「variation width」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming material having good scratch resistance in a developer, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and realizing formation of an accurate pattern free from variation in line width, a chip and disconnection, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、線幅のバラツキや欠け、断線のない正確なパターン形成が可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a gate line driving circuit which can adjust the pulse width of a scanning signal to reduce a phenomenon of variation in liquid crystal applied voltage during gate pulse application to a front stage and adjust the scanning frequency of a non-display part by a partial display function of power consumption reduction.例文帳に追加

本発明は、前段のゲートパルス印加時において液晶印加電圧が変動してしまう現象を低減するために走査信号のパルス幅が調節可能であり、低消費電力化を目的としたパーシャル表示機能で非表示部の走査頻度を調節可能なゲート線駆動回路を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method performing current control with high accuracy in a short period of time by avoiding the occurrence of overshoot/undershoot regardless of the existence of a variation of inductance and a resistance value due to an individual difference in load and temperature characteristics in an electronic controller for performing PWM (pulse width modulation) control of a current value energized by an inductive load.例文帳に追加

誘導性負荷に通電される電流値をＰＷＭ制御する電子制御装置において、負荷の個体差、温度特性によるインダクタンスと抵抗値のばらつきがあってもオーバーシュート・アンダーシュートの発生を回避でき、短時間に精度よく電流制御を行える方法を提供する。 - 特許庁

[Film thickness variation test] (1) On a transparent part forming glass substrate obtained by forming transparent pixels (transparent parts) 30 μm in width and 3.2 μm in thickness in a stripe shape at intervals of 100 μm on a transparent glass substrate 5 cm square, the colored composition is spin-coated to have a film thickness in coating of 2.2 μm.例文帳に追加

〔膜厚変動試験〕（１）縦５ｃｍ×横５ｃｍの透明ガラス基板上に幅３０μｍ、厚さ３．２μｍの透明画素（透明部）を１００μｍ間隔でストライプ状に形成した透明部形成ガラス基板上に、前記着色組成物を塗布時膜厚が２．２μｍになるようにスピンコートする。 - 特許庁

High rate direct modulation is realized in a semiconductor laser diode by setting high bias conditions at a DC bias control section 12 in order to maintain the state of high relaxation oscillation frequency fr constantly within the variation width of injection current and keeping a constant driving amplitude at a modulation current driving section 13.例文帳に追加

直流バイアス制御部１２でバイアス条件を高く設定して常に注入電流の変化幅内での緩和振動周波数ｆｒが高い状態を保ち、変調電流駆動部１３で駆動振幅を一定に保つことで、半導体レーザダイオードにおける直接変調の高速化をはかる。 - 特許庁

To prevent generation of neck-in and variation in width caused by poor close contact of a edge part of the sheet with a roll, eliminate non- uniformity in a surface state, makes production possible over a long period of time, and improves strippability of the sheet, together with prevention of generation of curling in the thickness direction of the sheet, when an amorphous polyester sheet is produced.例文帳に追加

アモルファスポリエステルシートを製造するに際し、ネックインの発生を防止し、シートの耳部のロールへの密着の悪さによる幅変動を防止し、表面状態のムラをなくし、長期にわたる生産を可能にし、かつシートの厚み方向のカールの発生を防止するとともにそのスリップ性を向上させる。 - 特許庁

To raise the temperature quickly up to a first target level by setting the pulse width of a first distributed conduction pulse wider than that of a second distributed conduction pulse and to set optimal drive conditions regardless of the difference in supply, e.g. the characteristics of thermal head or the type of ink ribbon or receiving sheet, or the variation of environmental temperature or the temperature of thermal head.例文帳に追加

第１の分散通電パルスを第２の分散通電パルスのパルス幅より広くすることで、第１の目標温度まで急速に昇温させることができ、またサーマルヘッドの特性やインクリボンや受容紙といったサプライの違い、または環境温度やサーマルヘッドの温度が変化しても、常に最適な駆動条件を設定することができるようにする。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition that has a sufficient pattern form even on a substrate having a step even when an antireflective film is not formed on the substrate using a thin film, forms a resist film with a small pattern variation width, has sufficient sensitivity, and has high focal latitude and exposure latitude.例文帳に追加

薄膜で基板上に反射防止膜を形成していない場合であっても、段差のある基板上であっても、良好なパターン形状を有し、パターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能であり、かつ、良好な感度を有し、焦点余裕度及び露光余裕度にも優れた新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet transfer device without risk of leaving an indentation on a sheet, by reducing or avoiding the occurrence of a skew to the whole paper sizes, without a variation in partial elastic force (push-pressing force) in the sheet width direction, when applying tension to the sheet, in the sheet transfer device for transferring the sheet, by applying predetermined tension to the sheet.例文帳に追加

シートに所定の張力を付与して、シートの移送を行なうシート移送装置において、シートに張力を付与するにあたり、シート幅方向に部分的な弾性力（押し当て力）のばらつきがなく、全ての紙サイズに対してスキューの発生を低減または回避し、シートに押し跡を残す虞もないシート移送装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a continuous casting method of metal which can suppress temperature variation in a width direction of a continuous casting cast piece immediately before reaching an entry side of a straightening band and which can manufacture a high quality continuous casting cast piece even when a vertical bending type continuous casting machine or a curved type continuous casting machine having a split roll is used.例文帳に追加

分割ロールを有する垂直曲げ型連続鋳造機または湾曲型連続鋳造機を用いた場合であっても、矯正帯の入側に到達する直前の連続鋳造鋳片の幅方向の温度ばらつきを抑制することができ、高品質な連続鋳造鋳片を製出することが可能な金属の連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

To relatively inexpensively provide a unidirectional prepreg having excellent quality, good handling property upon slitting, an excellent molding cycle, little void incidence within the molding thereof after molded, and little variation in fiber basis weight in the width direction, in the unidirectional prepreg obtained by using a reinforcing fibrous base material with high fiber basis weight and a resin with rapid curability.例文帳に追加

繊維目付の大きな強化繊維基材と、速硬化性を有する樹脂を用いてなる一方向プリプレグにおいて、品質に優れ、スリット時の取扱い性も良く、成形サイクルに優れ、成形後の成形体内部のボイド発生率が少ない、幅方向の繊維目付バラツキが少ない一方向プリプレグを、比較的安価に提供すること。 - 特許庁

By the information recording method of irradiating a recorded medium with light of wavelength λ and recording and reproducing information by making use of variation in the intensity of its transmitted or reflected light, slits or gratings of width a<λ are formed in pits as recording units of information in different orthogonal directions by the pits to constitute the information recording medium 6.例文帳に追加

被記録媒体に波長λの光を照射し、その透過光又は反射光の光の強度変化を利用して情報の記録及び再生を行う情報記録方法に於いて、情報の記録単位であるピットに幅ａ＜λなるスリット又はグレーティングをピット毎に異なる直交方向に形成して情報記録媒体を構成する。 - 特許庁

The natural vibration frequencies of a slitter 2 and a feed roller 7 are adjusted to within a range of the frequency sensitivity of the servo writer, so the cycle length of fine variation in width that a manufactured magnetic tape has corresponds within the range of the frequency sensitivity of the servo writer and a defect of the magnetic tape due to a tracking error of the servo writer is eliminated.例文帳に追加

サーボライタの周波数感度の範囲内となるようにスリッタ２およびフィードローラ７の固有振動数を調整するため、製造された磁気テープに発生する幅寸法の細かな変動の周期長はサーボライタの周波数感度の範囲内に対応したものとなり、サーボライタのトラッキングエラーによる磁気テープの不良が解消される。 - 特許庁

To prevent a variation of a crystal state due to a change of a collecting beam shape (width of minor axis) of radiating laser beam caused from a heat lens effect of an objective lens produced when forming a belt polycrystal, by scanning a continually oscillating laser beam onto a desired area of an amorphous or granular polycrystal silicon film formed on an insulating substrate.例文帳に追加

絶縁基板上に形成された非晶質あるいは粒状多結晶シリコン膜の所望の領域に、連続発振レーザ光を走査して帯状多結晶領域を形成するに際の対物レンズの熱レンズ効果発生に伴う照射レーザ光の集光ビーム形（短軸幅）の変化による結晶状態の変動を防止する。 - 特許庁

When the status flag F is set (Flag=1), namely, the last input level APL finely varies and increases by the reference value, as shown in section (e), the value obtained by subtracting the fine variation quantity (a unit quantization step width, as the reference value in this example) from the input level APL is set as the output level APLad.例文帳に追加

状態フラグＦがセット状態（Flag=1)、つまり直前までの入力レベルＡＰＬが微少変動し、しかも区間ｅのように、入力レベルが基準値だけ上昇する方向に変動しているときには、入力レベルＡＰＬから微少変動分（この例では基準値である単位量子化ステップ幅）だけ減算した値が、出力レベルＡＰＬａdとして設定される。 - 特許庁

After a semiconductor wafer W is initially irradiated with light while a light emission output is increased up to a target value LP during light irradiation heating wherein the total time of light irradiation is ≤1 second, the semiconductor wafer W is subsequently irradiated with light while the light emission output is maintained within a range of a variation width of ±10% from the target value LP.例文帳に追加

光照射の総時間が１秒以下の光照射加熱において、発光出力を目標値ＬＰまで増大させつつ半導体ウェハーＷに初期光照射を行った後、その目標値ＬＰから±１０％以内の変動幅の範囲内で発光出力を維持しつつ半導体ウェハーＷに後続光照射を行う。 - 特許庁

Then the toner concentration in initial adjustment of the developer 41 is detected, and the toner concentration is controlled by using a threshold, set according to the integrated number of prints or the integrated rotation time of agitating rollers 45 and 46 corresponding thereto from a threshold group selected, based upon the variation width of the detected value of the toner concentration per unit time in the initial adjustment.例文帳に追加

そして、現像剤４１の初期調整時のトナー濃度が検出され、初期調整時の単位時間あたりのトナー濃度の検出値の変動幅に基づいて選択された閾値群の中から、積算印刷枚数またはそれに相当する攪拌ローラ４５、４６の積算回転時間に応じて設定された閾値を用いてトナー濃度が制御される。 - 特許庁

The polypropylene yarn comprises polypropylene having an isotactic pentad fraction (IPF) of ≥94%, and is characterized in that the shape of an endothermic peak measured by differential scanning calorimetry (DSC) is a single shape having a half-power band width of ≤10°C; an enthalpy variation of fusion (ΔH) is ≥125 j/g; and a yarn strength is ≥7 cN/dtex.例文帳に追加

アイソタクチックペンタッド分率（ＩＰＦ）が９４％以上のポリプロピレンよりなるポリプロピレン繊維であって、走査示差熱量測定（ＤＳＣ）による吸熱ピーク形状が１０℃以下の半価幅を有するシングル形状で、融解エンタルピー変化量（△Ｈ）が１２５Ｊ／ｇ以上であり、且つ繊維強度が７ｃＮ／ｄｔｅｘ以上であるポリプロピレン繊維。 - 特許庁

In the biaxially oriented polyethylene terephthalate film which has an easily adhesive layer at least on one surface, the easily adhesive layer includes a polyester-based resin and a polyvinyl alcohol-based resin, and the film has a retardation of 1,800 nm or less and the variation of a retardation in a width direction of 400 nm/m or less.例文帳に追加

少なくとも片面に易接着層を有する二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムであって、前記易接着層がポリエステル系樹脂とポリビニルアルコール系樹脂を含み、前記フィルムのレターデーションが１８００ｎｍ以下であり、前記フィルムの幅方向におけるレターデーションの変動が４００ｎｍ／ｍ以下である偏光子保護用易接着性ポリエチレンテレフタレートフィルム。 - 特許庁

When the amount of change for the last week is beyond the allowable value, the control part 21 selects a production system to be specified in variation width data with respect to a production system identifier of the last production plan data, and determines the current production system, and executes the overtime work/holiday work adjustment simulation processing, and calculates the production schedule.例文帳に追加

先週分変動量が変動可能数の範囲外である場合、制御部２１は、前回の生産計画データの生産体制識別子に対して、変動幅データ内で特定される生産体制を選択して、今回の生産体制を決定し、これを用いて体制変更後の残休調整シミュレーション処理を実行して、生産スケジュールを算出する。 - 特許庁

The correcting means 16 executes the correcting processing of projection data based on a parameter showing the X-ray irradiation and measurement conditions recorded in the recording means 15 and corrects the gain variation of measurement data proportional to the X-ray tube current, an X-ray irradiation pulse width and the detected sensitivity of the detector 6.例文帳に追加

投影データ補正手段１６は、Ｘ線照射・計測条件記録手段１５に記録されているＸ線照射・計測条件を示すパラメータを基に投影データの補正処理を行ない、Ｘ線管電流，Ｘ線照射パルス幅及び二次元Ｘ線検出器６の検出感度に比例する計測データのゲイン変化を補正する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon epitaxial wafer including a process of performing vapor-phase growth of a silicon single-crystal thin film on the surface of a silicon single-crystal substrate, wherein variation in resistivity in a depth direction between the silicon single-crystal substrate and silicon single-crystal thin film is steep and the transition width of the resistivity is small.例文帳に追加

シリコン単結晶基板の表面上にシリコン単結晶薄膜を気相成長させる工程を含むシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法において、シリコン単結晶基板とシリコン単結晶薄膜間の深さ方向の抵抗率変化が急峻で、抵抗率の遷移幅が小さいシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of further improving uniformity of a mask pattern size on the entire wafer surface and lowering variation in opening width of a contact window on the entire wafer surface when forming the contact window to improve the product yield and quality even when a higher step and a large area pattern are formed.例文帳に追加

高段差で大面積のパターンが形成される場合でも、ウェハ全面でのマスクパターン寸法の均一性をさらに向上させることができるとともに、コンタクト窓形成の際にウェハ全面でコンタクト窓の開口幅ばらつきを低減することができ、製品歩留を改善しかつ製品品質をより向上させることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the substrate for the optical recording medium is characterized to shape so that the W/D variation of a guide groove (W: width of groove of the guide groove, D: depth of groove of the guide groove) in whole recordable area remains within 5% by using a stamper on which a groove is incised and becomes deeper toward the outer periphery from the inner periphery.例文帳に追加

スタンパに刻まれた溝が内周から外周に向かって深くなっているスタンパを用いて、記録可能領域全面における案内溝のＷ／Ｄ（Ｗ：案内溝の溝幅、Ｄ：案内溝の溝深さ）変化量が５％以内となるように成形することを特徴とする光記録媒体用基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a seat reclining apparatus for a vehicle capable of coaxially connecting a pair of left/right hinge pins and a connecting pipe, and absorbing variation in the vehicle width direction by inserting the pair of left/right hinge pins from inside the vehicle seat and connecting a connection portion formed at the inner ends of the hinge pins facing each other to the connecting pipe.例文帳に追加

左右一対のヒンジピンを車両シートの内側から挿通可能とするとともに、ヒンジピンの互いに対向する内側端に形成した結合部をコネクティングパイプに結合することにより、左右一対のヒンジピンとコネクティングパイプとを同一軸心上に整列でき、かつ車両幅方向のバラツキを吸収できる車両用シートリクライニング装置を提供する。 - 特許庁

The laminated ceramic capacitor having the high electrostatic capacity and also having the excellent DC bias characteristic is obtained by not varying a c/a value of barium titanate in raw ceramic powder as much as possible and keeping a c/a value of the powder after calcining and a variation width of the c/a value of the dielectric layer in the laminated ceramic capacitor within a prescribed value.例文帳に追加

セラミック原料粉末中のチタン酸バリウムのｃ／ａ値をなるべく変化させず、仮焼後の粉末におけるｃ／ａ値、ならびに積層セラミックコンデンサ中の誘電体層のｃ／ａ値の変化幅を所定の値以内とすることにより、静電容量が高くかつＤＣバイアス特性に優れた積層セラミックコンデンサが得られる。 - 特許庁

To provide a light source driving device in which a light modulation waveform is hardly deviated by variation of pulse width or the like caused by distortion of a light modulation control signal waveform, skewness, and signal transmission at the time of high speed recording and high density recording for an information recording medium, and high speed performance can be realized without increasing a cost.例文帳に追加

情報記録媒体に対する高速記録及び高密度記録時、光変調制御信号波形の歪み，スキュー，信号伝送によるパルス幅の変動等によって光変調波形が所望値からずれるのを抑制し、高速化などの要求に対してもコスト，性能などを犠牲にすることなく実現できる光源駆動装置を提供する。 - 特許庁

In an electronic component mounting line, where a plurality of electronic component mounters are linked, when a production tact time detected at the tact-detecting section 7 of each mounter delays over a preset variation width, a tact time alteration signal is delivered to other electronic component mounter on the upstream side/downstream sides linked through a communication section 8.例文帳に追加

電子部品実装用装置を複数連結した電子部品実装ラインにおいて、各装置においてタクトタイム検出部７によって検出された生産タクトタイムが予め設定された変動幅を超えて遅延したならば、通信部８によって連結された上流側・下流側の他の電子部品実装用装置に対してタクトタイム変更信号を出力する。 - 特許庁

The sense signal is validated when it is generated from the detection sensor within valid periods W1, W2 provided in a predetermined time width during a pattern variation period showing a game result, and the sense signal is invalidated when the sense signal is not generated within the valid periods (S201, S203, S205).例文帳に追加

遊技結果を示す図柄変動期間中に所定の時間幅で設けた有効期間Ｗ１、Ｗ２内に、前記検出センサからセンス信号が発生した場合には前記センス信号を有効扱いとし、前記センス信号が前記有効期間内に発生しない場合には前記センス信号を無効扱いとして処理する（Ｓ２０１、Ｓ２０３、Ｓ２０５）。 - 特許庁

To reduce an oppressive sensation due to large forward overhang of the locus of the moving extreme end of a folding door operated to open and close, further enlarge the range of application, deal with variation of the opening width of a door fitting frame profitably in manufacturing cost, and facilitate an assembling work.例文帳に追加

開閉操作される折戸の先端移動軌跡が前方に大きく張り出す事に起因する圧迫感を軽減することができるばかりでなく、適用範囲も拡大することができ、しかも、扉取付け枠の開口幅寸法の変動に対しても製造コスト面で有利に対応することができるとともに、組付け作業の容易化も図る。 - 特許庁

To provide an etching device of a plated substrate excellent in cost and space in which thickness of a copper foil is uniformized for coordinated etching, so that the problem of variation, error, failure in circuit width, for example, are settled as a first merit for a circuit of fine, high-density, and precision which is realized easily and simply as a second merit.例文帳に追加

第１に、銅箔の厚みが均一化され、もって平均化されたエッチングが実現されて、例えば回路幅の過不足・バラツキ・誤差・不良等が解消され、高密度，微細，精細な回路が形成されると共に、第２に、しかもこれが簡単容易に実現され、コスト面やスペース面にも優れた、メッキ基板のエッチング装置を提案する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having good scratch resistance in a developer, excellent in resolution and tenting property, ensuring small variation in line width, providing a high-definition pattern, and excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、線幅のバラツキが小さく、高精細なパターンが得られ、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

An AC voltage which is larger than an AC voltage adapted to the driving of a vehicle is commanded so that the pulse width of PWM control can be increased, and output currents to a motor 4 are increased (torque variation permission overvoltage protection processing), and simultaneously the phase of PWM control is adjusted so that the torque of the motor 4 can be prevented from being increased (torque fixed overvoltage protection processing).例文帳に追加

車両の駆動に適合する交流電圧よりも大きな交流電圧を指令することでＰＷＭ制御のパルス幅を広げてモータ４への出力電流を増大したり（トルク変動許容過電圧保護処理）、同時にＰＷＭ制御の位相を調整することでモータ４のトルクが増大しないようにしたり（トルク一定過電圧保護処理）する。 - 特許庁

To obtain a passive Q switch laser device exhibiting excellent reliability of vibration resistance, shock resistance, and the like, in which continuous adjustment of the pulse frequency or control of the pulse output timing is achieved without changing the output energy or the pulse width per pulse, and the frequency can be adjusted automatically even for the output degradation due to the lifetime of an excitation source or the temperature variation.例文帳に追加

１パルスあたりの出力エネルギーおよびパルス幅を変えることなく、連続的なパルス周波数の調整やパルス出力タイミングの制御を実現し、耐振動性や耐衝撃性などの信頼性に優れるとともに、励起源の寿命による出力劣化や温度変動などに対しても、自動的に周波数調整が可能な受動Ｑスイッチレーザ装置を得る。 - 特許庁

To make settings regarding parameters, such as the frequency of a timing generator output signal and timing characteristics (e.g. delay times, pulse width or the like), parameter variation values for varying nominal parameter values supplied from a microprocessor 50 to respective functional units 20 to 40 in real time are also supplied directly to the respective functional units, in addition to the nominal parameters.例文帳に追加

本発明によれば、タイミング発生器出力信号の周波数やタイミング特性（例えば遅延時間やパルス幅など）のようなパラメータに関する設定を行うのに、マイクロプロセッサ５０から各機能単位２０〜４０へ供給される公称パラメータ値に加えて、これをリアルタイムに変動させるためのパラメータ変動値も各機能単位へダイレクトに供給することによって実施される。 - 特許庁

Leakage of supply ink can be prevented surely by equalizing the mutual interval of ink supply openings 10a-e provided in the bottom face of ink containing chambers 2a-e regardless of the width thereof and sealing these ink supply openings 10a-e with a common tape 15 thereby eliminating variation of bonding between the tape 15 and the ink supply openings 10a-e.例文帳に追加

インク収容室２ａ〜ｅの巾の如何に拘りなく、これらの底面に設ける各インク供給口１０ａ〜ｅ相互の間隔を等しくするとともに、これらのインク供給口１０ａ〜ｅを共通のテープ１５により封止して、このテープ１５とインク供給口１０ａ〜ｅとの接合のバラつきをなくして、インク供給漏れを確実に防止することができるようにしたもの。 - 特許庁

When information is recorded in a medium to be recorded, the medium is recorded and reproduced using a plurality of recording conditions accompanying variation of power or pulse width, an approximate curve is obtained from a plurality of characteristic values obtained consequently, inspection of recording quality for the medium is performed based on margin quantity obtained from position relation of the approximate curve and the threshold value.例文帳に追加

記録対象とするメディアに情報の記録を行う際には、該メディアをパワーまたはパルス幅の変化を伴う複数の記録条件を用いて記録再生し、その結果得られた複数の特性値から近似曲線を求め、前記近似曲線と前記閾値との位置関係で求められるマージン量に基づいて、前記メディアに対する記録品位の検査を行う。 - 特許庁

To provide a slurry coating method for a catalyst carrier capable of conducting slurry coating at the specified coating width from one end of the catalyst carrier without being affected by the variation of porosities of carrying layers in the catalyst carriers, and preventing the overlap of both slurry coats in the middle part even when the coating of different kinds of slurry is conducted at both ends of the catalyst carrier.例文帳に追加

課題は、各触媒担体間での担持層の気孔率の変動に影響されずに、常に触媒担体の一端から所定のコート幅でスラリーをコートでき、しかも触媒担体の両端部に異なる種類のスラリーをコートする場合でもその中間部で両方のスラリーのコートが重なる等することのない、触媒担体のスラリーコート方法を提供することである。 - 特許庁

The dishwasher includes the step for determining the amount of the dishes 3 by detecting the width of temperature of heated washing water lowered by being circulated by a washing water pump 8 and contacting with the tableware 3 by the temperature sensor 13; thereby the volume of the dishes 3 can be determined without being influenced by the fluctuation of the wattage of the heater 11 and the variation of the power source voltage.例文帳に追加

加熱された洗浄水が洗浄ポンプ８により循環されて食器３と接することにより下がる温度の幅を温度センサ１３で検知することにより、食器３の量を判定する工程を備えたものであり、ヒータ１１のワット数のばらつきや電源電圧の変動に影響を受けずに食器３の容量の判定を行うことができる。 - 特許庁

A frequency-divided signal generation means 31 divides a reference frequency N times by a positive integer N, and the N time-divided signal is used as a reference AC signal of a phase detection section 22 so as to reduce the variation width step of a settable Doppler frequency, enable an operator to minutely adjust the Doppler frequency, and consequently collect accurate Doppler information.例文帳に追加

分周信号発生手段３１により、基準周波数を正の整数ＮでＮ倍分周し、このＮ倍分周信号を、位相検波部２２の参照交流信号として用いるので、設定可能なドップラ周波数の変化幅ステップを小さなものとし、オペレータがドップラ周波数を詳細に調整することを可能とし、ひいては正確なドップラ情報の収集を行うことを実現させる。 - 特許庁

Furthermore, the central control part 12 makes an approximation formula which expresses time transition based on detected data or the time transition of average value, variation width and stability about the detected data, calculates time when value of the approximation formula reaches a prescribed value and thereby estimates stable operation establishing time of an electron source, and displays the estimated stable operation establishing time on a display 18.例文帳に追加

また、中央制御部１２は、前記検出データ、または、その検出データについての平均値、変動幅、安定度などの時間推移に基づき、それらの値の時間推移を表す近似式を求め、その近似式の値が所定の値に達する時刻を算出することによって電子源の安定稼働到達時刻を推定し、その推定した安定稼働到達時刻を表示装置１８に表示する。 - 特許庁

The process management method includes steps of: (A) calculating wiring resistance and wiring capacitance in a condition where manufacturing dispersion of the width and thickness of the wiring is represented by points on a predetermined equal probability circle of a joint probability density function; and (B) specifying a variation range RNG of the wiring resistance and the wiring capacitance caused by the manufacturing dispersion based on the calculated wiring resistance and wiring capacitance.例文帳に追加

そのプロセス管理方法は、（Ａ）配線の幅及び厚さの製造ばらつきが同時確率密度関数の所定の等確率円上の点で表されるという条件の下で、配線抵抗及び配線容量を算出するステップと、（Ｂ）算出された配線抵抗及び配線容量に基づいて、製造ばらつきに起因する配線抵抗及び配線容量の変動範囲ＲＮＧを規定するステップとを含む。 - 特許庁