「erosion process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To carry out a renewing process while preventing erosion and breakage of a particulate collecting means (a DPF) during exhausting.例文帳に追加

排気中のパティキュレート捕集手段（ＤＰＦ）の溶損、破損を防止しつつ、再生処理を実行する。 - 特許庁

The tube has a sacrifice portion for allowing inexpensive and easy repair and replacement of a tube erosion portion with the minimum process interruption and thereby coping with the erosion of the tube.例文帳に追加

犠牲部分をチューブに設け、チューブ侵蝕部の修理・交換を廉価且つ容易に、最小限のプロセス中断で可能とすることにより、チューブ侵蝕に対処できる。 - 特許庁

a long narrow furrow cut either by a natural process (such as erosion) or by a tool (as e.g. a groove in a phonograph record) 例文帳に追加

自然の過程（腐食のような）、あるいは工具によって掘られた（例えば、レコードの溝など）長く狭いくぼみ - 日本語WordNet

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of suppressing erosion in a densely wired section and a dense via section and dishing and recesses in a via section, and eliminating erosion and the like in a second polishing process if they occur in a first polishing process.例文帳に追加

密配線、密ビア部のエロージョン及びビア部のディッシング、リセスを抑制すると共に、第一の研磨工程でエロージョン等が発生した場合には、第二の研磨工程でこれを解消することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device provided with a CMP treatment process for performing CMP treatment on the insulating inter-layer film 8 is provided with a process for forming an erosion induction part N producing erosion during a CMP treatment process on an area corresponding to a projection face M out of the irregular face formed on the insulating inter-layer film 8 before the CMP treatment process.例文帳に追加

絶縁層間膜８にＣＭＰ処理を行うＣＭＰ処理工程を備える半導体装置の製造方法であって、ＣＭＰ処理工程の前に絶縁層間膜８上に形成される凹凸面のうちの凸面Ｍに対応する領域に、ＣＭＰ処理工程時にエロージョンを発生させるエロージョン誘引部Ｎを形成する工程を備える。 - 特許庁

The related invention (Claim 2) is the process of manufacturing the anti-erosion block mats of the specified invention (Claim 1), and they correspond to the product and the process of manufacturing the product. 例文帳に追加

（請求項２）は、特定発明（請求項１）の地表侵食防止ブロックマットを製造する方法の発明であり、両発明は、物とその物を生産する方法に該当する。 - 特許庁

To avoid erosion by a chemical liquid in a patterning process in a semitransmission type liquid crystal display and to prevent disconnection due to corrosion of a terminal.例文帳に追加

半透過型の液晶表示装置において、パターニング工程での薬液の浸食を受けにくくし、端子の腐食による断線を防止する。 - 特許庁

To provide a ring assembly used in a substrate processing chamber, the ring assembly resisting deformation, warping and erosion even after numerous process cycles.例文帳に追加

種々な処理サイクルの後でも変形や反りに耐え且つ浸食に耐えるような、基板処理チャンバにて使用されるリングアセンブリを提供する。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave device capable of preventing electrode erosion without requiring any specific predetermined environmental process, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

特定の環境処理を必要としないで、電極の腐食防止を可能とする弾性表面波デバイス及び、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an acqueous dispersed body of chemical mechanical polishing for controlling erosion and speed during over-polishing in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

化学機械研磨工程において、オーバーポリッシュ実施時のエロージョン及びその速度を抑制できる化学機械研磨用水系分散体を提供すること。 - 特許庁

The device and the method are related to a noncontact detection of a bar shaped or a wire shaped process electrode (1) of a machine tool, specially of a spark erosion machine.例文帳に追加

本発明は、工作機械、特に火花浸食機械の棒形またはワイヤ形加工電極（１）の無接触検出のための装置および方法に係る。 - 特許庁

To reduce erosion and improve an overlay accuracy of an alignment mark in an alignment mark formation process of a semiconductor device using chemical machine polishing.例文帳に追加

化学的機械研磨を利用した半導体装置のアライメントマーク形成プロセスにおいて、エロージョンを低減し、アライメントマークの重ね合わせ精度を向上させる。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersing element for chemical mechanical polishing that suppresses erosion and its speed when overpolishing is carried out in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

化学機械研磨工程において、オーバーポリッシュ実施時のエロージョン及びその速度を抑制できる化学機械研磨用水系分散体を提供すること。 - 特許庁

To provide a coating system and process capable of providing erosion and corrosion-resistance to a component, particularly a steel compressor blade of an industrial gas turbine.例文帳に追加

部品、特に工業用ガスタービンの圧縮機鉄鋼ブレードに耐エロージョン性及び耐腐食性を付与することができる皮膜系および被覆方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lead frame for semiconductor device by which Pb liberalization, dry process making, a suppression in natural erosion are realized simultaneously without changing conventional production equipment in an assembling process.例文帳に追加

組立工程において従来の生産設備を変更することなく、Ｐｂフリー化、ドライプロセス化及び自然腐食の抑制を同時に実現することが可能な半導体装置用リードフレームを提供する。 - 特許庁

Thus, in an embedded wiring formation process S8, the side-wall deposit 118a prevents, together with a protective film 112, erosion of the low-k film 104.例文帳に追加

したがって，埋込配線形成工程Ｓ８において，側壁堆積物１１８ａは，保護膜１１２とともにＬｏｗＫ膜１０４の腐食を防ぐことができる。 - 特許庁

To solve problems that gas is generated due to electric erosion reaction by developer and peeling of film is generated at a contact part in an organic insulation film patterning process for forming relief structure of a reflection film in an array process of a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶表示装置のアレー工程において、反射膜の凹凸形状を形成するための有機絶縁膜パターニング工程で、現像液による電喰反応からガスが発生し、コンタクト部で膜はがれが発生する問題が生じる。 - 特許庁

To provide a sintered target on which a deposited film having sedimented on a non-erosion part resists exfoliating from the target surface even in a continuous sputtering process in mass production, and a nodule and arcing resist occurring.例文帳に追加

量産時の連続スパッタリング工程においても、非エロージョン部に堆積した付着膜がターゲット表面から剥がれにくく、ノジュールやアーキングの生じにくい焼結体ターゲットの提供。 - 特許庁

In a folding process of the roof weir A, V notches are not generated, a consecutively accurate flow rate can be adjusted, and a riverbed and a face of slope not need to reinforced against erosion.例文帳に追加

起伏堰Ａの倒伏過程においてＶノッチが発生せず、連続した正確な流量調整ができ、侵食に備えて河床や法面を補強しておく必要もない。 - 特許庁

A planar target having rings which are annular step regions of the thickness increased prositionally corresponding to target raceway regions in which erosion grooves are caused in the process of sputtering is provided.例文帳に追加

スパッタリング中侵食溝が生じるターゲットレースウエイ領域に位置的に対応して増大された厚さの環状段領域であるリングを有する平面状ターゲットが提供される。 - 特許庁

To provide a steam turbine blade and a steam turbine, capable of enhancing both oxidation resistance and erosion resistance at the same time, and manufactured easily by a simple process at a low manufacturing cost.例文帳に追加

耐酸化性、及び耐エロージョン性の２つの特性を同時に向上させることができ、かつ、製造工程が簡易で製造コストが安価な蒸気タービン翼及び蒸気タービンを提供する。 - 特許庁

To provide a material for adjusting the concentration of MgO in converter slag, which decreases the erosion of a liner refractory in a converter even though a ratio of a cold iron source is made higher than that in a conventional process, and can extend the life of a furnace body, and to provide a steel manufacturing process in the converter.例文帳に追加

本発明は、冷鉄源比率を従来より高くしても、転炉の内張り耐火物の溶損が少なく、炉体寿命を延長できる転炉スラグのＭｇＯ濃度調整材及転炉製鋼法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a master carrier for magnetic transfer, its manufacturing method, and a magnetic recording medium in which it is possible to prevent erosion of a transfer pattern by an etchant in a wet etching process of shaping a master into substantially a doughnut shape in a master fabricating process.例文帳に追加

マスター作製工程でマスターを略ドーナッツ形状に加工するウエットエッチング工程でのエッチング液の転写パターンへの侵食を防ぐことができる磁気転写用マスター担体及びその製造方法、並びに磁気記録媒体の提供。 - 特許庁

The sleeve for die-casting is obtained by coating the inside face of a hollow cylindrical outer tube with an erosion resistant and wear resistant alloy by a centrifugal casting process, and the outer tube is composed of a non-heat-treated steel.例文帳に追加

中空円筒状の外筒の内面に耐溶損耐摩耗合金を遠心力鋳造法により被覆したダイカスト用スリーブであって、該外筒が非調質鋼からなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an aluminum component to be exposed to energized gases in a substrate process chamber that exhibits improved corrosion resistance and is less susceptible to the erosion and flaking off of aluminum particles.例文帳に追加

基板プロセスチャンバで腐食性ガスに暴露されるアルミニウムコンポーネントで、改良された耐食性を呈し、かつアルミニウム粒子の侵食および剥がれ落ちに耐久性を有するアルミニウムコンポーネントを提供する。 - 特許庁

The morphology calculation processing portion 10 calculates an opening gap of the mask image, calculates a minimum dilation repeating number of times necessary to fill the opening gap, and removes the mesh-shaped pattern by executing an erosion process of N times after a dilation process of N times.例文帳に追加

モフォロジー演算処理部１０は、マスク画像のオープニング間隙を算出し、このオープニング間隙を埋めるために必要な最小の膨張繰返回数Ｎを算出し、Ｎ回の膨張処理の後、Ｎ回の収縮処理を実行してメッシュ状のパターンを除去する。 - 特許庁

To provide a packaging method of an electronic component and a board module, by which lifting between insulating resin and the electronic component or a substrate is made less likely to be generated, even in reflow process or heat cycle testing process, short circuiting or erosion can be prevented, and reliability can be improved.例文帳に追加

リフロー工程やヒートサイクル試験工程においても絶縁樹脂と電子部品又は基板との間で剥離が生じにくく、短絡又は腐食が防止でき、信頼性を高めることができる電子部品実装方法及び基板モジュールを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing technique by which the cost of consumables, such as the abrasive, polishing cloth, etc., can be suppressed by suppressing the occurrence of scratchings, peeling, dishing, and erosion without requiring any complicated cleaning process nor abrasive supplying/treating device.例文帳に追加

スクラッチや剥がれ、ディシング、エロージョンを抑制し、また、複雑な洗浄プロセスや研磨剤供給／処理装置を必要とせず、研磨剤や研磨布等の消耗品のコストを抑さえた研磨技術を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing slurry preferably used for a CMP process, which can prevent the occurrence of dishing or erosion by having high polishing selectivity and high clear performance while maintaining a high polishing speed significant in the industrial field.例文帳に追加

工業的に意味のある研磨速度を維持しつつ、高い研磨選択性と高いクリア性を有することでディッシングやエロージョンの発生を抑制した、ＣＭＰ工程に好適に用いられる研磨用スラリーを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing slurry preferably used for a CMP process, which can suppress the generation of dishing or erosion by having high polishing selectivity and high clear performance while maintaining a high polishing speed significant in the industrial field.例文帳に追加

工業的に意味のある研磨速度を維持しつつ、高い研磨選択性と高いクリア性を有することでディッシングやエロージョンの発生を抑制した、ＣＭＰ工程に好適に用いられる研磨用スラリーを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing technology which prevents scratch, peeling, dishing, and erosion, and does not need complex cleaning process and complex abrasive powder supply/disposal apparatus, to reduce cost of expendable supplies such as abrasive powder, polishing cloth.例文帳に追加

スクラッチや剥がれ、ディシング、エロージョンを抑制し、また、複雑な洗浄プロセスや研磨剤供給／処理装置を必要とせず、研磨剤や研磨布等の消耗品のコストを抑さえた研磨技術を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing technology capable of suppressing the occurrence of scratching, peeling, dishing, and erosion and suppressing the costs of expendables such as abrasive and polishing cloth without requiring a complicated cleaning process or an abrasive supplying/processing device.例文帳に追加

スクラッチや剥がれ、ディシング、エロージョンを抑制し、また、複雑な洗浄プロセスや研磨剤供給／処理装置を必要とせず、研磨剤や研磨布等の消耗品のコストを抑さえた研磨技術を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing technique which inhibits scratching, peeling off, dishing and erosion, and requires no complex cleaning process nor abrasive agent supplying/ treating device so that it curbs the cost of consumable supplies such as a polishing agent and a polishing cloth, etc.例文帳に追加

スクラッチや剥がれ、ディシング、エロージョンを抑制し、また、複雑な洗浄プロセスや研磨剤供給／処理装置を必要とせず、研磨剤や研磨布等の消耗品のコストを抑さえた研磨技術を提供する。 - 特許庁

To provide an internal wall protective member that can prevent metallic contamination caused by the erosion of the internal wall of a glassy carbon- made chamber by a plasma, fulfils a function required for stabilizing a process, and can be used for a long time.例文帳に追加

プラズマによる内壁浸蝕に起因する金属汚染を防止し、かつプロセスの安定化に必要な機能を満たし、長時間使用することが可能なガラス状炭素製チャンバー内壁保護部材を提供する。 - 特許庁

To provide a surface modification method for a metal member, which gives a superior modified layer with cavitation erosion resistance on a part needing the surface modification in a comparatively cheap process, and a metal member having the modified layer.例文帳に追加

表面改質が必要な部位に比較的安価な処理で耐キャビテーション・エロージョン性に優れた改質層を得ることができる金属製部材の表面改質方法及び改質層を有する金属製部材を提供すること。 - 特許庁

To provide polishing solution containing solid abrasive grains and being used for chemical mechanical polishing in a process for planarizing a semiconductor integrated circuit having a barrier layer while suppressing occurrence of dishing and erosion, and to provide a polishing method.例文帳に追加

バリア層を有する半導体集積回路の平坦化工程において、化学的機械的研磨に用いる固体砥粒を含む研磨液であって、ディッシング及びエロージョンの発生を抑える研磨液および研磨方法を提供する。 - 特許庁

The diaphragm 300 is composed of Si single crystal containing P type impurities and functions as a layer for stopping erosion due to etching in a process for obtaining an ink chamber substrate by performing etching.例文帳に追加

振動板３００は、Ｓｉ単結晶中にＰ型不純物を含んでなるものであり、エッチングを施すことにより、インク室基板を得る工程において、エッチングによる侵食の進行を停止させるストッパ層として機能する。 - 特許庁

Therefore, even when contact layers 12 formed on the side faces of the slits 4 have thin thicknesses, the erosion of a semiconductor substrate 1 by a metal halide gas can be prevented in a succeeding process of forming a buried metallic layer 13.例文帳に追加

したがって、スリット４側面に形成される密着層１２の膜厚が薄い場合であっても、後工程の埋め込み金属層１３の形成工程における、金属ハロゲン化物ガスによる半導体基体１の侵食部の発生が防止される。 - 特許庁

To provide a thermistor where an electrode has high endurance to solder erosion, durability to a solder process in which the operating temperature is typically in the range from 200°C to 380°C, and dwell time is typically from 5 sec to 3 min, is ensured, and cost benefit is high.例文帳に追加

電極が、はんだ侵食に対する高い耐性を有するとともに、動作温度が典型的に２００℃から３８０℃でドエル時間が典型的に５秒から３分のはんだプロセスに耐えられる、費用対効果の高いサーミスタを提供する。 - 特許庁

The agent is released at a zero-order or an approximately linear rate because the release rate of the agent will entirely be governed by erosion from exposed core surfaces; the surface area of which does not change substantially during the release process.例文帳に追加

この剤形では薬剤の放出速度は露出されたコア表面からの侵食によって完全に支配され、その表面積は放出過程中実質的に変化しないので、薬剤は０次オーダーまたはほぼ線状の速度で放出される。 - 特許庁

To provide a polishing method, a polishing device, and a manufacturing method for a semiconductor device, where occurrence of dishing or erosion is suppressed in a planarizing process for polishing a metal film to constitute wiring of a semiconductor device having a multilayer interconnection structure.例文帳に追加

多層配線構造を有する半導体装置の配線を構成するための金属膜の研磨による平坦化工程において、ディッシング、エロージョンの発生を抑制可能な、研磨方法、研磨装置および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The electric circuit monitors the self-vias voltage of the upper electrode, and moves the plurality of magnets to a target plane in such a manner that a fixed magnetic field is retained on the surface of the target member receiving erosion with the lapse of time by a sputtering process.例文帳に追加

電気回路は、上部電極の自己バイアス電圧をモニタし、複数のマグネットを、スパッタプロセスによる時間の経過に伴ってエロージョンを受けるターゲット部材の表面上で一定磁界を維持するようターゲット平面に垂直に移動させる。 - 特許庁

To provide a smelting reduction process for metallic-oxide-containing ore, which can use a large amount of inexpensive ore containing the metallic oxide, without increasing the amount of dust formed in a furnace and promoting the erosion of a furnace wall refractory.例文帳に追加

本発明は、かかる事情に鑑み、炉内発生ダストの増加や炉壁耐火物の溶損を助長させることなく、安価な金属酸化物含有鉱石を大量に使用可能な金属酸化物含有鉱石の溶融還元方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To easily determine a process condition of the deterioration of deformation of a blade and accurately grasp replacement time of the blade without disassembling an engine and taking the blade out of the inside by visually observing the blade which is an engine part and causes sand erosion from the outside of the engine.例文帳に追加

サンドエロージョンしたエンジン部品の翼をそのエンジンの外部から目視観察することで、エンジンを分解して内部から翼を取り出すことなく、翼の変形の劣化の進行状態を容易に判断することができ、また翼の交換時期を的確に把握する。 - 特許庁

This invention concerns the mechanically laid anti-erosion block mats used on surface of banks, on levies, railroad and road elevations, the easy process of laying the mats and the block mat laying equipment. 例文帳に追加

この発明は、海岸及び河川の堤防、道路及び鉄道の表面等の地表面の侵食防止に用いられる機械による効率的な敷設が可能なブロックマット及びその簡単な製造方法並びにこのブロックマットを効率的に敷設するための敷設装置に関する。 - 特許庁