「different deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To reduce the number of deposition processes of metallic electrodes having respectively different electric characteristics.例文帳に追加

異なる電気的特性を有する金属電極の蒸着工程を低減する。 - 特許庁

To provide an apparatus for simultaneous deposition of thin films on tow or more sides, which apparatus can subject a plurality of deposition surfaces varying in deposition components to simultaneous deposition of different specifications and can improve deposition efficiency by preventing the deformation of a substrate to be induced when only the one side of the substrate is subjected to the deposition.例文帳に追加

成膜部品の相異なる複数の成膜面に対して相異なる仕様の成膜を同時に実施することができ、基板の片面のみに成膜を形成した場合に生起する基板の変形を防止し、成膜効率を向上する複数面同時薄膜成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus which, even for vapor deposition materials having different evaporation quantities and evaporation temperatures, exhibits satisfactory control performance of the heating temperature of the vapor deposition materials, and consequently can highly accurately control the vapor quantity of the vapor deposition materials.例文帳に追加

蒸発量、蒸発温度が異なる蒸着材料であっても、蒸着材料の加熱温度の制御性が良く、蒸着材料の蒸気量を高精度に制御できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

IN SITU DEPOSITION OF DIFFERENT METAL-CONTAINING FILM USING CYCLOPENTADIENYL METAL PRECURSOR例文帳に追加

シクロペンタジエニル金属前駆物質を用いた異なる金属含有薄膜のイン・シトゥー堆積 - 特許庁

The plurality of layers of the SiC thin films 2 to 5 are formed respectively at different film deposition temperatures, and the film deposition temperature is higher as it goes to the external side layer.例文帳に追加

複数層のＳｉＣ薄膜２〜５は、それぞれ異なる成膜温度で形成され、外側の層ほど高い成膜温度である。 - 特許庁

This manufacturing method includes a stage of depositing a deposition film, having a different thickness, and a stage of planarizing the deposition film.例文帳に追加

本製造方法は、相異する厚みを有する蒸着膜を蒸着する段階と、蒸着膜を平坦化させる段階とを含む。 - 特許庁

To provide a film deposition method and an apparatus therefor by which a film deposition can be performed with film deposition patterns different for every film layer when a plurality of vapor-deposited films are formed on the surface of a substrate in a chamber.例文帳に追加

チャンバ内で基板表面に複数の蒸着膜を形成する際に、膜層毎に異なる成膜パターンで膜形成することが可能な成膜方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system for performing different deposition processes within a single chamber.例文帳に追加

シングルチャンバ内で異なる堆積プロセスを実行する方法およびシステムを提供することである。 - 特許庁

To provide an inline-type vapor deposition apparatus which can control a film thickness with high accuracy and also requires only few sheets of masks for vapor deposition even when continuously conducting the vapor deposition onto articles each having a different vapor deposition pattern; a vapor deposition method using a mask; and a method for manufacturing an organic-electroluminescence device.例文帳に追加

膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

It is preferred that the inorganic substance is vapor-deposited in the different film deposition regions on the substrate at the different film deposition rates by successively changing the film deposition regions on the substrate by continuously changing the relative positional relation between the substrate and a deposition-preventive member having an opening portion for limiting the film deposition regions on the substrate.例文帳に追加

前記基板と、基板上の成膜領域を制限するための開口部を有する防着部材との相対的位置関係を連続的に変化させることによって基板上の成膜領域を連続的に変化させて、前記基板上の異なる成膜領域に、異なる成膜速度で無機物を蒸着することが好ましい。 - 特許庁

After the transferring step, an additional layer of a different semiconductor material is deposited on the first deposited layer in the second deposition chamber 26 by using vapor deposition.例文帳に追加

搬送工程の後、異なる半導体材料の追加の層を、第二チャンバ２６において、気相堆積によって第一堆積層の上に堆積させる。 - 特許庁

On the basis of a deposition amount of PM at the start of automatic stop and the PM oxidization amount dgpmstp, a PM deposition amount gpm is calculated at different times (step 260).例文帳に追加

自動停止開始時のＰＭの堆積量と上記ＰＭ酸化量dgpmstpとに基づき、そのときどきのＰＭ堆積量gpmを算出する（ステップ２６０）。 - 特許庁

It is preferable that the moving direction of the vapor deposition holder during the vapor deposition is made different from the scanning direction of laser light in manufacturing a TFT.例文帳に追加

また、ＴＦＴ作製時におけるレーザー光の走査方向に対して、蒸着時における蒸着ホルダの移動方向を異ならせることが好ましい。 - 特許庁

To provide a metal oxide thin film deposition method capable of generating various kinds of metal oxide thin films, in particular, compound metal oxide thin films consisting of metals of different kinds by using the ALD (Atomic Layer Deposition)method without affecting the film deposition speed.例文帳に追加

成膜速度に影響を及ぼすことなく、多種の金属酸化物薄膜、特に異なる種類の金属からなる複合金属酸化物薄膜をＡＬＤ法を利用して生成する。 - 特許庁

Disclosed is the method for manufacturing the alignment layer made of an inorganic substance, the method including a step of depositing a thin film of the inorganic substance on a substrate in an oblique deposition method, the inorganic substance being vapor-deposited in different film deposition regions on the substrate at different film deposition rates.例文帳に追加

無機物から成る配向膜の製造方法であって、斜方蒸着法により基板上に無機物の薄膜を形成する工程を有し、前記基板上の異なる成膜領域に、異なる成膜速度で無機物を蒸着する配向膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus with which one or two of a plurality of mutually different kinds of vapor deposition sources each holding an organic compound can be simultaneously opened and mutual contamination between the plurality of mutually different kinds of vapor deposition sources can be prevented.例文帳に追加

有機化合物を保持する互いに種類の異なる複数個の蒸着源の内の一個、または二個を同時に開放することを可能とすると共に、複数個の蒸着源の相互間での汚染の発生を防止した真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

In the deposition film, on a thin film resin layer, at least two kinds of metal oxide different in deposition film characteristics, preferably alumina indicating deposition film characteristics of high barrier properties and silica indicating deposition film characteristic of so-called barrier properties enduring stretching are deposited multi-dimensionally, and the deposition film characteristics are developed synergistically.例文帳に追加

樹脂薄膜層に、２種以上のそれぞれ蒸着膜特性の異なる金属酸化物、好ましくは高バリア性の蒸着膜特性を示すアルミナと、伸びに耐えるバリア性と言う蒸着膜特性を示すシリカとを多元蒸着し、各金属酸化物の蒸着膜特性を相乗的に発現させた蒸着膜。 - 特許庁

To provide masks for vapor deposition where thin films with different film thicknesses can be deposited per region to be film-deposed by one time of vapor deposition process, to provide a mask vapor deposition method, and to provide a method for producing an organic electroluminescence apparatus.例文帳に追加

１回の蒸着工程により、被成膜領域毎に異なる膜厚の薄膜を形成することのできる蒸着用マスク、マスク蒸着法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

TEOS films of different thickness are formed independently on the opposite sides or TEOS films are formed independently on the opposite sides under different film deposition conditions.例文帳に追加

この際、膜厚の異なるＴＥＯＳ膜を両面に別々に形成するか、または成膜条件の異なるＴＥＯＳ膜を両面に別々に形成する。 - 特許庁

PLASMA ETCHING TREATMENT THAT USES POLYMER ETCHING GASES OF DIFFERENT ETCHING AND POLYMERIZATION DEPOSITION RATES IN DIFFERENT RADIAL GAS INJECTION ZONES BY APPLYING TIME MODULATION例文帳に追加

異なるエッチング及び重合体堆積速度の重合エッチングガスを異なる半径方向ガス噴射区域において時間変調で用いるプラズマエッチング処理 - 特許庁

To provide a method for depositing a plurality of layers of different materials in a sequential process within a deposition chamber.例文帳に追加

堆積チャンバの内部で、異なる物質の複数の膜を連続的なプロセスで堆積する方法を提供する。 - 特許庁

The vapor deposition system 10 comprises: a plurality of vapor deposition sources 210 for respectively vaporizing different stored film deposition materials; a plurality of blow-out mechanisms 110 for blowing the film deposition materials vaporized by the plurality of vapor deposition sources 210 from an outlet Op; and one or two or more partitions 120 for partitioning the adjacent blow-out mechanisms 110.例文帳に追加

蒸着装置１０は、収納された異なる成膜材料をそれぞれ気化させる複数の蒸着源２１０と、複数の蒸着源２１０にて気化された成膜材料を吹き出し口Ｏｐから吹き出す複数の吹き出し機構１１０と、隣り合う吹き出し機構１１０を仕切る１または２以上の隔壁１２０と、有している。 - 特許庁

The deposition object person performs measurement by employing a reading base R different from the transmission base S for each quantum bit.例文帳に追加

被供託者は、各量子ビットにつき、送信基底Ｓと異なる読出し基底Ｒを採用して測定を行う。 - 特許庁

A photoelectric current multiplication layer 1 is a vapor deposition film wherein photoconductive organic semiconductor is doped with a different kind of materials.例文帳に追加

光電流増倍層１は光導電性有機半導体に異種材料を添加（ドーピング）した蒸着膜である。 - 特許庁

The thin film deposition apparatus 10 has a plurality of sputtering sources having targets comprising at least either selected from two or more same materials and two or more different materials and disposed inside a chamber 12, and is provided with a film deposition condition set part capable of setting different film deposition conditions to the respective sputtering sources.例文帳に追加

薄膜形成装置１０が、チャンバ１２内に配設された２つ以上の同一材料と２つ以上の異なる材料とのうち少なくとも一方を含むターゲットを有する複数のスパッタリング源を有し、それぞれのスパッタリング源に異なる成膜条件を設定可能な成膜条件設定部を備える構成とした。 - 特許庁

In the manufacturing device of a deposition type magnetic recording medium by a vacuum deposition method, plural touch rolls 41 and 42 different in hardness are disposed closed to each other in positions immediately after the winding-in of the deposition type magnetic recording medium to the winding roll.例文帳に追加

真空蒸着法による蒸着型磁気記録媒体の製造装置において、前記蒸着型磁気記録媒体の巻取りロールへの巻き込み直後の位置に、硬度の異なる複数個のタッチロール４１、４２が互いに近接して配置されて成る - 特許庁

To provide a tray conveyance type inline film deposition apparatus which even in a chamber where a substrate is temporarily arranged upon conveying the substrate between the air side and a film deposition chamber, can easily perform film deposition treatment with the same apparatus by using a tray, even for substrates with different shapes and sizes.例文帳に追加

大気側と成膜チャンバーとの間の搬送の際に一時的に基板が配置されるチャンバーにおいてもトレイを使用することで、形状や大きさの異なる基板についても同じ装置で容易に成膜処理できるようにする。 - 特許庁

To solve such a problem that a deposition material jetted from a vapor deposition head recoils between a processed substrate and a processing chamber or another vapor deposition head, adheres to a part different from the part of evaporation coating, or vapor from respective deposition material jetting sections is mixed and enter an adjoining film as impurities.例文帳に追加

蒸着ヘッドから噴射された成膜材料が被処理基板と、処理室又は他の蒸着ヘッドとの間で反跳し、蒸着されるべき箇所とは異なる部位に成膜材料が付着したり、各成膜材料噴出部からの蒸気が混じりあい隣接する膜中に不純物として混入する。 - 特許庁

Regarding a film deposition process by dc-magnetron sputtering of a zinc oxide based transparent conductive film, in the starting (initial) stage of the film deposition, by starting the film deposition under the conditions different from those in film deposition process by an ordinary dc-magnetron sputtering which continues after that, the fact that the lowest resistivity characteristics of the film are remarkably improved has been found.例文帳に追加

酸化亜鉛系透明導電膜の直流マグネトロンスパッタ成膜プロセスにおいて、成膜の開始（初期）段階は、その後に続く通常の直流マグネトロンスパッタ成膜プロセスとは異なる条件下で成膜を開始することにより、膜の最低抵抗率特性が大幅に改善できることを見出した。 - 特許庁

By repeating the deposition of the organic materials, the organic thin film comprising different film forming constituents can be stacked and formed.例文帳に追加

また、有機材料の堆積を繰り返し行うことにより、異なる成膜成分からなる有機薄膜を積層形成する。 - 特許庁

Vapor deposition is carried out selectively in one chamber and three different luminous layers (layers containing organic compound) are formed.例文帳に追加

本発明は、１つのチャンバーで選択的に蒸着を行い、異なる３つの発光層（有機化合物を含む層）を形成する。 - 特許庁

Cross-talk is avoided by directing the opening part 4a when measuring the vapor deposition rate in the direction different from the substrate direction.例文帳に追加

蒸着レートを測定するときの開口部４ａを基板方向と異なる方向に向かせることでクロストークを回避する。 - 特許庁

By repeating the deposition of alternate layers by using two different process conditions, a composite TiN layer is formed.例文帳に追加

２つの異なるプロセス条件を用いて交互する層の堆積を繰り返すことによって、複合ＴｉＮ層が形成される。 - 特許庁

The high-degree vapor barrier film is constituted by providing a vapor deposition membrane (A) 2 of an inorganic oxide on at least one surface of a transparent base material film 1 and further laminating a vapor deposition membrane (B) 3 of a different inorganic oxide on the vapor deposition membrane (A) 2 of the inorganic oxide.例文帳に追加

透明な基材フイルム１の少なくとも一方の面に無機酸化物の蒸着薄膜（Ａ）２を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜（Ａ）２の上に異種の無機酸化物の蒸着薄膜（Ｂ）３を積層したものからなることを特徴とする。 - 特許庁

The sheet surfaces are adjusted between the vacuum deposition chambers 110 and 120 so that the sheet surface of the fiber aggregate 10 coated with the metal in the vacuum deposition chamber 110 may be different from the sheet surface of the conductor-coated fiber assembly 12 coated with the metal in the vacuum deposition chamber 120.例文帳に追加

真空蒸着室１１０で金属被覆する繊維集合体１０のシート面と、真空蒸着室１２０で金属被覆する導電体被覆繊維集合体１２のシート面が異なるように、真空蒸着室１１０，１２０間でシート面を調整する。 - 特許庁

To provide an in-liquid plasma film deposition method in which even a coating film having not only the shape similar to that of a conventional one but also the shape different from the conventional one is obtained by applying the film deposition by masking a base material using the in-liquid plasma, a coating film formed by the same, and an in-liquid plasma film deposition apparatus.例文帳に追加

液中プラズマを用い基材をマスキングして成膜を行うことで、従来と同様の形状はもちろん、従来とは異なる形状の被覆膜をも得られる液中プラズマ成膜方法、それにより成膜される被覆膜および液中プラズマ成膜装置を提供する。 - 特許庁

In a thin film device manufacturing apparatus to successively laminate at least two layers on a substrate 29 for film deposition by a hot wire CVD method, the composition of a heater to be used for the subsequent thin film deposition is different from the composition of a heater to be used for the previous thin film deposition.例文帳に追加

被成膜用基板２９上にホットワイヤーＣＶＤ法により少なくとも２層を順次積層する薄膜デバイス用製造装置において、先の薄膜の成膜に用いる発熱体の成分に対し、その後の薄膜の成膜に用いる発熱体の成分を違える。 - 特許庁

A computer (22) is configured so as to adjust a plurality of the injectors (18A to 18E) during the deposition of a graded layer between depositions of two different layers, or between deposition and reaction chamber clean steps.例文帳に追加

コンピュータ（２２）は、傾斜層の堆積中、２つの異なる層を堆積させる合間に、または堆積ステップと反応室洗浄ステップとの間などに、複数のインジェクタ（１８Ａ〜１８Ｅ）を調節するように構成される。 - 特許庁

To provide a film thickness control method which is capable of easily controlling a film thickness to a set value within a target range even under different deposition conditions.例文帳に追加

異なる成膜条件においても膜厚を目標範囲内の設定値に容易に規制することのできる膜厚制御方法の提供。 - 特許庁

To provide a film deposition device capable of forming a film of intended film thickness without irregularity in film thickness by using a method different from conventional one.例文帳に追加

従来とは異なった方法で、膜厚にばらつきが無くかつ所望の膜厚の膜を形成することが可能な成膜装置を提供する。 - 特許庁

Preferably, a column (an electron beam column 106 or a focused beam column) for generating different charged particle beams is provided, and treatments for imaging, etching, deposition or the like are carried out.例文帳に追加

好ましくは別の荷電粒子ビームを生成するカラム（電子ビームカラム１０６または集束イオンビームカラム）を備え、画像化、エッチング、堆積等の処理を行う。 - 特許庁

Since the opening regulating member 4 and the hologram plane 22 are formed on different planes, deposition of oil and fat or dirt on the hologram plane 22 can be prevented.例文帳に追加

また、開口制限部材４とホログラム面２２とが非同一面上に形成されるので、ホログラム面２２上に油脂や汚れが付着することを防止できる。 - 特許庁

The photostimulable phosphor layer comprises columnar crystals formed by the vapor-phase deposition method, and is in a state where the columnar crystals of different column diameters are mixed.例文帳に追加

輝尽性蛍光体層は、気相堆積法で形成される柱状結晶からなり、柱径が異なる柱状結晶が混在した状態とする。 - 特許庁

A film deposition apparatus is provided with a constitution for jetting hyperfine particles having the same composition and different particle diameter ranges onto a substrate by a plurality of nozzles.例文帳に追加

複数のノズルによって同一組成の異なる粒経範囲をもつ超微粒子を基板上に噴射するための構成を備えた成膜装置。 - 特許庁

The step of deposition of chemical probes or probe precursors is repeated (with the same or different probes or probe precursors) as needed so as to form the array.例文帳に追加

プローブ又はプローブ前駆体を堆積するステップは必要に応じて繰り返され（同じ又は異なるプローブ又はプローブ前駆体を用いて）、アレイが形成される。 - 特許庁