「deposition reduction」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

BARRIER FILM DEPOSITION OVER METAL FOR REDUCTION IN METAL DISHING AFTER CMP例文帳に追加

ＣＭＰ後の金属ディッシングを減少させるための金属上のバリア膜付着 - 特許庁

This allows high-speed deposition of the titanium oxide thin film without reduction of deposition speed even when sufficient oxygen is introduced, unlike conventional sputtering which is switched to an oxide mode to reduce deposition speed.例文帳に追加

これにより十分な酸素を導入しても通常のスパッタリングのように酸化物モードになって成膜速度が低下することはなく、酸化チタン薄膜の高速成膜が可能となる。 - 特許庁

In addition, the deposition of the metallic particles by the reduction of ferrite is preferable.例文帳に追加

また、フェライトを還元することにより前記金属粒子を析出させる方法が好ましい。 - 特許庁

To obtain a sputtering apparatus which can suppress reduction in the quality of a film formed on a film deposition object.例文帳に追加

成膜対象物に形成される膜の膜質の低下が抑えられたスパッタリング装置を得ること。 - 特許庁

To provide a barrier type film small in reduction of adhesion strength of a deposition layer in a bag for bag-in-box using a deposition film which is provided with an inorganic compound deposition layer with a deposition base material formed of a biaxially oriented polyamide film.例文帳に追加

二軸延伸ポリアミドフィルムを蒸着基材とし、無機化合物蒸着層を設けた蒸着フィルムを用いたバッグインボックス用バッグにおいて、前記蒸着層の密着強度の低下の小さいバリア性フィルムを提供することである。 - 特許庁

To stably and effectively prevent a film deposition material adhered during film deposition from being peeled and suppress the reduction of productivity and the increase of film deposition cost accompanied with cleaning of an apparatus or replacement of parts and the like when a thin film having a large internal stress is formed by the vacuum deposition apparatus.例文帳に追加

真空成膜装置で内部応力が大きい薄膜を成膜する際に、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止し、装置クリーニングや部品の交換などに伴う生産性の低下や成膜コストの増加を抑える。 - 特許庁

To attain the reduction of film deposition cost and the improvement of film deposition efficiency in an Si oxide film or the like suitable for an optical thin film at the time of film-depositing the Si oxide film or the like by sputtering.例文帳に追加

光学薄膜に好適なＳｉ酸化膜等をスパッタ成膜するにあたって、Ｓｉ酸化膜等の成膜コストの低減および成膜効率の向上を図る。 - 特許庁

To suppress the intrusion of garbage such as decomposed matter and by-products causing a black point defect during film deposition; and to prevent the reduction of a vapor deposition rate.例文帳に追加

暗点欠陥の原因となる分解物質や副生成物などのゴミが成膜中に混入することを抑制し、さらに蒸着レートの低下を防ぐことを目的とする。 - 特許庁

To provide a plasma CVD deposition apparatus which can freely select the benefit from the improvement of a film property and deposition speed of a film or the benefit from the reduction in damage caused by cleaning of a chamber.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ成膜装置において、膜の膜特性や成膜速度の向上と、クリーニングによる損傷の低減との両有用性を選択自在に取得する。 - 特許庁

To provide a screen mask for vapor deposition, capable of meeting the recent demand for high definition patterning and contributing to cost reduction, a vapor deposition method, and a method for manufacturing an organic EL(electroluminescent) device.例文帳に追加

高精細なパターニングに対応可能で、コスト低減に寄与することができる蒸着用スクリーンマスク、蒸着方法及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate holding stand where the reduction of a film deposition range can be suppressed even when a glass substrate having high thermal expansion is used, and to provide a film deposition method using the same.例文帳に追加

熱膨張が大きいガラス基板を用いても成膜範囲の減少を抑えることができる基板保持台及びこれを用いた成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma vapor deposition method with which vapor deposition can be performed at an electric current lower than that in the conventional method, the reduction of energy can be achieved, a film deposition damage is reduced, and also, radiant heat to a base material can be reduced, and to provide a vapor deposition film deposited by the method.例文帳に追加

従来の方法に比べて低電流で蒸着することができ、低エネルギー化を図ることが可能であり、成膜ダメージを低減し、かつ基材への輻射熱の低減が可能な、プラズマ蒸着方法及び該方法により形成された蒸着膜を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for film deposition capable of film deposition of only a desired material, of reduction in manufacturing cost by enhancing use efficiency of the material and of enabling deposition of a film with high uniformity, in the case of carrying out film deposition by light irradiation.例文帳に追加

光照射による成膜を行う場合において、所望の材料のみが成膜されることを可能にし、材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させると共に、均一性の高い膜を成膜することが可能な成膜用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system capable of securely preventing the reduction of the cooling effect of a target caused by thermal deformation.例文帳に追加

熱変形によるターゲットの冷却効果の減少を確実に防止することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To solve the task of a thin film deposition apparatus such as price reduction of the apparatus, high productivity, space saving and maintenance.例文帳に追加

薄膜製造装置の低価格化、高い生産性、省スペース化の課題、ならびにメンテナンス性の課題を解決する。 - 特許庁

To provides a method for manufacturing a dielectric film, which reduces a leak current value while suppressing the reduction in a relative permittivity, suppresses the reduction in a deposition rate caused by the reduction in a sputtering rate, and also provides excellent planar uniformity.例文帳に追加

比誘電率の低下を軽減しつつリーク電流値を低減し、スパッタ率の低下による堆積速度の減少を抑制し、かつ、面内均一性に優れた誘電体膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a process by which, if deposited by electron-beam deposition process, optimization of relation between splash intensity and deposition (evaporation) rate is achieved while achieving reduction of material cost and productivity improvement.例文帳に追加

電子ビーム蒸着法にて蒸着しても、スプラッシュ程度と成膜（蒸発）速度との最適化を図ることができ、同時に、材料コストの低減と生産性向上とを図る。 - 特許庁

To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) film deposition process where a metal film can be deposited by CVD according to oxidation-reduction reaction with sufficient reducibility without passing through a complicated process.例文帳に追加

複雑なプロセスを経ることなく十分な還元性をもって酸化還元反応によるＣＶＤにより金属膜を成膜することができるＣＶＤ成膜方法を提供すること。 - 特許庁

The transparent conductive film 2, oxidation coloring film 3, electrolytic film 4, reduction coloring film 5, and transparent conductive film 6 are formed by vacuum vapor-deposition, ion plating, ion assisted vapor-deposition, sputtering, etc.例文帳に追加

透明導電膜２、酸化発色膜３、電解質膜４、還元発色膜５、透明導電膜６が、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法等で成膜される。 - 特許庁

Next, a polar electrode 12 formed of copper is formed by a metal film forming method so-called the Metal Chloride Reduction Chemical Vapor Deposition (MCR-CVD) method on the upper surface of connecting pad of wiring 7 within the aperture 11 of the overcoating film 10.例文帳に追加

次に、オーバーコート膜１０の開口部１１内の配線７の接続パッド部上面に、塩化金属還元気相成長（ＭＣＲ−ＣＶＤ：Metal Clloride Reduction Chemical Vapor Deposition）法と呼ばれる金属成膜法により、銅からなる柱状電極１２を形成する。 - 特許庁

To provide a method for depositing a Cu film having a realistic film deposition temperature and a realistic film deposition rate and preventing the phenomenon that the reduction of migration on the surface of a Cu film occurs during film deposition, and Cu is flocculated and is grown to an island shape.例文帳に追加

半導体プロセスとして現実的な成膜温度と成膜レートを有し、成膜中にＣｕ膜表面マイグレーションの減少が生じてＣｕが凝集し、島状に成長することを防止したＣｕ膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system that allows reduction of costs by improving the utilization efficiency of a material gas by the use of a long- lived catalytic body in a simple manner and applying high-speed film deposition even to large-sized parts and also to provide a film deposition method using the same.例文帳に追加

長寿命の触媒体を簡便に使用することで、原料ガスの使用効率を高め、大型部品に対しても高速で成膜することによって低コスト化の可能な成膜装置とこれを用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

Precipitation-deposition of a compound on a cathode electrode 33 is prevented, which prevents reduction in the electrolyzing performance of the ozone producing device 4 and prevents reduction in the generation ability for ozone water.例文帳に追加

そして、陰極電極３３への化合物の析出・付着を防止して、オゾン水製造装置４の電気分解性能の低下を防ぎ、オゾン水の生成能力の低下を防ぐ。 - 特許庁

To provide a film forming device capable of simply applying vapor deposition to a larger substrate, contributing to cost reduction.例文帳に追加

大型化の基板に対して簡便に蒸着を行うことが可能で、コスト削減に寄与することが可能な膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To efficiently produce alkali metal-doped selenium particles that are free from bumping or reduction in a vacuum degree even when used for vacuum vapor deposition.例文帳に追加

真空蒸着に用いる場合にも突沸が起きず、真空度の低下が起こらないアルカリ金属ドープセレン粒子を効率よく製造する。 - 特許庁

To provide a writing utensil using an aqueous ink including dye in which the deposition of the dye caused by the reduction of the pH of the ink in an pen tip can be suppressed.例文帳に追加

染料を使用した水性インキを使用した筆記具で、ペン先のインキのｐＨ低下に伴う染料の析出を抑えること。 - 特許庁

To detect an end point without being affected by the deposition of reaction products on a transparent window or the reduction of a treatment area or the like.例文帳に追加

透明窓への反応生成物の堆積、または処理面積の減少などによる影響を受けずに終点検出を可能にする。 - 特許庁

In this emission control device, a reduction of an adsorption performance of NOx accompanying with a deposition of SOx is generated in a catalyst 33b provided on an exhaust passage 33 of an engine 11.例文帳に追加

エンジン１１の排気通路３３に設けられた触媒３３ｂには、ＳＯxの付着に伴うＮＯx の吸着能力低下が生じる。 - 特許庁

This manufacturing method is characterized by having a dispersion solution adjustment process, a buffering agent addition process, and a reduction-deposition process.例文帳に追加

本発明の製造方法は、分散溶液調整工程と、緩衝剤添加工程と、還元析出工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for an aluminum member or an aluminum alloy member which causes no reduction of film deposition performance, and a sliding member.例文帳に追加

皮膜生成能力が低下することがないアルミニウム部材又はアルミニウム合金部材の表面処理方法及び摺動部材を提供する。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a thin film deposition device which enables reduction of labor for maintenance works and shortening of downtime.例文帳に追加

メンテナンス作業の労力を低減するとともに、ダウンタイムを短くすることができる薄膜形成装置の洗浄方法等を提供する。 - 特許庁

A CDV-Cu film is deposited onto monovalent copper amidinate as a film deposition raw material at a low temperature and also at a practical film deposition rate, using carboxylic acid having high reduction capacity to monovalent copper amidinate as a reducing agent.例文帳に追加

成膜原料である１価のアミジネート銅に対し、還元剤として１価のアミジネート銅に対する還元能力が高いカルボン酸を用い、低温でかつ実用的な成膜レートでＣＶＤ−Ｃｕ膜を成膜する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus capable of inhibiting contamination in the vapor deposition apparatus and of suppressing the reduction in characteristics and yield of a wafer to be processed, and a semiconductor device constituted using such a wafer.例文帳に追加

本発明は、気相成長装置内の汚染を抑え、被処理ウェーハおよびこれを用いて構成される半導体装置の特性、歩留りの低下を抑えることが可能な気相成長装置を提供する。 - 特許庁

Since the transparent coated layer 12 can readily be formed into a film by a vacuum thin film-forming method such as a deposition polymerization method or a physical deposition method and is suitable for mass production of the lure, cost reduction of the lure production can be performed.例文帳に追加

透明被膜層１２は蒸着重合法や物理的蒸着法といった真空薄膜形成方法で容易に成膜でき、ルアーの大量生産にも適するので、製造の低コスト化が図れる。 - 特許庁

The moisture percentage of the substrate is reduced through the above steps, so that reduction in a vacuum degree near the substrate during vapor deposition is prevented, and thereby, the variations in the refractive index of the metal oxide after vapor deposition can be prevented.例文帳に追加

これらの工程を経由することで、基板の水分率が低下されるため、蒸着時の基板付近の真空度低下が抑制され、蒸着後の金属酸化物の屈折率バラツキを抑えることができる。 - 特許庁

To obtain an optical thin film in which interference conditions change slowly even when the solid state deposition of contaminants occurs, and the reduction of optical characteristics is suppressed.例文帳に追加

汚染物質の固相析出が生じても干渉条件の変化が緩やかで透過率等の光学特性の低下の少ない光学薄膜を得る。 - 特許庁

To provide a film deposition system in which the cleaning of a sticking prevention shield can be performed within a chamber without releasing to the atmospheric, and the reduction of maintenance cost can be achieved.例文帳に追加

大気開放することなくチャンバー内で防着シールドのクリーニングを行うことができ、メンテナンスコストの低減を図ることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To prevent a reduction in throughput and a change in wafer deposition sequence in fall back operation control when a problem occurs in one line.例文帳に追加

一つのラインで異常が発生したとき、縮退運転制御においてスループットを低下させず、かつウェハの成膜プロセスの順番が狂わないようにする。 - 特許庁

To provide a plating device where the passivation of an anode electrode can be prevented, and the reduction of current efficiency and the reduction of the film deposition rate in a plating film can be prevented; and to provide a method for producing a semiconductor device.例文帳に追加

アノード電極の不動態化を防止することができ、電流効率の低下およびめっき皮膜の成膜速度の低下を防止することができるめっき装置および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

When a catalyst arranged on a surface of the substrate W is opposed to the reduction chamber 40 or the carbon source chamber 50, reduction treatment or deposition treatment of the carbon nanotube is performed by heating the catalyst.例文帳に追加

基板Ｗの表面に配置された触媒が還元室４０または炭素源室５０に対向しているときには、その触媒を加熱することにより還元処理およびカーボンナノチューブの成膜処理を行う。 - 特許庁

To attain desired engine torque near a full-loading level irrespective of the existence of deposition on a filter, by preventing reduction of a maximum injection quantity, contrary to the conventional manner, in the case where the amount of deposition on the filter is large.例文帳に追加

フィルタへの堆積量が大きいからといって従来と相違して最大噴射量が小さくならないようにし、これによってフィルタへの堆積の有無に拘わらず全負荷付近で望みのエンジントルクが得られるようにする。 - 特許庁

To provide a deposition substrate which allows the reduction of a film thickness while dispensing with an etching step to reduce the cost, and deposits a thin film layer having an uneven structure on a depositing substrate surface, and also to provide a method for manufacturing the same, and a deposition device.例文帳に追加

膜厚の低下を図りつつ、エッチング工程を不要として低コスト化を図り、凹凸構造を有する薄膜層が被成膜基板表面に成膜された成膜基板、その製造方法、および成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin film deposition method and a deposition system therefor where the yield of a plume can be improved by effectively using the plume without any waste, further, even in the case an oxide superconductive thin film with a stacked structure is obtained, a film deposition process can be reduced, and the reduction of the production cost can be attained.例文帳に追加

プルームを無駄なく効果的に使用することで、プルームの収率を向上させることができ、しかも、積層構造の酸化物超電導体薄膜を得る場合においても、成膜工程を短縮することができ、製造コストの低減を図ることができる薄膜の形成方法及び形成装置を提供する。 - 特許庁

A metal oxide and ceramic as a substance having higher thermal conductivity than that of the metal oxide are packed into a cover-fitted crucible having an opening part, and vapor deposition is performed, so as to suppress the intrusion of garbage causing a black point defect during film deposition, and further, the reduction of a vapor deposition rate can be prevented.例文帳に追加

開口部を有する蓋付きの坩堝内に金属酸化物と金属酸化物よりも熱伝導率の高い物質であるセラミックスとを充填して蒸着を行うことで、成膜中に暗点欠陥の原因となるゴミが混入することを抑制し、さらに蒸着レートの低下を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition coating fluid which excels in the adhesion to a printing ink and printability and prevents the reduction of the lamination strength and gas barrier properties of a composite material obtained by laminating a vapor deposited film coated with the vapor deposition fluid and another film through an adhesive.例文帳に追加

印刷インキの密着性と印刷適性が優れ、蒸着液が塗布された蒸着フィルムと他のフィルムを接着剤を介してラミネートした複合材料のラミネート強度およびガスバリア性の低下を防止する蒸着塗布液の提供。 - 特許庁