「deposition condition」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a simply-built nozzle for removing a skull from a converter nose, a nozzle which can melt and remove the scull by changing the oxygen blowing-out direction according to the condition of deposition of the scull on the converter nose and concentratedly blowing oxygen to the scull.例文帳に追加

転炉炉口の地金の付着状況に応じて酸素吹き出し方向を変更して集中的に酸素を吹き付けて地金を溶融除去することができ、しかも構造が簡単な転炉炉口地金除去ノズルを提供する。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition device comprising a shutter 7 for shielding and opening a space between a heater 4 and a substrate holder 5, wherein control of switching the shutter 7 is optimized to cancel a poor condition of a quality of a film at an initial time of the beginning of forming the film.例文帳に追加

発熱体４と基板ホルダー５間を遮蔽及び開口するためのシャッター７を備えた化学蒸着装置において、シャッター７の開閉制御を最適化して成膜開始初期の膜質の劣悪性を解消する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and manufacturing device of inorganic microcrystals capable of easily controlling the deposition condition and growth condition of the inorganic microcrystals and optimizing the manufacture condition of the inorganic microcrystals as a result by facilitating temperature control in a process of depositing a crystal nucleus and a crystal growth process of growing the crystal on the basis of the crystal nucleus, etc., at the time of continuously manufacturing the inorganic microcrystals.例文帳に追加

無機微結晶を連続して製造する際に、結晶核の析出過程、結晶核を基に結晶成長させる結晶成長過程等における温度制御を容易にすることにより、無機微結晶の析出条件や成長条件を容易に制御することが可能であり、その結果、無機微結晶の製造条件の最適化が可能な無機微結晶の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for vacuum deposition, in which a film-forming condition is recognized by using luminescence from a fluorescent substance, which suitably controls film formation according to the film-forming condition, and stably forms the film having uniform and proper thickness and high quality, when forming the film containing the fluorescent substance, and provide an apparatus.例文帳に追加

蛍光体を含む膜を成膜するに際し、蛍光体の発光を利用して成膜の状態を正確に把握することができ、成膜状態に応じた成膜のコントロールを好適に行って、均一かつ適正な厚さを有する高品位な膜を、安定して成膜することが可能な真空蒸着方法および装置を提供する。 - 特許庁

The vapor deposition of the water-repellent thin film is carried out by heating and vaporizing a fluorine-containing organic silicon compound under the condition that the temperature of the plastic optical member does not exceed the maximum temperature of the plastic optical member in the preceding vapor deposition for the antireflection film, and then by depositing the vaporized fluorine-containing organic silicon compound on the plastic optical member having the antireflection film.例文帳に追加

撥水性薄膜の蒸着は、フッ素含有有機ケイ素化合物を、プラスチック製光学部材の温度が前記反射防止膜蒸着の際のプラスチック製光学部材の最大温度を超えない条件下で加熱して蒸発させ、蒸発したフッ素含有有機ケイ素化合物を前記反射防止膜を有するプラスチック光学部材上に付着させることにより行われる。 - 特許庁

The deposition and processing of the layer is carried out under thermal condition in which one or a plurality of layers deposited and processed underneath, particularly an organic material, is not subjected to a static temperature or a dynamic temperature excessively exceeding limitation for stability.例文帳に追加

層の蒸着及び処理は、すでに蒸着されて処理された下にある単数又は複数の層、特に有機材料を、安定のための限界を超える過度な静的又は動的温度に晒さないような熱的条件下で行われる。 - 特許庁

To provide conductive paste usable for various applications including a conductive bump, electrode formation and the like because any non-deposition part of metal powder is not left and a hardened material excellent in conductivity can be provided even if any hardening condition is used.例文帳に追加

どのような硬化条件を用いても、金属粉の未融着部分が残らず、導電性に優れる硬化物が得られるので、導電性バンプ、電極形成等を含む種々の用途に用いることが可能な導電性ペーストを提供する。 - 特許庁

On the occurrence of a meteorological condition where snow is deposited on the case from a lateral direction particularly for snow storm, the deposition and growing at the surrounding of the camera photographing window can be prevented and the camera can photograph an object while the visual field of camera photographing is not shielded.例文帳に追加

特に吹雪等の横方向から雪が付着するような気象条件になった場合には、カメラ撮影用窓周辺の雪の付着、成長を防止しカメラの撮影する視界が、遮られること無く撮影を行うことができる。 - 特許庁

In a chamber, sputtering is performed to form an erosion area different from that formed under a predetermined deposition condition required for forming a desirable sputtered film on a sputtering surface of the target material containing two or more elements.例文帳に追加

まず、チャンバ内において、複数の元素を含むターゲット材を用いて、所望のスパッタ膜を成膜する所定の成膜条件で形成される浸食領域とは異なる浸食領域がターゲット材のスパッタ面に形成されるように、スパッタリングを行なう。 - 特許庁

To provide a dishwasher capable of restraining an inside of a washing vessel from getting to an insanitary condition, caused by coming-out of an odor of a garbage from the washer, or deposition of various germs onto tableware, even when standing while the garbage is left in a garbage filter.例文帳に追加

残菜フィルターに残菜が残ったまま放置されても、残菜の臭いが機外に出たり、食器に雑菌が付着したりして洗浄槽内が不衛生な状態になることを抑制することができる食器洗い機を提供する。 - 特許庁

In the second condition, the deposition gas including silicon or germanium and hydrogen are supplied to the process chamber while periodically increasing or decreasing the flow rate ratio therebetween, and the pressure in the process chamber is set to 1333 Pa or more and 13332 Pa or less.例文帳に追加

第２の条件は、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体と、水素との流量比を周期的に増減させながら処理室に供給し、且つ処理室内の圧力を１３３３Ｐａ以上１３３３２Ｐａ以下とする条件である。 - 特許庁

A shape formed by repeating the etching process surface migration amount computing step (STEP 12) and the deposition process surface migration amount computing step (STEP 13) until the number of cycles set in the condition setting step (STEP 11) is reached is found.例文帳に追加

エッチングプロセス表面移動量計算ステップ（ＳＴＥＰ１２）とデポジションプロセス表面移動量計算ステップ（ＳＴＥＰ１３）とを条件設定ステップ（ＳＴＥＰ１１）にて設定されたサイクル数繰り返すことにより形成される形状を求める。 - 特許庁

To provide an observatory apparatus having a camera to observe the condition of a target inside a vacuum container in a hot vacuum vapor deposition apparatus which is also applicable to the large vacuum container, capable of continuously operating for a long time by reducing the leakage of vapor.例文帳に追加

高温真空蒸着装置における真空容器内部のターゲットの状態を観測するカメラを備えた観測装置において、大型の真空容器に対しても適用可能で、かつ、蒸気漏洩を低減し長時間連続運転を可能とする。 - 特許庁

In the method for manufacturing the hard carbon film, when depositing the hard carbon film containing the metal element and nitrogen, the deposition condition is controlled using a processing method such as an ion-plating method, a sputtering method, a plasma processing method and an ion implanting method.例文帳に追加

金属元素及び窒素を含有した硬質炭素膜を形成する際に、イオンプレーティング法、スパッタリング法、プラズマ処理及びイオン注入処理等の処理方法を利用し、形成条件を制御する硬質炭素膜の製造方法である。 - 特許庁

A method of manufacturing a silicon thin film comprises the steps of arranging a substrate 1 in a chamber 10, and forming a silicon thin film on the substrate 1 by performing ion beam deposition under a condition of 250°C or less temperature.例文帳に追加

本発明のシリコン薄膜の製造方法は、基板１をチャンバ１０内に配置するステップと、イオンビーム蒸着を２５０℃以下の温度条件で行うことによって前記基板１上にシリコン薄膜を形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an oxide-based superconductive structure capable of manufacturing a superconductive layer having a high critical temperature and high critical current density particularly in a magnetic field at a practically possible deposition rate and in a condition that there is no risk of the occurrence of a crack.例文帳に追加

臨界温度が高く特に磁場中での臨界電流密度の高い超電導層を、実用化可能な成膜速度で、かつ、割れの発生のおそれのない状態で製造可能な酸化物系超電導構造体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Material switching chambers 42 and 82 which are selectively evacuated, communicated with a film forming chamber 10 without breaking the vacuum when gate valves 41, 81 are opened in an evacuated condition, and capable of storing vapor deposition materials from the outside when gate valves 41 and 81 are closed, are provided.例文帳に追加

選択的に真空引きされ、真空引きされた状態でゲートバルブ41，81が開かれると成膜室10に真空を破ることなく連通し、ゲートバルブ41，81が閉じた状態では外部から蒸着材料を収めることのできる材料入替チェンバ42，82を設ける。 - 特許庁

On a housing 9 of a circuit breaker 4, a terminal cover 17 forming a mounting seat 20 is placed, and an earth wire 24 to be led into a distribution board is provided through a mounting screw 23 under the condition where a pressure-deposition terminal 25 is set on a mounting seat 20 of the terminal cover 17.例文帳に追加

回路遮断器４のハウジング９上には、取付座２０を形成した端子カバー１７が載置され、分電盤内に引き込まれるアース線２４は、圧着端子２５を端子カバー１７の取付座２０にセットした状態で、取付ネジ２３に貫通される。 - 特許庁

To provide a method for determining an optimum deposition order by considering a spectral characteristic of an ink, and to provide a method and a device for forming an image each capable of forming a high-density image (an image with a wide color reproduction area) under the condition of an identical ink and an identical amount of a deposited droplet.例文帳に追加

インクの分光特性を考慮して最適な打滴順を決定する方法を提供し、同じインク、同じ打滴量の条件下でより高濃度（広い色再現域）の画像を形成することができる画像形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The product is produced in a way that a metal is evaporated with a predetermined time interval in a vacuum condition, selectively in an oxidizing atmosphere, so that deposition having a desired total thickness is formed on a substrate as a coating consisting of a plurality of discrete adjacent strata.例文帳に追加

この製品を、金属を真空条件下で、選択的には酸化性雰囲気中で、所定の時間間隔を置いて蒸発させ、それにより所望の総厚の堆積を基材上に、複数の個別の隣接する層から成る皮膜として形成して、作製する。 - 特許庁

To provide an electrode structure for a solid polymer fuel cell capable of suppressing reduction of the power generation property of the fuel cell by suppressing deposition of a ruthenium component at an anode diffusion layer even in a condition of shortage of fuel and in a high voltage operation.例文帳に追加

燃料不足状況および高電位運転においても、Ｒｕ成分のアノード拡散層での析出を抑え、燃料電池の発電性能の低下を抑制することができる固体高分子型燃料電池用電極構造体を提供する。 - 特許庁

Before vapor deposition of a thin film on a sheet-like substrate 2 in a substrate holding drum 10, the surface of the substrate 2 is subjected to friction treatment by friction rollers 4, 6, 8 and 9, the surface condition of the substrate 2 is unified, anisotropy is provided thereon or suppressed.例文帳に追加

シート状の基板２が基板保持ドラム１０において薄膜を蒸着される前に、基板２の表面が摩擦ローラー４、６、８、９によって摩擦処理を施されて、基板２の表面状態を均一化し、または、異方性を持たせ、または、異方性を抑制する。 - 特許庁

This heat treatment apparatus is controlled with a programmed temperature profile that represents a relation between elapsing time and programmed temperature, wherein the programmed temperature profile is specified so as to contain both a center high-temperature condition where the temperature of the central part of the substrate is higher under film deposition and a periphery high-temperature condition where the temperature of the peripheral part of the substrate is higher.例文帳に追加

時間の経過と設定温度との関係を表した設定温度プロファイルによって熱処理装置を制御すると共に、設定温度プロファイルとして、成膜中の基板面上の温度分布が基板の中央近傍が高温の中央高温状態と基板の周縁が高温の周縁高温状態の双方が含まれるように規定されたものを用いる。 - 特許庁

A pixel electrode 16 has an end inclined at an inclination angle α (where 30°≤α≤85°), and an organic layer 20 is formed by disposition on the pixel electrode 16 is deposited with deposition beam B which enters a substrate surface 10a at an incident angle θ smaller than (90°-α_max) under a deposition substrate temperature condition lower than a glass-transition temperature of the organic layer 20.例文帳に追加

画素電極１６は、基板１０の基板面１０ａに傾斜角度α（但し、３０°≦α≦８５°）で傾斜する端部を有するものとし、この画素電極１６上に設けられる有機層２０は、その有機層２０のガラス転移温度より低い蒸着基板温度条件下で基板面１０ａに対して（９０°−α_max）より小さい入射角θで入射する蒸着ビームＢにより蒸着してされてなるものとする。 - 特許庁

An infrared ray absorptive layer 2 is formed below a particle size orientation control layer 3 in order to optimize a film-deposition temperature, and the magnetic particle orientation and the particle size distribution of a magnetic layer 4 are improved by using the particle size orientation control layer 3 thus obtained, having a good orientation condition.例文帳に追加

成膜温度を適正化するために、赤外線吸収層２を粒径配向制御層３の下に形成し、その結果得られた配向条件のよい粒径配向制御層３を用いて、磁性層４の磁性粒子の配向、粒径分布の良好な磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

The image forming apparatus includes a control means configured to, based on the detection result obtained by a charging amount detecting means, set a developing condition upon forming the toner band in the non-image area that is not transferred to a sheet so that the toner deposition per unit area on the toner band may be varied.例文帳に追加

帯電量検知手段の検知結果に基づいて、用紙に転写されない非画像領域にトナー帯を形成する際の現像条件を、該トナー帯の単位面積当たりのトナー付着量を変更するように設定する制御手段を有する画像形成装置とする。 - 特許庁

To provide a semi-conductor manufacturing device to improve the quality for forming a film on a wafer by uniformly straightening the flow of a reaction gas, forming a uniform reaction condition on a surface of a susceptor, suppressing adhesion and deposition of non-reacted gas or reaction product, and reducing generation of the dust.例文帳に追加

反応ガスを流れを均一に整流してサセプター上面で均一な反応状態を形成して未反応ガスや反応生成物の付着堆積を抑制し、ダストの発生を低下させてウェーハ上への成膜品質の向上を図った半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

In a method of manufacturing an electrode for a metal melting and deposition type electrochemical display element, an auxiliary compound which can be oxidized and reduced in a pressure condition of 0.01 to 0.5 MPa is fixed to a porous electrode comprising a metal oxide to manufacture the display element.例文帳に追加

金属酸化物から成る多孔質電極に０．０１ＭＰａ以上０．５ＭＰａ以下の範囲の加圧条件下で、酸化還元されうる補助化合物を固定化して作製することを特徴とする金属溶解析出型の電気化学表示素子用電極の製造方法。 - 特許庁

A vaporizer, that quantitatively vaporizes one or more liquid materials and supplies the materials to a CVD deposition apparatus 1, is provided with a quadrupole mass spectrometer 15, that detects the condition of a raw gas during the operation on a gas supply line 5 for vaporizing and supplying the liquid materials.例文帳に追加

１又は複数の液体材料を定量気化してＣＶＤ成膜装置１に供給するものにおいて、前記液体材料を気化し供給するためのガス供給ライン５上に、この原料ガスの状態を装置運転中に検出する四重極型質量分析計１５を設けた。 - 特許庁

To provide a temperature sensing element capable of maintaining the condition where a temperature sensing joined part contacts all the time with an inner face of a tip part of a protecting tube, even when a thermocouple is expanded by elevation of a temperature or contracted by going-down of the temperature, and capable of measuring accurately the temperature, and a vapor phase deposition device using the temperature sensing element.例文帳に追加

熱電対が昇温により膨張しても、降温により収縮しても、常にその測温接合部が保護管の先端部内面に接触した状態を維持でき、正確な測温ができる測温体ならびにこの測温体を用いた気相成長装置を得る。 - 特許庁

To improve worsening of moisture-proofness caused by breakage of a vapor-deposition layer in a moisture-proof protection film to allow usage in a satisfactory condition for a long period, in a radiation image converting panel using stimulable phosphor.例文帳に追加

本発明の目的は、輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルにおいて、防湿性保護フィルムの蒸着層の破壊による防湿性低下が改良され、長期間に渡り良好な状態で使用することの出来る放射線画像変換パネルを提供することにある。 - 特許庁

Thus, the partial pressure of the reaction gas and the bonding ratio between the silicon and metal are previously obtained per film deposition condition such as the kind of the vapor depositing material 31 and the kind of the reaction gas, and the partial pressure of the reaction gas is controlled on the basis of the result, so that the silicide film having a desired bonding ratio can be obtained.例文帳に追加

従って、蒸着材料３１の種類と、反応ガスの種類等の成膜条件毎に、反応ガスの分圧と、ケイ素と金属との結合比率を求めておき、その結果に基づいて反応ガスの分圧を制御すれば、所望の結合比率のシリサイド膜を得ることができる。 - 特許庁

To provide an ozone gas treatment method which can ensure the deposition of a plating metal in electroless-plating treatment, and further can impart stable adhesion strength to the deposited and plated film by treating the surface of a resin substrate with ozone gas on the optimum condition.例文帳に追加

樹脂基材の基材表面にオゾンガス処理を最適な条件で行うことにより、無電解めっき処理において、めっきの析出を確実なものとし、さらには析出しためっき被膜が、安定した密着強度を有することができるオゾンガス処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an incubator for culturing a specimen in a vessel in a chamber controlled to a prescribed environmental condition, effective for preventing the lowering of temperature near a vessel-insertion port caused by the opening of a shutter of the chamber and preventing the deposition of droplets in the case of introducing the vessel into the chamber.例文帳に追加

所定の環境条件に調整されたチャンバーの内部にて容器内の試料を培養するインキュベータにおいて、チャンバーのシャッターが開くことによる容器挿入口付近の温度低下を防止すると共に、容器がチャンバー内へ搬入されたときの水滴の付着を防止する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of coping with a change of fixation performance due to the thickness fluctuation of a recording material, a change of a toner deposition amount and environmental temperature fluctuation by making good use of changes of a fixing operation and a fixing condition in accordance with the recording material thickness setting.例文帳に追加

この発明は、記録材厚さ設定による定着動作、定着条件の変化を利用して、記録材厚さ変動、トナー付着量の変化、及び環境温度変動による定着性の変化に対応することができる画像形成装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

In a CVD method, a selective deposition phenomenon wherein IrO_2 is deposited only on Ir (IrO_2) and hardly deposited on material like SiO_2 in a condition range is used, and the FRAM which is provided with a memory capacitor having an electrode of three-dimensional structure is constituted.例文帳に追加

ＣＶＤ法において、ある条件範囲では、Ｉｒ（ＩｒＯ_2）上にのみＩｒＯ_2が堆積し、ＳｉＯ_2等の材料上ではほとんどＩｒＯ_2は堆積しないという選択的堆積現象を利用して、立体構造の電極を有するメモリキャパシタを備えたＦＲＡＭを構成する。 - 特許庁

The phosphor sheet manufacturing method for form a prescribed phosphor film through the evaporation of a deposition material onto a substrate keeps a dust-proof cover mounted, at least in a condition where the substrate is set on a production unit and is removed, after the start of the vaporization of the deposition material, and then the transport of the substrate is begun to form the phosphor film on the substrate.例文帳に追加

基板上への成膜材料の蒸着により所定の蛍光体膜を形成する蛍光体シートの製造方法であって、少なくとも、前記基板を製造装置上にセットした状態においては防塵用カバーを取り付けておき、前記成膜材料の蒸発開始後に前記防塵用カバーを取り外し、その後に前記基板の搬送を開始し、前記基板上に前記蛍光体膜を形成することを特徴とする蛍光体シートの製造方法。 - 特許庁

Cation exchange materials are synthesized by heating or pressurizing the wastes containing silicic acid components and aluminum components under an alkaline condition to effect reaction and a mixture composed of the resultant cation exchange materials or the cation exchange materials subjected to iron substitution and iron particles is mixed with the wastes in the deposition site and the mixture is buried.例文帳に追加

珪酸成分とアルミニウム成分とを含有する廃棄物を、アルカリ条件下で加熱または加圧して反応させて陽イオン交換物質を合成し、得られた陽イオン交換物質、または該陽イオン交換物質を鉄置換したものと鉄粒子の混合物を堆積場内の廃棄物と混合して埋蔵する。 - 特許庁

In the observatory apparatus having the camera 2 to observer the condition of the target inside the vacuum container 1 in the hot vacuum vapor deposition apparatus, a crucible 6 provided with a water-cooling block 8 therearound is arranged on a bottom of the vacuum container 1, the target 7 placed in the crucible 1 is irradiated with a electron beam to generate the vapor.例文帳に追加

周囲に水冷ブロック８を設けたるつぼ６を真空容器１の底部に配置し、そのるつぼ１内に置かれたターゲット７に電子ビームを当てて蒸気を発生させるようにした高温真空蒸着装置における真空容器１内部のターゲット７の状態を観測するカメラ２を備えた観測装置である。 - 特許庁

This nitride layer reflects an uneven condition of the surface of deposition, and has an uneven surface suitable for electron emission.例文帳に追加

電界を印加することによって電子を放出し得る電子放出用陰極部は、気相堆積法によって電極（１１）上に形成されたＩＩＩ族窒化物層（１２）を含み、この窒化物層は堆積された表面凹凸状態を反映していて電子放出に適した凹凸表面を有していることを特徴としている。 - 特許庁

To stably operate a converter dust collection water system wherein iron scale deposits and sticks in a weak acidic condition where iron-based suspended solid is present, by surely preventing sticking of the iron-based scale by using a scale inhibitor with little adsorption of the iron-based suspended solid and consumption, and with excellent deposition preventive effect of iron ions.例文帳に追加

鉄系懸濁物質が存在する弱酸性条件下で鉄スケールが析出、付着する転炉集塵水系において、鉄系懸濁物質に対する吸着、消耗が少なく且つ鉄イオンの析出抑制効果に優れたスケール防止剤を用いて、鉄系スケールの付着を確実に防止して安定操業を図る。 - 特許庁

To provide a catalyst chemical vapor deposition equipment of such a simple configuration as a shower head is separated from a catalyst supporting part, in which the distance among the shower head, catalyst wire, and substrate can be adjusted as a process optimization condition, equipped with a purging function capable of preventing occurrence of foreign substance at a low temperature part.例文帳に追加

シャワーヘッドと触媒支持部が分離して簡単な構成を持ち、工程最適化条件としてシャワーヘッド、触媒ワイヤ及び基板間の距離調節が可能であり、低温部から発生されうる異物の発生防止が可能になるようにパージング機能が具備された触媒化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁

In a sputtering film deposition apparatus which deposits a film while swinging a magnet 24 nearly parallel to the surface of the target 18, the film is deposited under such a condition that the ratio P/V of sputtering power density P (W/cm^2) to the average swing speed V (cm/s) of the magnet 24 is ≥0.2 (W×s/cm^3).例文帳に追加

ターゲット１８表面に略平行にマグネット２４を揺動させつつ成膜を行うスパッタリング成膜装置において、スパッタリング電力密度Ｐ（ワット／平方センチメートル）と、マグネット２４の平均揺動速度Ｖ（センチメートル／秒）の比Ｐ／Ｖが０．２（ワット・秒／立方センチメートル）以上となる条件で成膜する。 - 特許庁

And then, the toner deterioration degree is calculated by a toner deterioration degree calculating means, based on a variation in toner deposition amount data at the plurality of positions detected by the image-detecting means, and the transfer condition of a secondary transfer means 111 is controlled based on the toner deterioration degree calculated by the toner deterioration degree calculating means.例文帳に追加

そして、トナー劣化度算出手段により画像検出手段により検出された複数箇所のトナー付着量データのバラツキに基づきトナー劣化度を算出し、トナー劣化度算出手段により算出したトナー劣化度に基づき、二次転写手段１１１の転写条件を制御する。 - 特許庁

To provide a coating liquid for positive electrode formation for lithium secondary battery in which dispersion condition of active material particles is improved, and coagulation and deposition of the active material particles due to preservation for a long period are prevented, and high density filling of the active material in the active material layer is realized at the time of forming the active material layer.例文帳に追加

リチウム二次電池の正極形成用塗工液における、活物質粒子の分散状態を改良し、長期間の保存による活物質粒子の凝集および沈殿を防止するとともに、活物質層を形成する場合に、活物質層における活物質の高密度充填を可能にする。 - 特許庁