「antireflection layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an antireflection film which is sufficiently reduced in luminous reflectance, exhibits light color in reflection color, is superior in visibility and is suppressed from the occurrence of an iris pattern due to interference fringes of interface reflected light of a hard coat layer.例文帳に追加

視感反射率が十分に低減された反射防止フィルムであって、反射色が淡色で、視認性に優れ、且つハードコート層の界面反射光の干渉縞による虹彩模様の発生が抑えられた反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁

The antireflection film is formed via lamination by applying a primer solution containing a silane coupling agent on the optical component and drying the applied solution so as to form a primer layer and subsequently applying a sol liquid obtained by hydrolyzing an alcoholate compound in alcohol thereon and drying the sol liquid.例文帳に追加

光学部品上にシランカップリング剤を含むプライマー溶液を塗布、乾燥してプライマー層を形成した後、アルコラート化合物をアルコール中で加水分解して得られるゾル液を塗布、乾燥して反射防止膜を積層して形成する。 - 特許庁

The antireflection coating has a low-refractive index layer made of a cured coating of copolymer (A) which comprises a main chain consisting of only carbon atoms and side chains of (meth)acryloil group, and fluorine-containing multifunction monomer (B).例文帳に追加

（Ａ）主鎖が炭素原子のみからなり、かつ、含フッ素ビニル構成成分と側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する構成成分とを含んでなる共重合体および（Ｂ）含フッ素多官能モノマーとの硬化皮膜よりなる低屈折率層を有する反射防止膜。 - 特許庁

To provide a multilayer antireflection film which is capable of obtaining a reflectivity of ≤1% at a wavelength of 400 to 800 nm by a multilayer having the same optical film thickness and layer constitution for substrates different by refractive indexes, and an optical component having the same.例文帳に追加

屈折率の異なる基板に対しても同一の光学膜厚及び層構成を有する多層膜により、波長400〜800 nmで１％以下の反射率が得られる多層反射防止膜及びこれを有する光学部品を提供すること。 - 特許庁

The organic antireflection layer 103 contains a fluorine-containing silane compound, a silica fine particle having internal voids and metal complex salt containing aluminum as a principal metal.例文帳に追加

有機系反射防止層１０３は、フッ素含有シラン化合物、内部空洞を有するシリカ微粒子およびアルミニウムを中心金属とする金属錯塩を含有し、第二のプライマー層１０４は、化学式Ｖ−Ｓｉ−（Ｘ^３）_３で表されるビニルシランを含有している。 - 特許庁

By plasma of a mixture gas of a first gas including He etc. but not Cl_2 and a SO_2 gas, the surface layer part of the side and top surface of the resist pattern is etched and at the same time, the antireflection film is etched to its bottom surface using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

Ｃｌ_２を含まず、Ｈｅ等を含む第１のガスとＳＯ_２ガスとを含む混合ガスのプラズマにより、レジストパターンの側面及び上面の表層部をエッチングすると共に、レジストパターンをマスクとして反射防止膜をその底面までエッチングする。 - 特許庁

The composition for forming the antireflection film which is disposed below a resist film and reduces reflected light from the lower layer side of the resist film in the production of a semiconductor device contains a light absorbing antireflection component containing at least a substituted calixarene derivative or an inclusion complex of a substituted calixarene derivative and a substituted fullerene derivative.例文帳に追加

半導体装置の製造において、レジスト膜よりも下層に設けられて、前記レジスト膜の下層側からの反射光を抑制する反射防止膜を形成する組成物であって、少なくとも置換型カリックスアレン誘導体を含む、あるいは、置換型カリックスアレン誘導体と置換型フラーレン誘導体の包接錯体を含む光吸収性反射防止成分を含有する反射防止膜形成用組成物とする。 - 特許庁

The light absorbing antireflection body 10 comprises a light absorbing film 12 formed on a substrate 11 and containing fine pigment particles and fine particles having a high refractive index and an antireflection multilayer film 13 formed on the light absorbing film 12 as a multilayer structure 14, 15 including an electrically conductive thin film as at least the layer 14. and having function to attenuate reflected light to incident light by interference.例文帳に追加

基材１１上に形成された顔料微粒子及び高屈折率の微粒子を含む光吸収膜１２と、この光吸収膜１２上に多層構造１４，１５で形成され、かつその少なくとも１つの層１４が導電性薄膜から成り、光干渉によって入射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜１３とから成る光吸収性反射防止体１０を構成する。 - 特許庁

In the antireflection film, in which an antireflection layer having at least one high refractive index region and at least one low refractive index region thereon are formed on a substrate film, the low refractive index region on the surface has 1.3 to 1.5 refractive index, contains silicon, and has a region where the carbon content increases stepwise or continuously toward the surface.例文帳に追加

基材フィルム上に、少なくとも１つの高屈折率領域とその上方に少なくとも１つの低屈折率領域とを有する反射防止層が形成されている反射防止フィルムにおいて、表面の低屈折率領域は屈折率１．３〜１．５であり、かつ珪素を含有し、表面に向かって段階的もしくは連続的に炭素含有量が増加する領域を有することを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

The antireflection film or image display device is obtained by using the antireflection coating having a low-refractive-index layer formed by applying and hardening a composition for coating formation containing a graft copolymer (GP) containing at least one kind among respective repetition units (component (A), component (B), and component (C)) expressed by formula (I) and at least one kind between a hardener and a hardening accelerator.例文帳に追加

式（Ｉ）で示される各繰り返し単位（成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ））を、各々少なくとも一種含有するグラフト共重合体（ＧＰ）、並びに、硬化剤及び硬化促進剤のうちの少なくとも一種を含有する皮膜形成用組成物を塗設、硬化させることにより形成された低屈折率層を有する反射防止膜を用いて、反射防止フィルム又は画像表示装置とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of the anti-glaring antireflection film by imparting unevenness to the surface of a film having an antireflection layer by emboss processing using an embossing plate and a support member, the emboss processing is performed using the embossing plate on the back side opposite to the visual conforming side of the film and an elastic member on the side of the visual conforming side of the film as the support member.例文帳に追加

凹凸板、支持部材を用いたエンボス加工によって、反射防止層を有するフィルムの表面に凹凸を付与する防眩性反射防止フィルムの製造方法において、前記エンボス加工は、凹凸板を、前記フィルムの視認側と反対の裏面側に、また、前記フィルムの視認側に、前記支持部材として弾性部材を用いたエンボス加工であることを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁

The bi-layer structure antireflection film is used when a resist layer is exposed by means of an exposure system which has a wavelength of 190 to 195 nm and has a numerical aperture of ≤1.0, and is formed between the resist layer and the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．０以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The antireflection layered film comprises a hard coat layer and an antistatic low refractive index layer, layered in this order on a transparent support, wherein the antistatic low refractive index layer comprises an actinic ray-curing resin containing a compound having at least a (meth)acryloyloxy group in the molecule and porous conductive fine particles having ≤100 nm particle size and ≤1.40 refractive index n.例文帳に追加

透明支持体上に、ハードコート層、帯電防止性低屈折率層がこの順に積層されてなる反射防止積層フィルムにおいて、前記帯電防止性低屈折率層が、少なくとも（メタ）アクリロイルオキシ基を分子内に有する化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂と、粒径１００ｎｍ以下で屈折率ｎが１．４０以下の多孔質導電性微粒子からなることを特徴とする反射防止積層フィルムである。 - 特許庁

In the near-infrared ray absorption filter constituted by successively laminating a surface layer (A) having an antireflection function, base material film (B) and a near-infrared ray absorption layer (C), the layer (C) contains pigments having maximal absorption in a near-infrared ray absorption region whose wavelength is 800 to 1000nm and a surfactant whose HLB is 2 to 12.例文帳に追加

反射防止機能を有する表面層（Ａ）、基材フィルム（Ｂ）、近赤外線吸収層（Ｃ）が順次積層されてなる近赤外線吸収フィルターであって、上記近赤外線吸収層（Ｃ）は、波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線吸収領域に極大吸収を有する色素、およびＨＬＢが２〜１２の界面活性剤を含有してなるものであることを特徴とする近赤外線吸収フィルターである。 - 特許庁

The antireflection film is constituted by laminating a transparent supporting body and the low refractive index layer having a lower refractive index than the transparent supporting body, and further laminating an overcoat layer including a graft copolymer (GP) incorporating repetition units [component (A), component (B) and component (C)] shown by an expression (I) by at least one kind respectively on the low refractive index layer.例文帳に追加

透明支持体および透明支持体よりも低い屈折率を有する低屈折率層が積層されている反射防止膜であって、該低屈折率層の上に式（Ｉ）で示される各繰り返し単位（成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ））を、各々少なくとも一種含有するグラフト共重合体（ＧＰ）を含むオーバーコート層がさらに積層されていることを特徴とする反射防止膜を用いて画像表示装置を得る。 - 特許庁

The antireflection film comprises: a transparent film including irregularities formed on one surface of a transparent substrate; and a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the transparent substrate and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the high refractive index layer, which are provided in this order on the one surface of the transparent film.例文帳に追加

透明基材の一方の面に凹凸を形成してなる透明フィルムの当該一方の面に、前記透明基材の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層とをこの順に備えてなり、前記凹凸が透明基材を変形する事により形成されたものであり、下記［１］〜［２］を満たす反射防止フィルム。 - 特許庁

In the laser guide 10 for transmitting laser light from a laser generation source, guide constituting members 11a 14 are provided at the optical path of laser light, and the light incident surface and light emitting surface of the guide constituting members 11a, 14 are coated with antireflection films 15, 16 each composed of a mutual stacked body of a high refractive index layer and a low refractive index layer.例文帳に追加

レーザー発生源からのレーザー光を伝送するための加工機用レーザーガイド１０は、レーザー光の光路にガイド構成部材１１ａ，１４が設けられ、そのガイド構成部材１１ａ，１４の光入射面及び光出射面が高屈折率層と低屈折率層との交互積層体で構成された反射防止膜１５，１６で被覆されている。 - 特許庁

The silicon nitride film as the first layer is made to contain the Si-H group more to make it harder to desorb H_2 from the silicon nitride film and the CAP effect that the film density of the silicon nitride film as the second layer is increased to prevent H_2 from being discharged to the outside is increased to enhance H_2 passivation of the antireflection film of the silicon nitride films.例文帳に追加

第１の層の窒化シリコン膜のＳｉ−Ｈ基の含有の程度を高めることによってＨ_２が窒化シリコン膜から脱離し難くし、また、第２の層の窒化シリコン膜の膜密度を高くすることによってＨ_２の外部への放出を防ぐＣＡＰ効果を高めることによって、窒化シリコン膜の反射防止膜のＨ_２パッシベーションを高める。 - 特許庁

To provide a composition containing inorganic oxide fine particles containing inorganic oxide fine particles and a polymerizable monomer exhibiting (I) antireflection property, (II) excellent adhesiveness to a substrate, (III) a function as a hard coat layer and (IV) excellent total luminous transmittance, particularly on a glass surface, as well as sufficiently achieving the above functions in a single layer.例文帳に追加

特にガラス表面において、Ｉ．反射防止能を有し、ＩＩ．基材への密着性に優れ、ＩＩＩ．ハードコート層としての機能を有し、ＩＶ．全光線透過率に優れ、しかも単層でこれらの機能を満足させ、無機酸化物微粒子と重合性モノマーとを含有する無機酸化物微粒子含有組成物を提供することを目的としている。 - 特許庁

In the light emitting diode element comprising the light emitting diode chip and the cover layer formed on the surface, the cover layer is provided with an antireflection function to light emitted from the light emitting diode chip, the thickness is ≤50 μm and the absolute value of the temperature coefficient of a refractive index is ≤15×10^-6/°C.例文帳に追加

本発明の発光ダイオード素子は、発光ダイオードチップと、その表面に形成された被覆層とを備えた発光ダイオード素子において、被覆層は、発光ダイオードチップから出射された光に対する反射防止機能を備え、厚さが５０μｍ以下であり、かつ、屈折率の温度係数の絶対値が１５×１０^-6／℃以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The antireflection laminate includes a transparent base material and a low-refractive index layer formed on one surface of the transparent base material and containing zeolite, wherein the particle diameter of the zeolite is 5 to 200 nm, crystallinity of zeolite is ≥0.64, the content of the zeolite is 5 to 95%, and the refractive index of the low refractive index layer is 1.20 to 1.40.例文帳に追加

透明基材と、透明基材の片面に形成されたゼオライトを含む低屈折率層を備え、ゼオライトは粒径５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、結晶化度が０．６４以上であり、ゼオライトの含有量が５％以上９５％以下であり、低屈折率層の屈折率が１．２０以上１．４０以下であることを特徴とする反射防止積層体。 - 特許庁

To provide an antireflection laminate which has good mechanical properties sufficient to endure a daily use, an optically functional laminate using the same and a display unit using the same by laminating a transparent ceramic thin layer of high refractive index and a transparent ceramic thin layer of low refractive index alternately together on at least one side of a substrate to form a laminated anti-reflective film.例文帳に追加

基材上の少なくとも片側に透明な高屈折率セラミック薄膜層と低屈折率セラミック薄膜層を交互に積層させた反射防止膜において、日常の使用に耐えられる十分な機械強度特性を有した反射防止積層体、それを用いた光学機能性積層体およびそれを用いた表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polarizing plate having a polarizing film produced by a coating method with high shearing stress and featuring that the polarizing film is hardly scratched but easily processed and that the film gives high yield during manufacturing and excellent productivity, to provide a method for manufacturing the polarizing plate, and to provide an optical element having an antireflection layer and an antistatic layer by using the polarizing plate having excellent processing property.例文帳に追加

塗布方式で高いずり応力により偏光膜を製造し、その偏光膜が傷がつきにくく、加工し易く、製造中の収率が高く、生産性に優れた偏光板及びその製造方法、更に該加工性の優れた偏光板を使用して反射防止層や帯電防止層を有する光学要素を提供する。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material which is for a multilayer resist process, especially for a double layer resist process or a triple layer resist process, which functions as an excellent antireflection film especially against exposure with short wavelength light, that is, having high transparency and most suitable n and k values, and further is excellent in etching resistance in substrate working.例文帳に追加

多層レジストプロセス用、特には二層レジストプロセス用又は三層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an optical resin film which comprises forming a functional layer that has an excellent adhesiveness and a fast drying property and causes no change in the physical and chemical properties of a substrate on the substrate, and also to provide a hard coat film and an antireflection film which are manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

基材の上に密着性に優れ、乾燥性が早く、且つ、基材の物理化学特性を変化させないで機能層を形成する光学用樹脂フィルムの製造方法と、この製造方法により製造されたハードコートフィルム、反射防止フィルムの提供。 - 特許庁

To provide a coating type antireflection film in which a low refractive index layer having a low refractive index can be formed on transparent resin film in a short period of time without deteriorating the transparent resin film, and which can be consecutively produced and is excellent in abrasion resistance and chemical resistance.例文帳に追加

透明樹脂フィルムを劣化させることなく、短時間で透明樹脂フィルムに屈折率の低い低屈折率層を成膜することができ、連続生産が可能で、耐擦傷性、耐薬品性等にも優れた塗工型反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a polarizing film, high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated to form an antireflection layer on at least one surface of a web type polarizing film composed of a polarizer protected by a protective film.例文帳に追加

偏光子を保護フィルムにて保護した構成のウェブ状偏光フィルムの少なくとも片面に、高屈折率層と低屈折率層が交互に積層させた反射防止層を設けることを特徴とする偏光フィルムの製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide an optical film and antireflection film including an antistatic layer that has high film strength, high hard coat property, high transparency, high antistatic property, high heat resistance, high moist heat resistance, and high light resistance, to provide a polarizing plate using this, and to provide an image display device.例文帳に追加

膜強度が強く、ハードコート性、透明性、帯電防止性に優れ、かつ耐熱性、耐湿熱性、耐光性に優れた帯電防止層を備えた光学フィルム及び反射防止フィルム、これを用いた偏光板、並びに画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

Moreover, the element has a first electrode (64) formed of silicide, electrically connected to the first conductivity-type semiconductor substrate or the semiconductor layer, covered by an upper film (59), constituting the antireflection film (57), and formed along the surface of the isolation region (55).例文帳に追加

さらに、第１導電型の半導体基板または半導体層に電気的に接続され、反射防止膜（５７）を構成する上層膜（５９）で被覆されて分離領域（５５）の表面に沿って形成されたシリサイドによる第１電極（６４）を有する。 - 特許庁

To provide a film having significantly decreased cracks, improved curling, and little decrease in conductivity in a conductive film or an antireflection film having a metal oxide nitride layer deposited on a polyester film as an optical film to be used for various kinds of display devices.例文帳に追加

各種表示装置に用いられる光学フィルムとしてのポリエステルフィルム上に金属酸窒化物層を設けた導電性フィルム、反射防止フィルムにおいて、クラックが著しく低減され、カールも改善され、導電性の低下も少ないフィルムを提供すること。 - 特許庁

The antireflection film bas a low refractive index layer 1 having a refractive index of 1.30-1.55, containing 50-95 mass % short fiber-shaped inorganic fine particles 11 and 5-50 mass % polymer 12 and having microvoids 13 formed among the inorganic fiber particles.例文帳に追加

短繊維状無機微粒子（１１）を５０〜９５質量％、およびポリマー（１２）を５〜５０質量％含み、該短繊維状無機微粒子間に微細な空隙（１３）が形成されている屈折率が１．３０〜１．５５の低屈折率層（１）を有する反射防止膜。 - 特許庁

The method of producing an antireflection layer includes a step for coating at least one side of a resin substrate with dispersion liquid containing fine particles having peroxidized surfaces, and a step for making the fine particles adhere to the surface of the substrate by external stimulation treatment.例文帳に追加

樹脂基材の少なくとも片面に、表面が過酸化された微粒子を含む分散液を塗布する工程と、外部刺激処理によって前記微粒子を固着させる工程とを少なくとも含むことを特徴とする反射防止層の製造方法。 - 特許庁

To provide a laminated polyester film for transferring reflection prevention suitable as a base film used for a transferring antireflection film provided on a display screen such as LCD, PDP, and an organic EL, the polyester film having a release layer having a small precipitation amount of oligomer due to heating.例文帳に追加

加熱によるオリゴマーの析出量が少ない離型層を有し、ＬＣＤ、ＰＤＰ、有機ＥＬ等の表示画面上に設けられる転写用反射防止フィルムに用いられるベースフィルムとして好適な転写性反射防止用積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The porous glass 1 includes a porous layer 2 which is mainly composed of silica and which has pores attributed to spinodal phase separation and pores attributed to binodal phase separation, which is industrially utilized as an optical material having various optical functions such as antireflection.例文帳に追加

シリカを主成分とし、スピノーダル型の相分離由来の孔およびバイノーダル型の相分離由来の孔が形成された多孔質層２を有する反射防止など様々な光学機能を有する光学材料として工業的利用される多孔質ガラス１。 - 特許庁

The antireflection film includes an acrylic resin layer comprising a polymerized product of a polymerizable composition which contains hollow silica fine particles having an acryloyl group and/or a methacryloyl group on the surfaces and an acrylic monomer having an acryloyl group and/or a methacryloyl group.例文帳に追加

アクリロイル基及び／又はメタクリロイル基を表面に有する中空シリカ微粒子と、アクリロイル基及び／又はメタクリロイル基を有するアクリル系モノマー、を含む重合性組成物の重合生成物からなる、アクリル系樹脂層を含むことを特徴とする反射防止膜。 - 特許庁

The optically readable optical disk 1 is provided with an antireflection layer 11 consisting of continuous patterns of fine ruggedness at a pitch smaller than the wavelength of a signal reading laser on an optical reading surface of a disk substrate 10.例文帳に追加

この発明の光ディスクは、光学読み取りが可能な光ディスク１において、ディスク基板１０の光学読み取り面上に、信号読み取り用のレーザーの波長より小さいピッチで微細な凹凸の連続パターンからなる反射防止層１１が設けられている。 - 特許庁

Since the elastic adhesive such as a modified silicone resin is used as the base of the antireflective coating material constituting the internal antireflection layer 14, excessive stress of the antireflective coating material which causes peeling can be absorbed.例文帳に追加

内面反射防止層１４を構成する反射防止用塗料の母材として例えば変成シリコーン系樹脂等の弾性接着剤を用いることによって、剥離の原因となる反射防止用塗料の過大な応力を吸収することを可能とする。 - 特許庁

The coating agent for forming the low-refractive index layer of the antireflection film comprises a radically polymerizable compound and 0.5-9.0 wt.% of an ethylenic unsaturated group-containing acidic phosphoric acid ester in the solid content of the coating agent.例文帳に追加

反射防止フィルムの低屈折率層を形成するための塗工剤において、該塗工剤がラジカル重合性化合物と、塗工剤の固形分中に０．５〜９．０重量％のエチレン性不飽和基を有する酸性リン酸エステルとを含有していることを特徴とする。 - 特許庁

To form an antireflection layer, having a low refractive index on the surface of a substrate and to provide a low reflective substrate, having high transmittance for visible rays by the method of supersaturation precipitation that the substrate is brought into contact with a silicon oxide supersaturated aqueous solution of hydrosilicofluoric acid to precipitate a silicon dioxide film on the substrate surface.例文帳に追加

珪弗化水素酸の酸化珪素飽和水溶液と基板とを接触させて基板表面に二酸化珪素被膜を析出させる過飽和析出法により、基板表面に低屈折率の反射防止層を形成して可視光透過率の高い低反射基板を提供する。 - 特許庁

The organic substrate with light absorptive antireflection film and the manufacturing method thereof are characterized by building up of an adhesive layer 12 comprising principally of a nitride of silicon, a light absorptive film 13 and a low refractive index film 15, on a plasma-surface-treated organic substrate 10, in this order from the substrate side.例文帳に追加

表面がプラズマで処理された有機基体１０上に、基体側から、ケイ素の窒化物を主成分とする密着層１２、光吸収膜１３、低屈折率膜１５が順に形成された光吸収性反射防止膜付き有機基体とその製造方法。 - 特許庁

Al_2O_3 films 72 being antireflection film for reducing reflectance on first, third and fifth layers and TiOx films 73 being light absorbing layer for reducing transmittance on second, fourth and sixth layers are alternately laminated above a fine rugged periodic structure 33 on a transparent base plate 31.例文帳に追加

透明基板３１上の微細凹凸周期構造３３上には、第１、３、５層に反射率を低減させるための反射防止膜であるＡｌ_2Ｏ_3膜７２と、第２、４、６層に透過率を低減させるための光吸収層であるＴｉＯｘ膜７３を交互に積層する。 - 特許庁

The display front panel 40 comprises a transparent substrate 20, an antireflection film 30 prepared by applying coating liquid including an antireflective material on the viewer side of the transparent substrate 20, and a design layer 10 that is provided on the viewer side of the transparent substrate 20 and that forms the non-display area.例文帳に追加

表示用前面板４０は、透明基板２０と、透明基板２０の観察者側に反射防止材料を含む塗布液が塗布されることで設けられた反射防止膜３０と、透明基板２０の観察者側に設けられて非表示領域を形成する意匠層１０と、を備えている。 - 特許庁

To provide a plastic optical member which can be obtained by molding a thermoplastic resin in a metal mold having a fluoropolymer layer formed on a transferring surface, which can be mass-produced and which excels in transferability, a mold release properties and further, in adhesion to inorganic dielectric films, such as antireflection films.例文帳に追加

転写面にフッ素系ポリマー層が形成された金型を使用して、熱可塑性樹脂を成形して得られた量産可能な光学系部材であって、転写性、離型性に優れ、さらには反射防止膜等の無機誘電体膜との密着性に優れるプラスチック光学系部材を提供する。 - 特許庁

In the alignment method of a semiconductor device utilizing aluminium interconnect lines 30 on the uppermost layer of a semiconductor substrate 10 as an alignment pattern for trimming, thickness of an antireflection film 30a on the surface of the aluminium interconnect lines 30 is set in the range of 200-400 Å.例文帳に追加

半導体基板１０上の最上層のアルミニウム配線３０をトリミング用のアライメントパターンとして利用する半導体装置のアライメント方法において、上記アルミニウム配線３０の表面の反射防止膜３０ａの膜厚を２００Å〜４００Åとする。 - 特許庁

Further, an organic polymer material film 30 for burying the hole pattern and accelerating an etching velocity except a dye component is formed, and its upper layer is coated with an organic antireflection material film 32, thereby forming a uniform film by a multi-stage process.例文帳に追加

さらに、ホールパターン埋め込み用で、かつ色素成分を除いてエッチング速度を大きくしている有機系高分子材料膜３０を形成し、その上層に有機系反射防止材料膜３２を塗布することにより、多段階プロセスで均一な膜を形成することができる。 - 特許庁