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「body-region」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索
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body-regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3155



例文

An N^+-type source region 7 is formed with an interval to the periphery of the body region 4 at the surface layer section of the body region 4.例文帳に追加

ボディ領域4の表層部には、N^+型のソース領域7がボディ領域4の周縁との間に間隔を空けて形成されている。 - 特許庁

At an element formation region 9 surrounded by the deep trench 6, a P-type body region 10 and an N^--type drift region 11 made of a residual region other than the body region 10 are formed.例文帳に追加

ディープトレンチ6に取り囲まれる素子形成領域9には、P型のボディ領域10と、このボディ領域10以外の残余の領域からなるN^−型のドリフト領域11とが形成されている。 - 特許庁

A p-body region 203a, a p^+emitter region 203c, and an n^+emitter region 204a are formed in the region 213a, and a p-body region 203c, a p^+emitter region 203d, and an n-hole barrier region 211 are formed in the region 213b.例文帳に追加

半導体領域213aにはpボディ領域203a、p+エミッタ領域203c及びn+エミッタ領域204aが形成されており、半導体領域213bにはpボディ領域203c、p+エミッタ領域203d及びn正孔バリア領域211が形成されている。 - 特許庁

The p-type body region 50a and a p-type base region 220 are connected electrically.例文帳に追加

p型ボディ領域50aと、p型ベース領域220とは、電気的に接続されている。 - 特許庁

例文

An n-type body region 52a and an n-type collector region 230 are connected electrically.例文帳に追加

n型ボディ領域52aと、n型コレクタ領域230とは、電気的に接続されている。 - 特許庁


例文

Hereby, the current between the body region and the source region can be low suppressed.例文帳に追加

よって、ボディ領域とソース領域との間の電流を低く抑えることができる。 - 特許庁

At a surface layer section of the body region 10, an N^+-type source region 12 is formed.例文帳に追加

ボディ領域10の表層部には、N^+型のソース領域12が形成されている。 - 特許庁

The gate electrode 18 is opposed to the body region 8 with the channel region 14 interposed therebetween.例文帳に追加

ゲート電極18は、チャネル領域14を介してボディ領域8に対向している。 - 特許庁

The peripheral edge region 20b is a region disposed inside the recess 11a of the frame body 11.例文帳に追加

周縁領域20bは、枠体11の凹部11a内に配されている領域である。 - 特許庁

例文

At a surface layer of the body region 6, an N-type source region 13 is formed.例文帳に追加

ボディ領域6の表層部には、N型のソース領域13が形成されている。 - 特許庁

例文

A p-type body region 50a is electrically connected to an n-type source region 120.例文帳に追加

p型ボディ領域50aと、n型ソース領域120とは、電気的に接続されている。 - 特許庁

A p-type body region 50a and an n-type source region 120 are connected electrically.例文帳に追加

p型ボディ領域50aと、n型ソース領域120とは、電気的に接続されている。 - 特許庁

An impurity concentration of the anode region 10 is higher than that of the body region 12.例文帳に追加

アノード領域10の不純物濃度は、ボディ領域12の不純物濃度よりも濃い。 - 特許庁

The p-type body region 50a is electrically connected to a p-type base region 220.例文帳に追加

p型ボディ領域50aと、p型ベース領域220とは、電気的に接続されている。 - 特許庁

In an epitaxial layer 3, an N^--type region 4 and a body region 5 are formed.例文帳に追加

エピタキシャル層3には、N^−型領域4およびボディ領域5が形成されている。 - 特許庁

The trench 7 penetrates the body region 6 and its bottom reaches the drift region 5.例文帳に追加

トレンチ7は、ボディ領域6を貫通し、その底部がドリフト領域5に達している。 - 特許庁

At that time, the source diffusion region 3 is not formed at the corners of the body diffusion region 2.例文帳に追加

その際、ボディー拡散領域2の角部にはソース拡散領域3を形成しない。 - 特許庁

Therefore, a current which flows between the body region and the source region can be lessened.例文帳に追加

よって、ボディ領域とソース領域との間の電流を低く抑えることができる。 - 特許庁

In the top layer of the body region 13, a P type source region 14 is formed.例文帳に追加

ボディ領域13の表層部には、P型のソース領域14が形成されている。 - 特許庁

In the semiconductor device 101, a first transistor TR1A of an SOI structure has a source region, a drain region, a body region positioned between the source region and the drain region, and a gate electrode positioned above the body region.例文帳に追加

半導体装置101は、SOI構造の第1のトランジスタTR1Aは、ソース領域と、ドレイン領域と、ソース領域およびドレイン領域間に位置するボディ領域と、ボディ領域の上方に位置するゲート電極とを有する。 - 特許庁

The plurality of transistor cells each have a source region 15, a body region 14 disposed between the source region 15 and the drift region 12, and a gate electrode 16 disposed so as to be insulated from the source region 15 and the body region 14.例文帳に追加

トランジスタセルは、それぞれ、ソース区域15と、ソース区域15と上記ドリフト区域12との間に配置されるボディ区域14と、ソース区域15およびボディ区域14から絶縁して配置されるゲート電極16とを有する。 - 特許庁

An IGBT region 20 has a p^+-type collector region 30a, an n^--type drift region 34a, a p-type body region 36a, and an n^+-type emitter region 46.例文帳に追加

IGBT領域20は、p^+型のコレクタ領域30aと、n^−型のドリフト領域34aと、p型のボディ領域36aと、n^+型のエミッタ領域46を有する。 - 特許庁

Along the gate insulation film 42, the drift region 26, the first additional semiconductor region 36, the drift region 26, the body region 32, and the emitter region 34 are arranged sequentially.例文帳に追加

ゲート絶縁膜42に沿って、ドリフト領域26、第1付加半導体領域36、ドリフト領域26、ボディ領域32、エミッタ領域34が順に並んでいる。 - 特許庁

The semiconductor device 100 includes an N^+-type source region 31, a contact P^+-type region 32, an N^+-type drain region 11, a P^--type body region 41 and an N^--type drift region 12.例文帳に追加

半導体装置100は,N^+ ソース領域31,コンタクトP^+ 領域32,N^+ ドレイン領域11,P^- ボディ領域41およびN^- ドリフト領域12を備えている。 - 特許庁

The semiconductor device 100 comprises an n^+-type source region 31, an n^+-type drain region 11, a p^--type body region 41 and an n^--type drift region 12.例文帳に追加

半導体装置100は,N^+ ソース領域31,N^+ ドレイン領域11,P^- ボディ領域41およびN^- ドリフト領域12を備えている。 - 特許庁

A trench offset region 2 is formed in an N-type drift region 5 of a P-type body region 4 side viewed from an N-type drain region 14.例文帳に追加

N型ドレイン領域14から見てP型ボディ領域4側のN型ドリフト領域5内にトレンチオフセット領域2が形成されている。 - 特許庁

The semiconductor device 300 is provided with an n^+ source region 31, an n^+ drain region 11, a p^- body region 41 and an n^- drift region 12.例文帳に追加

半導体装置300は,N^+ ソース領域31,N^+ ドレイン領域11,P^- ボディ領域41およびN^- ドリフト領域12を備えている。 - 特許庁

A body region 15 is formed inside the drain region 121, an N-type source region 16 is formed inside the body region 15, and a gate electrode 20 is disposed on a channel region between the drain region 121 and the source region 16, thereby forming the LDMOS.例文帳に追加

ドレイン領域121内にボディ領域15が形成され、ボディ領域15内にN型ソース領域16が形成され、ドレイン領域121とソース領域16間のチャネル領域上にゲート電極20が配置され、LDMOSが形成される。 - 特許庁

The IGBT has an n-type emitter region, a p-type body region, an n-type drift region, a p-type collector region, and a gate electrode opposed to the body region, within a range wherein the emitter region and drift region are isolated, with an insulating film interposed.例文帳に追加

IGBTは、n型のエミッタ領域と、p型のボディ領域と、n型のドリフト領域と、p型のコレクタ領域と、エミッタ領域とドリフト領域を分離している範囲のボディ領域に絶縁膜を介して対向しているゲート電極を有している。 - 特許庁

A body bias generating circuit 13 supplies a body potentially Vbody-n to the body region of a PMOS transistor MP.例文帳に追加

ボディバイアス生成回路13は、PMOSトランジスタMPのボディ領域へ、ボディ電位Vbody_nを供給する。 - 特許庁

When the region constituting the human body is hidden, the likelihood of the human body is decided, based on the likelihood for the human body when the candidate for the region is selected.例文帳に追加

人体を構成する部位が隠れている場合の人体らしさは、部位の候補が選ばれるときの人体らしさに基づいて決められる。 - 特許庁

The diffusion region 14 extends to a depth reaching the back face of an element region 31 from the front face of the element region 31 in body regions 6a, 16a between the emitter region 12 and the drift region 22, and divides the body region 6, 16 into a first region 6 in contact with the emitter region 12 and a second region 16 in contact with the drift region 22.例文帳に追加

拡散領域14は、エミッタ領域12とドリフト領域22の間のボディ領域6a、16a内において素子領域31の表面から素子領域31の裏面に達する深さまで伸びており、ボディ領域6、16をエミッタ領域12に接する第1領域6とドリフト領域22に接する第2領域16に分離している。 - 特許庁

The SOI active region is electrically connected to the external body contact through a semiconductor region under the partially isolated region and is capable of eliminating the floating body effects.例文帳に追加

SOI活性領域は部分分離領域下の半導体領域を通して、外部のボディコンタクトと電気的に接続され、フローティングボディ効果を除去できる。 - 特許庁

A P-type second impurity region 15 is formed by the body region 6 of the semiconductor layer 2 apart from the body region 6.例文帳に追加

また、半導体層2におけるボディ領域6の側方には、P型の第2不純物領域15がボディ領域6から分離して形成されている。 - 特許庁

A depletion layer formed between the N+-type layer 4 and the body region 9 extends to the body region 9.例文帳に追加

また、N^+型層4とPボディ領域9との間に形成される空乏層は、Pボディ領域9側に延びている。 - 特許庁

A trench 5 is formed in a P type body region 4.例文帳に追加

P型のボディ領域4には、トレンチ5が形成されている。 - 特許庁

A stress relief region is formed in the bent beam body.例文帳に追加

曲げ梁本体内に応力緩和領域が形成される。 - 特許庁

A device including a body region is defined with an etching process.例文帳に追加

ボディ領域を含むデバイスを、エッチング・プロセスによって定める。 - 特許庁

the region of the body of a vertebrate between the thorax and the pelvis 例文帳に追加

胸部と骨盤の間の脊椎動物の身体の部分 - 日本語WordNet

of a self-governing body, the action of declaring its region a nuclear-free zone 例文帳に追加

自治体がその地域の非核地帯化を宣言すること - EDR日英対訳辞書

STRUCTURE FOR CREATING CAVITY IN BODY INTERIOR REGION例文帳に追加

内部身体領域で空洞を作製するための構造体 - 特許庁

On the surface layer of p body region 4, an n^+ emitter region 5 and a p^+ contact region 6 are provided adjacently.例文帳に追加

pボディ領域4の表面層には、n^+エミッタ領域5とp^+コンタクト領域6とが接するように設けられている。 - 特許庁

The power transistor device further includes a first region, a drift region that adjoins a top surface of the buffer layer, and a body region.例文帳に追加

パワートランジスタデバイスはさらに、第1の領域と、バッファ層の上面に隣接するドリフト領域と、ボディ領域とを含む。 - 特許庁

In addition, in the semiconductor device 100, an n^- middle region 14b and a p^- second body region 18 are arranged between the p^- body region 13 and the n^- drift region 14a.例文帳に追加

また,半導体装置100では,P^- ボディ領域13とN^- ドリフト領域14aとの間に,N^- 中間領域14bおよびP^- 第2ボディ領域18が配置されている。 - 特許庁

The first body contact region 21, the source region 23, the second body contact region 24, and the drain region 26 are arranged in this order along one direction of a surface layer part of a semiconductor layer 20.例文帳に追加

第1ボディコンタクト領域21、ソース領域23、第2ボディコンタクト領域24、及びドレイン領域26は、半導体層20の表層部を一方向に沿ってこの順で並んでいる。 - 特許庁

A small-band gap region 18, made of a band gap material smaller than a p-type body region 14, is formed in the p-type body region 14 so that the small-band gap region 18 is contacted with a source electrode 26.例文帳に追加

p型ボディ領域14にp型ボディ領域14よりバンドギャップが小さい材料からなる小バンドギャップ領域18をソース電極26に接するように形成する。 - 特許庁

An IGBT 100 has an n-type floating region 15 that is provided in a p-type body region 14 and parts the body region 14 in a direction for connecting a base region 13 and an emitter region 16.例文帳に追加

IGBT100は、p型のボディ領域14内に設けられており、ベース領域13とエミッタ領域16を結ぶ方向においてボディ領域14を分断しているn型のフローティング領域15を備えている。 - 特許庁

The body region 13 has a first body region 12, having a first depth D12 and a second body region 10 having a second depth D10 deeper than the first depth D12.例文帳に追加

ボディ領域13は、第1深さD12を有する第1ボディ領域12と、第1深さD12よりも深い第2深さD10を有する第2ボディ領域10を有している。 - 特許庁

In a trench-gated power MOSFET, a body region 107 is formed within a mesa between adjacent trenches, the body region 107 having doping concentration established such that the body region 107 is not fully depleted at drain voltage.例文帳に追加

トレンチゲート型パワーMOSFETに、隣接するトレンチ間のメサ内部に、ドレイン電圧で完全に空乏領域化しないようなドープ濃度のボディ領域107を形成する。 - 特許庁

例文

In the semiconductor device 1, a body region 22 of an N^- type, a drain region 23a and a source region 23b of a P^+ type, and a body contact region 24 of an N^+ type disposed on the side of the source region 23b in the view from the body region 22 are formed inside the silicon layer 13 of the SOI substrate 10.例文帳に追加

半導体装置1においては、SOI基板10のシリコン層13内に、N^−型のボディ領域22、P^+型のドレイン領域23a及びソース領域23b、ボディ領域22から見てソース領域23b側に配置されたN^+型のボディコンタクト領域24が形成されている。 - 特許庁




  
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