass％）、(SiO_2)はスラグ中(SiO_2)濃度（mass％）。 - 特許庁

ZnS-SiO2 SPUTTERING TARGET例文帳に追加

ＺｎＳ−ＳｉＯ２スパッタリングターゲット - 特許庁

METHOD OF FORMING SiO2 BUFFER LAYER例文帳に追加

ＳｉＯ２バッファ層の形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING LOW SiO2 SINTERED ORE例文帳に追加

低ＳｉＯ２結鉱の製造方法 - 特許庁

The third serial port, sio2 (see sio(4) , known as COM3 in DOS), is on /dev/cuad2 for dial-out devices, and on /dev/ttyd2 for dial-in devices. 例文帳に追加

3 番目のポート sio2 (sio(4) をご覧ください。 DOSでは、COM3 と呼ばれます。 - FreeBSD

METHOD FOR FORMING SiO2 CERMICS FILM例文帳に追加

ＳｉＯ２系セラミックス膜の形成方法 - 特許庁

By mixing optically transparent filler (fine particles), such as SiO2 and Al2O3, high heat-conductivity filler, such as YAG, SiO2, Al2O3 and Ag, and the like with the mixture, the efficiency of using light, and thermal conductivity are improved further.例文帳に追加

上記混合物に光学的に透明なフィラー（微粒子）SiO2、Al2O3、熱伝導性の高いフィラーYAG、SiO2、Al2O3、Ag等を混合すれば、光の利用効率や、熱伝導性はさらによくなる。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SiO2 BLANK例文帳に追加

ＳｉＯ２ブランク製造方法とその装置 - 特許庁

Thereafter, the resist 18 and the SiO2 film 17 are removed.例文帳に追加

その後、レジスト18とSiO_2膜17を除去する。 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING SiO2 FILM AND ARTICLE WITH SiO2 FILM DEPOSITED BY THE METHOD例文帳に追加

ＳｉＯ２膜の成膜方法及び該方法により成膜されたＳｉＯ２膜を備えた物品 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SiO2-TiO2 BASED GLASS, SiO2-TiO2 BASED GLASS AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

ＳｉＯ２−ＴｉＯ２系ガラスの製造方法、ＳｉＯ２−ＴｉＯ２系ガラス及び露光装置 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING SiO2-TiO2 BASED GLASS例文帳に追加

ＳｉＯ２−ＴｉＯ２系ガラスの製造方法 - 特許庁

VAPOR PHASE REMOVAL OF SiO2/METAL FROM SILICON例文帳に追加

シリコンからのＳｉＯ２／金属の気相除去 - 特許庁

At least one kind selected from Al2O3, CaO, MgO, SiO2, ZrO2, ZrO2, SiO2, B2O3, FeO, FeO2, and Fe2O3 in suitable as oxide.例文帳に追加

酸化物はAl_2O_3、CaO、MgO、SiO_2、ZrO_2、ZrO_2・SiO_2、B_2O_3、FeO、FeO_2およびFe_2O_3から選択された少なくとも１種が好適である。 - 特許庁

By cooling the (SiO2/Ta2O5)n layer 210, the mutual diffusion of Ta2O5 and SiO2 is prevented, and crystallizing heat treatment is enabled.例文帳に追加

（SiO_2 /Ta_2O_5）^n 層210の冷却でTa_2O_5 とSiO_2の相互拡散が防止され、結晶化熱処理が可能になる。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING THIN SiO2 FILM ON MAGNETIC MATERIAL例文帳に追加

磁性材料のＳｉＯ２薄膜形成方法 - 特許庁

NI/SIO2 CATALYST AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

Ｎｉ／ＳｉＯ２触媒およびその製造方法 - 特許庁

DRYING METHOD OF SILICON DIOXIDE (SiO2)-SUSPENSION AT HIGH TEMPERATURE例文帳に追加

高温でのＳｉＯ２—懸濁液の乾燥法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING HIGH PURITY SiO2例文帳に追加

高純度ＳｉＯ２の製造方法および装置 - 特許庁

Li2O-Al2O3-SiO2 CRYSTALLIZED GLASS例文帳に追加

Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系結晶化ガラス - 特許庁

The dielectric constant of SiO2 is lower than that of Si3N4.例文帳に追加

ＳｉＯ_2 はＳｉ_3 Ｎ_4 に比べて誘電率が低い。 - 特許庁

PRODUCTION OF HIGH QUALITY LOW SiO2 SINTERED ORE例文帳に追加

高品質低ＳｉＯ２ 焼結鉱の製造方法 - 特許庁

At this time, it is desirable that the SiO2 source is a low melting point slag containing SiO2, such as Ni slag.例文帳に追加

その際、ＳｉＯ_2 源がＮｉ滓等のＳｉＯ_2 を含有した低融点スラグであることが好ましい。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING LOW-SiO2 HIGH-STRENGTH SINTERED ORE例文帳に追加

低ＳｉＯ２高強度焼結鉱の製造方法 - 特許庁

An SiO2 film 109 is formed on the entire surface, SiO2 film at the upper surface section of the embedding structure is removed by etching (Fig.3 (a)).例文帳に追加

全面にSiO_2膜109を形成し、埋め込み構造の(100)上面部のSiO_2膜をエッチング除去する（図３（a））。 - 特許庁

After an SiO2 film 14 is formed and resist is applied, a 5 μm-wide SiO2 film 14 is left at an interval of a width of about 30 μm.例文帳に追加

その後、SiO_2膜14を形成し、レジストを塗布後、幅30μｍ程度の間隔で、幅5μmのSiO_2膜14を残す。 - 特許庁

The carrier 2 has the mole ratio of SiO2/Al2O3 of 23.例文帳に追加

担体２は，ＳｉＯ_2／Ａｌ_2Ｏ_3のモル比が２３である。 - 特許庁

The scatterer forming thin film 24 is, for example, a multiplayer film of ZnS-SiO2/Ag2/ZnS-SiO2.例文帳に追加

散乱体形成薄膜２４は例えばＺｎＳ−ＳｉＯ_2/Ａｇ_2Ｏ/ＺｎＳ−ＳｉＯ_2の多層膜である。 - 特許庁

METHOD OF FORMING SiO2 BLANK AND ITS APPARATUS例文帳に追加

ＳｉＯ２ブランクを形成する方法及びその装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ZnS-SiO2 SPUTTERING TARGET例文帳に追加

ＺｎＳ−ＳｉＯ２スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

LOW REFRACTIVE INDEX SIO2 FILM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

低屈折率ＳｉＯ２膜及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING HIGH QUALITY AND LOW SiO2 SINTERED ORE例文帳に追加

高品質低ＳｉＯ２焼結鉱の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING SiO2 FILM BENEATH ULTRAFINE RESIST PATTERN例文帳に追加

超微細レジストパターン下のＳｉＯ２膜エッチング方法 - 特許庁

Then excessive polycrystalline silicon 9 deposited on the SiO2 film is etched back for exposing the SiO2 film 6.例文帳に追加

次に、ＳｉＯ_2膜６の上に堆積した余分な多結晶シリコン９をエッチバックして、ＳｉＯ_2膜６を露出させる。 - 特許庁

METHOD FOR FORMATION OF SiO2 THIN FILM UTILIZING DISCHARGE PLASMA例文帳に追加

放電プラズマを利用したＳｉＯ２薄膜形成方法 - 特許庁

The SiO2 film 5 is used as a mask to subject Si to anisotropic wet etching, and then the Si layer in the region where the SiO2 film is formed is oxidized to form a SiO2 layer 7.例文帳に追加

そして、ＳｉＯ_2 膜５をマスクとしてＳｉを異方性ウエットエッチングし、残りＳｉＯ_2 膜形成部のＳｉ層を全て酸化してＳｉＯ_2 層７を形成する。 - 特許庁

The entire polysilicon film 13 is covered with an SiO2 film 14.例文帳に追加

ポリシリコン膜１３の全体をＳｉＯ_2膜１４で覆う。 - 特許庁

FILM FORMING METHOD, SiO2 FILM, ELECTRONIC PART AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

成膜方法、ＳｉＯ２膜、電子部品および電子機器 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CAO-MGO-SIO2-BASED SOLIDIFIED ARTICLE例文帳に追加

ＣａＯ−ＭｇＯ−ＳｉＯ２系固化体の製造方法 - 特許庁

AMINOVINYLSILANE FOR CVD AND ALD SiO2 FILMS例文帳に追加

ＣＶＤ及びＡＬＤのＳｉＯ２膜のためのアミノビニルシラン - 特許庁

The alumina/silica gel and SiO2/Al2O3 (mass% ratio) of 96/4 to 10/90.例文帳に追加

アルミナシリカゲルは、SiO_2 / Al_2O_3 (mass% 比) ＝９６／４〜１０／９０である。 - 特許庁

CRYSTALLIZED TRANSPARENT Li2O-Al2O3-SiO2 GLASS例文帳に追加

Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系透明結晶化ガラス - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF POROUS TiO2-SiO2 GLASS BODY例文帳に追加

多孔質ＴｉＯ２−ＳｉＯ２ガラス体の製造方法 - 特許庁

The tunnel barrier layer 14 is formed out of amorphous SiO2.例文帳に追加

トンネル障壁層１４は、非晶質ＳｉＯ_2で構成される。 - 特許庁

ZnS-SiO2 SINTERED BODY AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

ＺｎＳ−ＳｉＯ２系焼結体およびその製造方法 - 特許庁