「the region s」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which a thin film transistor using nearly single-crystal grains of a semiconductor material in its channel forming region and having an excellent S value which is the electric characteristic of an under-threshold region.例文帳に追加

半導体材料の略単結晶粒をチャネル形成領域に用いた薄膜トランジスタにおいて、閾値下領域の電気特性であるＳ値の優良な薄膜トランジスタを得ることを可能とする半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Further, aligning a division-predetermined-line S formed on the glass wafer W and a compartment-line 101 formed on the supporting tool 100 aligns the liquid crystal device D and a suction-holding-region 102 to perform dicing by cutting the division-predetermined-line S in this condition into liquid crystal devices D.例文帳に追加

そして、ガラスウェーハＷに形成された分割予定ラインＳと支持治具１００に形成された区画線１０１とのアライメントを行うことにより液晶デバイスＤと吸引保持領域１０２との位置合わせを行い、その状態で分割予定ラインＳを切削してダイシングすることにより個々の液晶デバイスＤに分割する。 - 特許庁

In the encoding of a block that is to be predicted and encoded, when the texture synthesis and waveform reproduction blocks are mixed in a reference region in inter-frame prediction, when a region included in the waveform reproduction block is to be referred to, encoding is performed with the difference information between the reference and original signals as a predicted residual signal (S105, S106, S 108).例文帳に追加

フレーム間予測における参照領域にテクスチャ合成ブロックと波形再現ブロックとが混在する場合の符号化対象となる被予測ブロックの符号化において，波形再現ブロックに含まれる領域を参照する場合，参照信号と原信号との差分情報を予測残差信号として符号化する（S105,S106,S108）。 - 特許庁

The insulating layer 18 has a plurality of first openings 18a formed in a matrix-shape with prescribed intervals W from each other in the display region S, and second openings 18b formed with the prescribed intervals W from the first openings 18a in a region where the first electrode 17 is not formed.例文帳に追加

絶縁層１８は、表示領域Ｓにて各々所定幅Ｗをあけてマトリクス状に形成された複数の第一の開口部１８ａと、第一電極１７が形成されていない領域にて第一の開口部１８ａから前記所定幅Ｗをあけて形成された第二の開口部１８ｂと、を有する。 - 特許庁

Each thermal conductive member 26 is arranged on a position on a heating surface 12a opposed to a high conductive region Rc and calories from the heating surface 12a are supplied to the back surface of a contact substrate S.例文帳に追加

各熱伝導部材２６が、高伝導領域Ｒｃと対向する加熱面１２ａ上の位置に配設されて、加熱面１２ａからの熱量を、当接する基板Ｓの裏面に供給する。 - 特許庁

The pneumatic tire 1 has a tread center section C lying in a region including a tire equator line CL; and a tread shoulder section S lying outside in a tread width direction of the tread center section C.例文帳に追加

本発明に係る空気入りタイヤ１は、タイヤ赤道線ＣＬを含む領域に位置するトレッドセンター部Ｃと、トレッドセンター部Ｃのトレッド幅方向外側に位置するトレッドショルダー部Ｓとを有する。 - 特許庁

The CMYK density data is divided into predetermined regions and an amount of ink to be applied is calculated according to a gradation of each region, and then applying data S (8 bits) of a treatment liquid is formed according to the amount of ink to be applied.例文帳に追加

このＣＭＹＫ濃度データを所定領域に分割し、各領域ごとの階調からインク付与量を算出し、このインク付与量に応じて処理液の付与データＳ（８ビット）を作成する。 - 特許庁

To provide a luminescence measuring instrument for measuring the luminescence or fluorescence of a light wavelength region of 550-680 nm emitted from the sample put in a 24-well microplate with high sensitivity in a high S/N ratio at a high speed.例文帳に追加

２４ウェルマイクロプレートに入れた試料の発する５５０〜６８０ｎｍの光波長域の発光又は蛍光を高感度かつ高Ｓ／Ｎで高速に測定する発光測定装置を提供する。 - 特許庁

By using two electron beam biprisms in two stages in the optical axis direction, not only the Fresnel diffraction can be avoided, but also the interference fringe spacing s and the interference region width W are independently controlled by controlling the respective electrode voltage of the electron beam biprism.例文帳に追加

２つの電子線バイプリズムを光軸方向に２段に用いることにより、フレネル回折を回避できるだけでなく、干渉縞間隔ｓと干渉領域幅Ｗを、それぞれの電子線バイプリズム電極電圧を制御して、独立にコントロールする。 - 特許庁

To provide an image processor capable of visually discriminate a normal region from a lesion in the observation using autofluorescence, and capable of generating an image with suppressed decline of S/N.例文帳に追加

自家蛍光を利用した観察において、正常部位と病変部位とを視覚的に区別でき、かつ、Ｓ／Ｎの低下が抑制された画像を生成可能な画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To acquire a signal linearly and in high S/N ratio without decreasing a usual saturation level at low illumination, and to expand dynamic range with a good S/N ratio in a linear region even for an incident light having not less than the usual saturation level.例文帳に追加

低照度にて通常飽和レベルを狭めることなく線形かつ高Ｓ／Ｎでの信号取得を可能にするとともに、通常飽和レベル以上の入射光に対しても線形領域での良好なＳ／Ｎを実現しながらダイナミックレンジを拡大する。 - 特許庁

The method more particularly relates to a means in which impedance modification (i.e., trimming or tuning) can be advantageously carried out in accordance with the location of one or more conductive bridge(s) along the length of a gap region.例文帳に追加

さらに、本発明は、特に、ギャップ領域の長さに沿った１つまたは複数の導電性ブリッジの位置に応じてインピーダンスの変更（すなわち、トリミングまたは調整）が有利に行われることが可能な手段に関する。 - 特許庁

By forming polycrystalline silicon layer 12 on the source region S, when the local source line LS is formed by forming a titanium film and a tungsten film, silicide is prevented from proceeding into the source regions.例文帳に追加

ソース領域Ｓの表面に多結晶シリコン層１２を形成しておくことで、チタン膜およびタングステン膜を形成してローカルソース線ＬＳを形成した場合に、シリサイドがソース領域Ｓの中に進行するのを防止する。 - 特許庁

When development is performed by using alkaline developing solution after exposure to light, a region which is exposed to light with the pattern 3b having L/S equal to or rougher than the resolution limit is formed in a shape having a comb tooth type section by narrow trenches 5 with depth not getting to the substrate 1.例文帳に追加

露光後、アルカリ性現像液で現像すると、解像限界以下のＬ／Ｓのパターン３ｂにより露光された領域は、基板１に達しない深さの狭い溝５によって断面櫛歯状に形成される。 - 特許庁

In the doping method of a sample containing a photosensitive component, the sample is doped by controlling a region to be doped with a charge carrier and its doping amount for the sample S containing a photosensitive component.例文帳に追加

感光性成分を含む試料へのドーピング方法において、感光性成分を含む試料Ｓに対して電荷担体をドープされるべき領域とそのドーピング量を制御し、前記試料へのドーピングを行う。 - 特許庁

Then, a pair of gate electrodes 15-1 and 15-2 is opposingly provided at both the sides of a region S for composing a signal waveguide formed between the source electrode 13 and the drain electrode 14.例文帳に追加

次いで、ソース電極１３及びドレイン電極１４間に形成された、信号導波路を構成する領域Ｓの両側において、一対のゲート電極１５−１及び１５−２を互いに対向するようにして設ける。 - 特許庁

The apparatus uses a second optical axis B and a third optical axis C, a safety space for a hand/arm between the press machine and a safety region S is set, a first optical axis is arranged at a safety distance S from the most front end optical axis of the second optical axis B arranged immediately before risk or from the most front end optical axis of the third optical axis C.例文帳に追加

本発明は第２の光軸Ｂ乃至第３の光軸Ｃを使用し、プレス機械から安全領域Ｓの間に手腕の安全空間を設定し、危険直前に配置する第２の光軸Ｂの最前端光軸または第３の光軸Ｃの最前端光軸から安全距離Ｓに第１の光軸Ａを配置する。 - 特許庁

The operating member 13 is provided rotatably at the holder body 11 and imparts the pressing force to the intermediate member through the rotation to permit angle displacement of the holder body 11, and the detaching of the magnet holder 10 can be performed by the reduction in the contact region of the magnet M and the surface S to be mounted accompanying the angle displacement.例文帳に追加

操作部材１３はホルダー本体１１に回転可能に設けられており、この回転によって中間部材に押圧力を付与してホルダー本体を角度変位可能とし、この角度変位に伴うマグネットＭと被着面Ｓとの接触領域の減少により、マグネットホルダー１０の取り外しを行えるようになっている。 - 特許庁

The inductor 101 and rotor 103 are arranged, so that a magnetic induction region S is provided, where the rotating orbit of the magnet 122 of the inductor 101 is overlapped to one portion of the rotating orbit of the magnet 123 of the rotor 103, and at the same time, the magnets 112 and 123 are rotated without any contact each other.例文帳に追加

誘導子１０１の磁石１２２の回転軌道が回転子１０３の磁石１２３の回転軌道の一部と重なる磁気誘導領域Ｓを持ち、かつそれらの磁石１１２，１２３が相互に非接触状態で回転するように誘導子１０１および回転子１０３を配置する。 - 特許庁

However, the destruction of forests had advanced, and it is thought that by the year 800, a considerable part of the forests in Kinai had been lost, and by around the year of 1000, the destruction had been extended to the forests of Shikoku region and by the 1550's, 25% of the forests in the whole Japanese archipelago had been lost. 例文帳に追加

だが日本列島における森林破壊は進行し、800年代までには畿内の森林の相当部分が、また1000年頃までには四国の森林も失われ、1550年代までにこの二つの地域の森林を中心にして日本列島全体の25％の森林が失われたと考えられている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Then, the auto-correlating value of the surface image of polysilicon film in an S/D region as well as that on a gate electrode are acquired, and both numerical results is utilized to decide the quality of the polysilicon film.例文帳に追加

そして、Ｓ／Ｄ領域上のポリシリコン膜の表面画像の自己相関値と、ゲート電極上のポリシリコン膜の表面画像の自己相関値を求め、この数値化した両者の結果を利用して、ポリシリコン膜の良否を判断する。 - 特許庁

A part B_m of a line of magnetic force coming out from a lower face (N pole) of a segment magnet m_4 descends to the peripheral plasma region PS_B just below, makes the U-turn upward, and reaches a lower face (S pole) of the segment magnet m_5 adjacent to the circumference direction.例文帳に追加

また、セグメント磁石ｍ_4の下面（Ｎ極）から出た磁力線の一部Ｂ_mは、直下の周辺プラズマ領域ＰＳ_Bに降りてから上方へＵターンして円周方向隣のセグメント磁石ｍ_5の下面（Ｓ極）に達する。 - 特許庁

Through the use of the illuminometer 10, the feeling of brightness can be measured objectively by a method similar to the conventional illuminance/luminance measurement methods, concerning a light source for illumination light in which light of a wavelength component being in a sensitivity region of an S-cone is contained.例文帳に追加

照度計１０によれば、Ｓ錐体の感度領域である波長成分の光が含まれる照明光源について、従来の照度や輝度の測定と同様の手法で、明るさ感を客観的に測定することができる。 - 特許庁

The thickness of a portion of the cover insulating layer 13 above a region R1 of the base insulating layer 11 in which the lead wire S for plating is formed is set smaller than the thickness of a portion of the cover insulating layer 13 above other regions of the base insulating layer 11.例文帳に追加

めっき用リード線Ｓが形成されるベース絶縁層１１の領域Ｒ１上におけるカバー絶縁層１３の部分の厚みは、ベース絶縁層１１の他の領域上におけるカバー絶縁層１３の部分の厚みよりも小さく設定される。 - 特許庁

An ascending current of air is generated in the region S by an air supply unit 60 to allow the air that is warmed by the heat from the pre-baking unit 32 or 33 to escape, so as not to influence the temperature of the cooling unit 30 located on the downside.例文帳に追加

そして，領域Ｓ内に，エア供給装置６０により上昇気流を発生させて，プリベーキング装置３２又は３３の熱により暖められたエアを上方に逃がして，下方に位置するクーリング装置３０の温度に影響を与えないようにする。 - 特許庁

In addition, in a case a diffusion region 30 of S-shape is formed by using an ultrasonic processing horn in which a plurality of processing dots are arranged in matrix shape, the bending dots 32 are not always located in the outer periphery of the diffusion region 30, thereby, an effect of installing the groove part 34 is great.例文帳に追加

加えて、複数の加工ドットがマトリックス状に配置された超音波加工用ホーンを用いてＳ字形状の拡散領域３０を形成するような場合には、拡散領域３０の外縁に屈曲ドット３２が常に位置するとは限らないため、溝部３４を設けることによる効果が大きい。 - 特許庁

In addition, in such a case in which an S-shaped diffusion region 30 is formed with the use of an ultrasonic machining horn with a plurality of machining dots arranged in matrix shape, the bending dots 32 are not always positioned at an outer edge of the diffusion region 30, so that an effect of providing the groove part 34 is great.例文帳に追加

加えて、複数の加工ドットがマトリックス状に配置された超音波加工用ホーンを用いてＳ字形状の拡散領域３０を形成するような場合には、拡散領域３０の外縁に屈曲ドット３２が常に位置するとは限らないため、溝部３４を設けることによる効果が大きい。 - 特許庁

To provide a fluorescence correlation spectroscopic device capable of improving an S/N ratio in measurement and improving measurement throughput by enlarging a measurement region by changing the excitation of fluorescence and the size of a detection region in an aqueous solution or moving the excitation of fluorescence and a detection region in the aqueous solution during measurement and positively increasing the number of particles involved in the measurement within a limited time period.例文帳に追加

水溶液中における、蛍光の励起、及び検出領域の大きさを変化させる、あるいは測定中に水溶液中の蛍光の励起、及び検出領域を移動させて計測領域を拡大し、限られた時間内に測定に関与する粒子数を積極的に増やして計測のＳＮ比を改善し、測定のスループットを向上させた蛍光相関分光装置を提供すること。 - 特許庁

A part B_C of a line of magnetic force coming out from the lower face (N pole) of an outer segment magnet M_5 descends to the peripheral plasma region PS_B just below, makes the U-turn upward, and reaches the lower face (S pole) of the inner segment magnet m_5 adjacent to a radius direction.例文帳に追加

さらに、外側セグメント磁石Ｍ_5の下面（Ｎ極）から出た磁力線の一部Ｂ_Cが、直下の周辺プラズマ領域ＰＳ_Bに降りてから上方へＵターンして半径方向隣の内側のセグメント磁石ｍ_5の下面（Ｓ極）に達する。 - 特許庁

At the beginning of 1990‟s, India fell into recession due to the Gulf War. It turned to the liberalization route and opened the country to foreign business since 1991. It eased restrictions of foreign capital entry, a special economic region was established, and the tariff was reduced.例文帳に追加

90年代初頭、インドは湾岸戦争等の影響もあり不況に陥っていたことを機に、1991年から対外開放政策による自由化路線に方針転換し、外資参入規制の緩和や経済特区の設置や関税引下げ等を実施した。 - 経済産業省

In the method for measuring the characteristics of a measuring target liquid 1 by a characteristic measuring method 2, the ratio of air bubbles 3 contained in the measuring target liquid 1 within the measuring region S of the characteristic measuring method 2 is reduced to reduce the measuring error caused by the air bubbles 3.例文帳に追加

測定対象液１の特性を特性測定部２により測定する方法であって、特性測定部２の測定領域Ｓ内の測定対象液１に含まれている気泡３の割合を減少させることにより、気泡３に起因する測定誤差を低減する。 - 特許庁

The adhesive of a fixed amount is continuously discharged from the nozzle section 29a to the disk substrate 1a rotating at the constant speed, by which the adhesive S is applied to in a concentric circular form with the central hole and an annular coating application region of uniform coating quantity and uniform coating width is formed over the entire circumference of the disk substrate 1a.例文帳に追加

定速回転するディスク基板１ａに対してノズル部２９ａから定量の接着剤を連続して吐出することで、中央孔と同心円状に接着剤Ｓを塗布して全周に亘って均一な塗布量及び塗布幅の環状塗布領域を形成する。 - 特許庁

In the second discharge process, the uncontaminated liquid crystal material F newly supplied (replenished) to the discharge head is arranged to each of the arranging region S and the contaminated liquid crystal material F arranged at the first time is diluted by the uncontaminated liquid crystal material F arranged at the second time.例文帳に追加

２回目の吐出行程では、各配置領域Ｓは、吐出ヘッドに新たに供給（補給）された汚染されてない液晶材料Ｆを配置して、１回目に配置された汚染された液晶材料Ｆを、２回目に配置される汚染されてない液晶材料Ｆによって希釈化する。 - 特許庁

This covering structure 1 for culture of crops covering upward of the culturing crops, has a sealed space S capable of filling a gas at least in a covering region 4 of the covering structure 1 covering upward of the crops and a gas layer for heat insulation formed by the gas filled in the sealed space S.例文帳に追加

植栽された作物の上方を被覆する作物栽培用カバー体１であって、前記カバー体１における少なくとも作物の上方を被覆する被覆領域４に、気体を充填可能な密閉空間部Ｓが形成されており、該密閉空間部Ｓ内に充満された気体により断熱用の気体層部が形成されている。 - 特許庁

By three-dimensionally moving the XYZ stage 4 while irradiating the film with the pulse laser light, the condensed light point P of the pulse laser light is relatively moved in the polyimide precursor film 5 to form a refractive index varied three-dimensional region S along the movement locus of the condensed light point P as a continuous or discontinuous region having the refractive index higher than that in other part.例文帳に追加

そして、このようなパルスレーザ光の照射とともにＸＹＺステージ４を３次元的に移動させると、パルスレーザ光の集光点Ｐが、ポリイミド前駆体皮膜５の内部において相対的に移動し、その集光点Ｐの移動軌跡に沿って、その他の部分よりも屈折率が高くなる連続または不連続な領域として、屈折率変化領域Ｓが３次元的に形成される。 - 特許庁

The photoelectric conversion regions 111-157 are divided into a main region m having a relatively large light receiving area and an accessory region s having a relatively small receiving area which generate and store signal currents corresponding to lights of prescribed spectral sensitivity.例文帳に追加

光電変換領域１１１〜１５７は、相対的に広い受光面積を有する主領域ｍと相対的に狭い受光面積を有する副領域ｓに分割され、それぞれ所定の分光感度の光に対応する信号電荷を発生し、蓄積する。 - 特許庁

The casing 6 is provided with a classifying casing part 4 dividing the dispersion region V, a classifying casing part 5 dividing the classifying region S and an openable opening and closing means for mutually opening or closing the classifying casing part 4 and the classifying casing part 5 through a casing opening and closing hinge 20 used for a support shaft from the mutual contact parts (flange 32).例文帳に追加

そして、このケーシング６は、分散領域Ｖを画成する分散部ケーシング４と、分級領域Ｓを画成する分級部ケーシング５と、これら分散部ケーシング４および分級部ケーシング５相互を、互いの当接部分（フランジ３２）から支軸となるケーシング開閉ヒンジ２０を介して開閉可能な開閉手段とを備えて構成されている。 - 特許庁

When the enclosure line in the standard image S is moved arbitrarily, or the area thereof is arbitrarily changed with a mouse 19 or a keyboard 20, the state of a feature region of a sample can be observed through the comparison with the partial images.例文帳に追加

このように、基準画像Ｓ中の囲み線をマウス１９やキーボード２０を用いて任意に移動させ、あるいはその範囲を任意に変化させることにより、試料の特徴領域について部分像により状態を比較観察することが可能となる。 - 特許庁

The elastic body 51 comprises: fixed sections 51A which are, with the elastic body 51 stretched in the longitudinal direction L, fixed to the sheet 52 at least at the boundaries between the center region C and the end regions S; and free end sections 51B located further toward the outside than the fixed section 51A in the longitudinal direction L and not fixed to the sheet 52.例文帳に追加

弾性体５１は、中央領域Ｃと端部領域Ｓとの少なくとも境界において、弾性体５１が長手方向Ｌに伸張した状態でシート５２に固定される固定部５１Ａと、固定部５１Ａよりも長手方向Ｌの外側に位置し、シート５２に固定されていない自由端５１Ｂとを有する。 - 特許庁

In the transmissive region of the first transparent substrate 10, a first transparent electrode layer 15, an insulating film 16, and a second transparent electrode layer 17A having a plurality of slits S and electrode portions 17 are disposed in this order.例文帳に追加

第１の透明基板１０の透過領域には、第１の透明電極層１５、絶縁膜１６、複数のスリット部Ｓ及び電極部１７を有した第２の透明電極層１７Ａがこの順で配置されている。 - 特許庁

A part B_M of a line of magnetic force coming out from the lower face (N pole) of a segment magnet M_O descends to a peripheral plasma region PS_B just below, makes a U-turn upward, and reaches the lower face (S pole) of a segment magnet M_E adjacent to a circumference direction.例文帳に追加

セグメント磁石Ｍ_Oの下面（Ｎ極）から出た磁力線の一部Ｂ_Mは、直下の周辺プラズマ領域ＰＳ_Bに降りてから上方へＵターンして円周方向隣のセグメント磁石Ｍ_Eの下面（Ｓ極）に達する。 - 特許庁

When the unit cell 10 is projected on a flat surface S from an arrow P direction, projection regions Pw, Pa, Pc of each flow channel and a projection region Pm of the membrane-electrode assembly 11 are at least partially overlapped.例文帳に追加

矢印Ｐ方向から平面Ｓへ単セル１０を投影すると、各流路の投影領域Ｐｗ、Ｐａ、Ｐｃと膜電極接合体１１の投影領域Ｐｍは、少なくとも一部が重なり合う。 - 特許庁

A part B_m of a line of magnetic force coming out from a lower face (N pole) of a segment magnet m_E descends to the peripheral plasma region PS_B just below, makes the U-turn upward, and reaches a lower face (S pole) of a segment magnet m_O adjacent to the circumference direction.例文帳に追加

また、セグメント磁石ｍ_Eの下面（Ｎ極）から出た磁力線の一部Ｂ_mは、直下の周辺プラズマ領域ＰＳ_Bに降りてから上方へＵターンして円周方向隣のセグメント磁石ｍ_Oの下面（Ｓ極）に達する。 - 特許庁

The capillary optical element 6 is formed by bundling a plurality of capillary tubes 10, and its X-ray incidence port 6a is formed to be smaller than an X-ray emission port 6b so that it anticipates the small region of the sample S.例文帳に追加

キャピラリ光学素子６は、複数のキャピラリチューブ１０を束ねることによって形成され、そのＸ線入射口６ａは試料Ｓの微小領域を見込むようにＸ線出射口６ｂに比べて小さく形成される。 - 特許庁

The mounting machine 10 integrates a semiconductor wafer W onto a ring frame RF through an adhesive sheet S, the semiconductor wafer W on which back grinding is done using a grinder 11, wherein the grinder 11 includes an accessible conveying means 12 within its region.例文帳に追加

研削装置１１で裏面研削された半導体ウエハＷを、接着シートＳを介してリングフレームＲＦに一体化するマウント装置１０であって、研削装置１１の領域内にアクセス可能な搬送手段１２を含む。 - 特許庁