「deposition reduction」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent the estimating precision of the sulfur deposition amount to a NOx storage reduction type catalyst from being affected by variations in the sulfur content of fuel.例文帳に追加

燃料のイオウ含有量のバラツキによりＮＯｘ吸蔵還元型触媒へのイオウ付着量の推定精度が影響を受けることを排除することを課題とする。 - 特許庁

To provide a CVD system capable of cost reduction by increasing the use efficiency of source gas and uniformly applying film deposition at high speed even to large-sized parts.例文帳に追加

本発明は、原料ガスの使用効率を高め、大型部品に対しても高速で均一に成膜することによって低コスト化の可能なＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film deposition method and a system therefor where the yield of a plume can be improved by effectively using the plume without any waste, thus, productivity in a film deposition process can be improved, and the reduction of production cost can be attained.例文帳に追加

プルームを無駄なく効果的に使用することで、プルームの収率を向上させることができ、その結果、成膜工程における生産性を向上させることができ、製造コストの低減を図ることができる薄膜の形成方法及び形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a carrier which prevents the reduction of an image density just after whem using a two-component developer and hardly occurs carrier deposition on a photoreceptor even in long-term use.例文帳に追加

二成分現像剤を使用する直後の画像濃度の低下を防ぎ、かつ長期の使用においても、感光体へのキャリア付着が起こりにくいキャリアを提供することを課題とする。 - 特許庁

Here, an electrode made by forming a thin film layer (not larger than 2 μm) of platinum on titanium having proper adhesiveness to platinum by a technique, such as plating, vacuum deposition or spattering is used as a reduction electrode 13.例文帳に追加

そこで、メッキ、真空蒸着、又はスパッタ等の手法により、白金と密着性のよいチタンに白金の薄膜層（２μｍ以下）を形成したものを還元極１３とする。 - 特許庁

To provide a silicon substrate for magnetic recording medium which has sufficient resistance to shock, and enables cost reduction without making a fabrication process and deposition process of magnetic recording layer complex.例文帳に追加

充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用シリコン基板を提供すること。 - 特許庁

To reduce dilution of first and second reaction gases to avoid reduction in a deposition rate, wherein the dilution may be caused by a separation gas used to suppress mixing of the reaction gases.例文帳に追加

第１及び第２の反応ガスとの混合を抑制するために使用される分離ガスによって、これらの反応ガスが希釈されるのを低減して、成膜速度の低下を抑える。 - 特許庁

In other words, iron ions are forcibly fed into the plating interface by the insulative bodies 20A and 20B, and then a reduction reaction in which trivalent iron ions are converted into divalent iron ions takes place to suppress the deposition of copper.例文帳に追加

即ち、絶縁体２０Ａ、２０Ｂにより鉄イオンがめっき界面に強制的に供給され、３価の鉄イオンが２価の鉄イオンに成る還元反応が起こり、銅の析出を抑える。 - 特許庁

While deposition of aluminum on inner surfaces of the first grooves 2a is reduced, the processing time is shortened, and the division grooves having a narrow width adaptive to size reduction of the product can be formed.例文帳に追加

第１の溝２ａの内面へのアルミニウムの析出を低減させつつ、加工時間を短縮させるとともに、製品の小型化にも対応した幅の狭い分割溝を形成できる。 - 特許庁

To obtain a reflection surface which realizes high reflectance/cost reduction and high strength/low expansion and has excellent shape accuracy without performing a succeeding process of forming a reflection film by vapor deposition.例文帳に追加

蒸着による反射膜の形成という後工程を行うことなく、高反射率・低コスト化及び高強度・低膨張とともに、優れた形状精度を有する反射面を得る。 - 特許庁

The crystal growth is accelerated and reduction reaction and deposition rate are raised and manufacturing efficiency is raised by subjecting the surface of the seed crystal within a reaction furnace to the blasting treatment and to etching posttreatment.例文帳に追加

反応炉内の種結晶の表面をブラスティング処理を行い、エッチング後処理を行うことにより結晶生成を早め、還元反応・析出速度を高め製造効率を上げる。 - 特許庁

To provide a production apparatus of ozone water and a production method of ozone water, in which precipitation-deposition of a compound on an electrode can be prevented and reduction in the generation ability for ozone water can be prevented.例文帳に追加

電極への化合物の析出・付着を防止してオゾン水の生成能力の低下を防ぐことができるオゾン水製造設備およびオゾン水製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a deposition process (steps S2 and S3), when a first voltage is applied to the processing solution through electrodes, a reduction reaction takes place, and metal ions are separated out as metal at the electrode.例文帳に追加

析出過程（ステップＳ２，Ｓ３）において、電極を介して処理液に第１電圧を印加すると還元反応が生じ、処理液中の金属イオンが金属として電極に析出する。 - 特許庁

To provide a lithium secondary battery manufacturing method preventing a reduction in battery capacity due to deposition of lithium to increase a service life and to stably ensure a high output.例文帳に追加

リチウムの析出による電池容量の低下が防止されて高寿命化を実現でき、かつ高い出力を安定的に確保し得るリチウム二次電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target for depositing an oxide film capable of enhancing the production efficiency of a metal oxide film and thus an optical thin film or the like by suppressing reduction of the film deposition rate of the metal oxide film when performing the sputtering film deposition of the metal oxide film suitable for the optical thin film.例文帳に追加

光学薄膜に好適な金属酸化膜をスパッタ成膜するにあたって、金属酸化膜の成膜速度の低下を抑制することによって、金属酸化膜ひいては光学薄膜等の生産効率を高めることを可能にした酸化膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming the film 20 on a semiconductor region 19 by an atomic layer deposition method, forming an alumina film 21 on the film 20 by the atomic layer deposition method, annealing the film 21, and film forming a conductive layer 22 on the film 21 in a reduction atmosphere.例文帳に追加

半導体領域１９の上に高誘電率絶縁膜２０をアトミックレイヤーデポジション法により成膜し、高誘電率絶縁膜２０の上にアルミナ膜２１をアトミックレイヤーデポジション法により成膜し、アルミナ膜２１をアニールし、アルミナ膜２１の上に導電層２２を還元雰囲気下で成膜する。 - 特許庁

Because the gas flow sputtering method does not require high vacuum exhausting, it is conducted by using the low cost equipment, and further because high speed sputter deposition is feasible, the electrochromic element is manufactured at a low cost due to reduction of a cost of equipment and shortening of sputter deposition time by adopting the gas flow sputtering method.例文帳に追加

ガスフロースパッタリング法は、高真空排気が不要であるため安価な設備で実施でき、しかも高速成膜が可能であることから、ガスフロースパッタリング法を採用することによる設備費の低減、成膜時間の短縮により、エレクトロクロミック素子を安価に製造することが可能となる。 - 特許庁

To provide a manufacturing apparatus that gives a conductive material with high productivity while preventing reduction in the commercial value of the conductive material by deposition of sludge on a conductive material precursor after developed and preventing reduction in a plating efficiency upon electroless plating.例文帳に追加

現像処理後の導電性材料前駆体にスラッジが付着することによる導電性材料としての商品価値を低下させない、また無電解めっきの際のめっき効率を低下させない、生産性の良い導電性材料が得られる製造装置を提供する。 - 特許庁

The method for forming the refractory metal nitride film, in which the refractory metal nitride film is formed according to a chemical vapor phase deposition method by using a source gas and a reduction gas containing a refractory metallic alkyl amino compound, comprises a step of activating the reduction gas.例文帳に追加

高融点金属のアルキルアミノ化合物を含むソースガスと還元性ガスとを使用して半導体基板上に化学気相成長法により高融点金属窒化膜を形成する高融点金属窒化膜の形成方法であって、還元性ガスを活性化する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for preventing the deposition of an NH_4Cl in CVD apparatus exhaust piping in which the reduction of a running cost, an increase in working efficiency, and/or the reduction of an apparatus cost can be attained when a silicon nitride film (Si_3N_4 film) is formed by using a CVD apparatus.例文帳に追加

ＣＶＤ装置を用いた窒化膜（Ｓｉ_３Ｎ_４膜）の膜付けの実施にあたり、ランニングコストの低減、装置稼働率の向上および／または装置コストの低減が図れるようなＣＶＤ装置排気系配管におけるＮＨ_４Ｃｌの付着防止方法を確立する。 - 特許庁

At a step that the activity of the nickel-based desulfurizer is high at the beginning of start of the desulfurization treatment, it is possible to prevent the reduction of activity by coke deposition at a relatively high temperature region and the reduction of treating efficiency by the gasification of the liquid fuel 111A by performing the desulfurization treatment at a relatively low temperature.例文帳に追加

脱硫処理の開始当初におけるニッケル系脱硫剤の活性が高い段階では比較的に低い温度で脱硫処理して比較的に高温域でのコーク析出による活性の低下や、液体燃料１１１Ａのガス化による処理効率の低下を防止できる。 - 特許庁

To provide a two-component developer and a replenishing developer, capable of suppressing deposition of a carrier on a photosensitive drum, improving dot reproducibility of an electrostatic latent image, suppressing a density reduction at a rear end of a solid image, suppressing a density reduction in an image for long-term use and suppressing scratches on the surface layer of a photoreceptor drum.例文帳に追加

感光ドラムへのキャリア付着の抑制、静電潜像のドット再現性の向上、ベタ画像後端の濃度低下の抑制、長期使用時の画像濃度低下の抑制、感光ドラム表層のキズ抑制を達成できる二成分系現像剤及び補給用現像剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for obtaining a sintered aluminum nitride substrate by simple partitioning, which is free from surface deposition or post-partition strength reduction, and excellent in dimensional accuracy.例文帳に追加

窒化アルミニウム焼結体基板を簡単に分割して、表面への付着物の発生がなく、分割後に強度の低下がなく且つ寸法精度に優れた窒化アルミニウム基板を得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment vessel which does not release oxygen during treatment, and is suitable for performing the reduction step important to the body to be treated, and to provide a thin film deposition method.例文帳に追加

本発明は、処理中に容器から酸素の放出がなく、還元が重要な工程を被処理基体に対して施すために適した処理容器及び薄膜形成方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

Thus, since it is possible to form the interconnections of semiconductor devices without using a mask vacuum deposition method and a photolithography method, the manufacturing method of the semiconductor device in which cost reduction is possible can be obtained.例文帳に追加

このように、マスク蒸着法やフォトリソグラフィ法を用いることなく、半導体装置の配線を形成することができるので、低コスト化が可能な半導体装置の製造方法を得ることができる。 - 特許庁

Therefore, the deposition of pranoprofen crystals during preservation in the low temperature environment is prevented and the eye drop stably keeping the pranoprofen content for a long time without reduction of the content caused by light can be provided.例文帳に追加

低温環境での保存におけるプラノプロフェンの結晶の析出を防止し、さらにプラノプロフェンの光による含量低下を長期にわたり安定に保つ点眼剤を提供することを可能にした。 - 特許庁

To remarkably reduce device cost by the simplification of maintenance operation for the device, the reduction of the time therefor, and the realization of the continuous operation of depositing different kinds of electrically conductive films in the same film deposition chamber.例文帳に追加

装置メンテ作業の簡便化及び時間短縮、及び同一製膜室で異種導電型膜の製膜を連続して行えるようにすることで装置コストを大幅に低減させること。 - 特許庁

To provide a method for producing carbon nanotubes excellent in diameter controllability and for suppressing reduction of the activity and lifetime of a catalyst caused by deposition of amorphous carbon on the periphery of the catalyst.例文帳に追加

直径制御性に優れ、触媒の周囲にアモルファスカーボンが堆積することに起因する触媒の活性や寿命の低下を抑制することが可能なカーボンナノチューブの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Significant stress reduction is achieved by removing the filter from a substrate used in a deposition process in a controlled manner and maintaining structural completeness of the obtained free standing multilayer film structure.例文帳に追加

著しい応力低減は、堆積プロセスで使用される基板からフィルタを制御された態様で取去り、得られる自立形多層膜構造の構造完全性を保持することによって達成される。 - 特許庁

The suppressing effect of the temperature lowering prevents solid deposition in the exhaustion piping 11, effectively prevents reduction of the flow passage cross section of the exhaustion piping 11, and effectively avoids steam-pressure saturation in it.例文帳に追加

その温度低下の抑制効果は、排気配管１１の中の固体析出を防止し、排気配管１１の流路断面積の減少を有効に防止し、その中の蒸気圧飽和を有効に回避する。 - 特許庁

To provide a silicon substrate for magnetic recording medium which reduces cost reduction while having sufficient impact resistance and excellent surface flatness without complicating working process and deposition process of a magnetic recording layer.例文帳に追加

充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供すること。 - 特許庁

To suppress the generation of a parasitic transistor on the upper part of a trench and to suppress the generation of a deposition film which may cause the reduction of yield and can not be easily removed in a method for manufacturing a semiconductor device having shallow trench separation.例文帳に追加

シャロートレンチ分離を有する半導体装置の製造方法において、トレンチ上部の寄生トランジスタの発生を抑えると共に、歩留まり低下の原因となる除去困難なデポジション膜の発生を抑制する。 - 特許庁

To provide an electrode structure for a solid polymer fuel cell capable of suppressing reduction in a power generation property of a fuel cell by suppressing deposition of a ruthenium component from an anode diffusion layer even in a high voltage operation.例文帳に追加

高電位運転においても、Ｒｕ成分のアノード拡散層での析出を抑え、燃料電池の発電性能の低下を抑制することができる固体高分子型燃料電池用電極構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for film deposition of a tin-plated film capable of depositing the tin-plated film having a desired thickness under the processing condition suitable of a printed circuit board by using a reduction type electroless tin-plating bath.例文帳に追加

還元型の無電解錫めっき浴を用いて、プリント配線基板に適した処理条件で、所望とする膜厚を有する錫めっき皮膜を形成させるための錫めっき皮膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To solve problems such as a reduction in the effects of agitation during analysis due to the deposition, high specific gravity, and high viscosity of a crystal caused by a conventional hyaluronic acid measuring method which requires a high salt concentration.例文帳に追加

高い塩濃度を必要とする従来のヒアルロン酸の測定方法によってもたらされる結晶の析出や高比重化、高粘度化による分析中における撹拌効果の低下等の問題点を解決すること。 - 特許庁

Accordingly, deposition of the O3- TEOS oxide film under conditions of the two steps of high and low temperatures enables to obtain a O3-TEOS oxide film with the lower film-substance dependency removed, avoiding reduction of its productivity.例文帳に追加

したがって、Ｏ_3−ＴＥＯＳ膜を高温及び低温の２段階の温度条件下で蒸着することにより、生産性が低下しない下部膜質依存性が除去されたＯ_3−ＴＥＯＳを得ることができる。 - 特許庁

Therefore, coatings 49 and 51 can be easily and surely formed on the end faces 71 and 73 of the piezoelectric element 33 in polymer atmosphere gasified by vapor deposition polymerization, without reduction in the yield of the piezoelectric element 33.例文帳に追加

従って、圧電素子３３の歩留まりを低下させることなく、蒸着重合によるガス化したポリマー雰囲気で圧電素子３３の端面７１，７３にコーティング４９，５１を容易且つ確実に形成することができる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for producing a hot dip plated metal strip by which the defect of buckling in a metal strip can be suppressed while preventing the defect of quality and the reduction of operation efficiency caused by the deposition of dross or the like.例文帳に追加

ドロス付着等による品質不良や操業効率低下を防止しつつ、腰折れ欠陥をも抑制することのできる溶融めっき金属帯の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

In the hydrogen generation material generating hydrogen by contact with water and generating water by contact with hydrogen, a hydrogen storage metal storing-releasing hydrogen by oxidation-reduction is used as a matrix, and at least one of substances selected from metals and metal oxides is added to the surface of the hydrogen storage metal by an ALD (Atomic Layer Deposition) process or an LPD (Liquid Phase Deposition) process.例文帳に追加

水の接触により水素を発生し、水素の接触により水を発生する水素発生材において、酸化還元によって水素を吸蔵・放出できる水素吸蔵金属を母材とし、前記水素吸蔵金属の表面に、金属又は金属酸化物の少なくとも一方の物質がＡＬＤ法又はＬＰＤ法を用いて添加されている。 - 特許庁

Further, the substrate cooling mechanism for cooling the substrate in the reaction chamber is included, due to which the force cooling of the substrate after the film deposition is made possible and the additional reduction of the thermal load exerted on the substrate is made possible.例文帳に追加

更に、反応室内の基板を冷却する基板冷却機構を備えることで、成膜後において基板の強制冷却が可能となり、これにより基板に加わる熱的負荷の更なる低減を図れるようになる。 - 特許庁

To provide a fuel injection valve which prevents the deposition of fuel remaining inside and outside an injection hole in a simple structure, and prevents a reduction in an injection quantity and the deformation of a spray form caused by the adhesion and accumulation of deposits.例文帳に追加

簡単な構造で、噴射孔の内外の残留燃料がデポジット化することを阻止でき、デポジットが付着、堆積し、噴射量の低下や噴霧形状変化が生じることを防止できる燃料噴射弁の提供。 - 特許庁

If the reduction speed of the ingot is lowered linearly at the rate of 0.05-0.2 mm/min at every hour, the foreign matter deposition range in the final coagulation part can be reduced, to thereby prevent crack generation effectively.例文帳に追加

インゴットの引下げ速度の低下を毎時０．０５〜０．２ｍｍ／ｍｉｎの割合で直線的に行なうこととすれば、最終凝固部における異物析出範囲を縮小させ、クラックの発生を効果的に防止することができる。 - 特許庁

The hard material is produced by using a plasma-enhanced chemical vapor deposition method by pulse discharge, and subjecting the oxide of at least one of elements selected from B, Ti, W, and Si to hydrogen reduction, then to nitriding, carbonizing or carbonitriding.例文帳に追加

硬質物質は、パルス放電によるプラズマ化学気相成長法を用いて、Ｂ、Ｔｉ、ＷおよびＳｉから選択される少なくとも１種の元素の酸化物を水素還元し、窒化、炭化または炭窒化させることにより製造される。 - 特許庁

To prevent a reduction in a production yield due to deposition of a flake of a reaction product to a substrate or to a compound semiconductor layer on the substrate in manufacturing of a compound semiconductor using a metal organic vapor phase epitaxy.例文帳に追加

有機金属気相成長法を用いた化合物半導体の製造において、剥がれた反応生成物が基板または基板上の化合物半導体層上に付着することに起因する歩留まりの低下を抑制する。 - 特許庁

To provide a gradient thin film in a compositional ratio using apparatuses which can easily control physical properties of a thin film and improve economic efficiency by shortening of processing time due to a decrease in the number of deposition processes and by reduction in manufacturing cost.例文帳に追加

薄膜の物性制御が容易であり、蒸着工程数の減少による時間節減および製造コストの減少による経済的効果を有する装置を用いて組成比における傾斜型薄膜を提供する。 - 特許庁