「evaluation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

If the evaluation and test of the proposed and corrected business process have been succeeded, the corrected business process may be used as substitute of the original business process in an organization.例文帳に追加

提案された修正済みビジネスプロセスの評価およびテストが成功した場合、修正されたビジネスプロセスを、組織内のオリジナルのビジネスプロセスと置き換えることができる。 - 特許庁

To efficiently perform the optimization of process conditions such as a wiring process and a gate process in a short period of time by performing the dielectric constant evaluation of an interlayer film with high precision in the middle of a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造工程途中で高精度に層間膜の誘電率評価を行うことにより、配線工程やゲート工程などのプロセス条件の最適化を効率よく短期間で行う。 - 特許庁

A nuclear fuel rod evaluation process (300) is preformed during the fuel cycle design and licensing process for each operating cycle of a particular nuclear reactor.例文帳に追加

各原子炉の運転サイクルに関する燃料サイクル設計及び認可プロセスについて核燃料棒評価方法（３００）を実施する。 - 特許庁

LITHOGRAPHY PROCESS EVALUATION SYSTEM, LITHOGRAPHY PROCESS EVALUATING METHOD, EXPOSURE SYSTEM EVALUATING METHOD, MASK PATTERN DESIGNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

リソグラフィプロセス評価システム、リソグラフィプロセス評価方法、露光装置評価方法、マスクパターン設計方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

A production process plan with the highest evaluation in the evaluation part 9 is selected and displayed in a display part 11 composed of a monitor or the like.例文帳に追加

評価部９において最も評価の良かった生産工程計画が選択されてモニター等で構成される表示部１１に表示される。 - 特許庁

To provide a process improvement measure evaluation device and a method where a return caused by a fault and a cost to be required for improvement measures are incorporated into an evaluation target.例文帳に追加

不具合による手戻りと改善施策に要するコストとを評価の対象に組み込んだプロセス改善施策評価装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a TEM cell-process measuring jig for a LSI tester, capable of easily performing the work of the radiation noise evaluation and immunity evaluation of an LSI.例文帳に追加

ＬＳＩの放射ノイズ評価及びイミュニティ評価の作業を容易に行うことができるＬＳＩテスター用ＴＥＭセル法測定治具を提供する。 - 特許庁

A process arrangement device 100 comprises an evaluation value calculation part 122a, an inter-node total communication amount calculation part 122b, and a correction evaluation value calculation part 122c.例文帳に追加

プロセス配置装置１００は、評価値算出部１２２ａと、ノード間総通信量算出部１２２ｂと、補正評価値算出部１２２ｃとを有する。 - 特許庁

A command based on the algorithm of a test process is issued from an evaluation execution apparatus 2 to a command analyzing means 14 mounted on an evaluation object apparatus 1.例文帳に追加

テストプロセスのアルゴリズムに応じたコマンドを、評価実施機器２から評価対象機器１に実装されたコマンド解析手段１４に向けて発行する。 - 特許庁

A project evaluation system is constituted of a process plan database 1, an actual result information database 2, a predictive model database 3, a predictive value calculating device 4, a project evaluation device 5 and an evaluation result display device 6.例文帳に追加

プロジェクト評価システムは工程計画データベース１、実績情報データベース２、予測モデルデータベース３、予測値算出装置４、プロジェクト評価装置５、評価結果表示装置６の構成から成る。 - 特許庁

The evaluation or ranking of properties is performed on the basis of a reference value by a process (step A) for collecting property information, a process (step B) for performing the evaluation or ranking of the properties, a process (step C) for opening a market on an internet and a process (step D) for executing an auction.例文帳に追加

物件情報を収集する工程（ステップＡ）、物件の評価や格付けを行う工程（ステップＢ）、インターネットにマーケットを開設する工程（ステップＣ）、オークションを実行する工程（ステップＤ）により、物件の評価や格付けを基準値に基づいて行うようにする。 - 特許庁

A plurality of point coordinates set on a side surface of an antenna are taken as the antenna shape parameters, and as processing processes for an evaluation function for executing an evaluation process for the parameters, following processes are included: STEP1: a directionality calculation process, STEP2: a dispersion calculation process, and STEP3: an evaluated value calculation process.例文帳に追加

本発明はアンテナの側面上に設定した複数の点座標をアンテナ形状パラメータとし、このパラメータの評価処理を実行する評価関数の処理工程として、ＳＴＥＰ１：指向性算出工程、ＳＴＥＰ２：分散算出工程、ＳＴＥＰ３：評価値算出工程がある。 - 特許庁

When the user depresses a button for a next process in any of columns expressing "useful" or "unuseful" on the information, an evaluation value on which the button is depressed is registered in an evaluation value database 17 by an evaluation value collection part 16, and transition to a next process takes place.例文帳に追加

ユーザがその情報について「役に立った」「役に立たなかった」それぞれの欄から次に行いたい処理のボタンを押下すると、評価値収集部１６は評価値データベース１７にボタンで押下された評価値を登録し、次の処理に遷移する。 - 特許庁

A test process determining part 12 determines the test process data indicating a schedule of a test, and an evaluation reference value as the reference for judging a progress.例文帳に追加

テスト工程設定部１２は、テストのスケジュールを示すテスト工程データと進捗判定の基準となる評価基準値とを設定する。 - 特許庁

To provide an evaluation method for improving the efficiency of the debug process of a controller for a vehicle.例文帳に追加

本発明は、車両用制御装置のデバッグ処理を効率化するための評価方法に関する。 - 特許庁

EVALUATION METHOD OF CONDITION ON SURFACE OF WAFER, MANAGEMENT METHOD OF WAFER MANUFACTURING PROCESS, WAFER MANUFACTURING METHOD, AND WAFER例文帳に追加

ウェーハの面状態評価方法、ウェーハ製造工程の管理方法、ウェーハの製造方法及びウェーハ - 特許庁

To provide a graphics display device for applying a process enabling identification of graphics software of evaluation version.例文帳に追加

評価版のグラフィックスソフトウェアを見分けることの出来る処理を施すグラフィックス表示装置を提供する。 - 特許庁

To process an image of an evaluation object pattern at a high speed and also to improve the efficiency of computer resources.例文帳に追加

評価対象パターンの画像を高速で処理するとともに、コンピュータ資源の効率を向上させる。 - 特許庁

Consequently, a total number of defective bits or the like obtained by the above process is used for an evaluation criterion of the memory array.例文帳に追加

そして、これによって得られた不良ビットの総数などを、メモリアレーの評価基準に用いる。 - 特許庁

EVALUATION METHOD AND MEASURING METHOD OF DOPANT CONTAMINATION, AND MANAGING METHOD OF THERMAL TREATMENT PROCESS例文帳に追加

ドーパント汚染の評価方法及び熱処理工程の管理方法並びにドーパント汚染量の測定方法 - 特許庁

PATTERN EVALUATION METHOD, ALIGNMENT METHOD, INSPECTION METHOD OF INSPECTION APPARATUS, AND CONTROL METHOD OF SEMICONDUCTOR-MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

パターン評価方法，位置合わせ方法、検査装置の検査方法，半導体製造工程の管理方法 - 特許庁

Inside the area, the bundle of fine wiring ≤0.1 μm exists as the object of process evaluation.例文帳に追加

この領域内には、プロセス評価の対象となる０．１μｍ以下の微細配線の束が存在する。 - 特許庁

An evaluation value calculating part 26 calculates an evaluation value of a production schedule by a calculation result of the schedule time calculating part 24 by an evaluation function which includes an evaluation index for evaluating production efficiency and an evaluation index for evaluating a delay from a post-process reference date of delivery to the entire processes after its own process and a weight parameter stored in a weight parameter storing part 18 is applied.例文帳に追加

評価値算出部２６は、生産効率を評価する評価指標及び自工程よりも後の全ての工程に対する後工程基準納期からの遅れを評価する評価指標を含み、且つ重みパラメータ記憶部１８に記憶された重みパラメータが適用された評価関数により、予定時刻算出部２４の算出結果による生産スケジュールの評価値を算出する。 - 特許庁

The correction evaluation value calculation part 122c calculates a correction evaluation value for correction on the basis of an evaluation value of the process arrangement calculated by the evaluation value calculation part 122a and the inter-node total communication amount calculated by the inter-node total communication amount calculation part 122b.例文帳に追加

補正評価値算出部１２２ｃは、評価値算出部１２２ａが算出したプロセス配置についての評価値及びノード間総通信量算出部１２２ｂが算出したノード間総通信量に基づいて、補正に用いる補正評価値を算出する。 - 特許庁

A manufacturer terminal 10 stores an evaluation point of the manufacturing process of the article 50 in a manufacture evaluation database 14, reads the evaluation point from the manufacture evaluation database 14 by using a product ID as a key and writes it with a standard price in an IC tag 60 by an IC tag writer 17.例文帳に追加

メーカ端末１０は、商品５０の製造工程での評価点を製造評価データベース１４に格納し、商品ＩＤをキーに製造評価データベース１４から評価点を読み出して標準価格と共にＩＣタグ６０にＩＣタグライタ１７で書き込む。 - 特許庁

When the control part 1 executes a process for evaluating the content of the event based on the character evaluation data, the control part 1 recognizes event content evaluation data corresponding to the evaluation of the content of the event.例文帳に追加

そして、キャラクタ評価データに基づいてイベントの内容を評価するための処理が制御部１に実行されると、イベント内容の評価に対応するイベント内容評価データが、制御部１に認識される。 - 特許庁

The processing method of semiconductor silicon wafer comprises a polishing process for polishing the surface of semiconductor wafer to the mirror-surface, an evaluation process for evaluating the flatness of a semiconductor wafer polished in the polishing process, an etching process for etching semiconductor wafer determined as defective in the flatness in the evaluation process using an alkali solution, and a re-polishing process for re-polishing the semiconductor wafer which etched in the etching process.例文帳に追加

半導体ウェーハの表面を鏡面研磨する研磨工程と、この研磨工程において研磨された半導体ウェーハの平坦度を評価する評価工程と、この評価工程により平坦度が不良と判定された半導体ウェーハをアルカリ溶液でエッチングするエッチング工程と、このエッチング工程によりエッチングされた半導体ウェーハを再研磨する再研磨工程とを有する半導体ウェーハの加工方法。 - 特許庁

To provide a method with which the functionality of a washing process or operating process of a washing machine or the evaluation of a conductance sensor can be improved.例文帳に追加

洗濯機の洗濯工程または運転工程の機能性または前記伝導度センサの評価を向上させることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a development process formation system by evaluation of project characteristic and a development process formation method using it, which respond to various development processes.例文帳に追加

様々な開発プロセスに対応できる、プロジェクト特性評価による開発プロセス作成システム及びそれを用いた開発プロセス作成方法を提供する。 - 特許庁

(d) A distance between the lens and the subject to be objected is varied, while the process (a) to the process (c) are repeated to calculate the focus evaluation index each distance.例文帳に追加

（ｄ）レンズと観測対象物との間の距離を変化させながら、工程ａから工程ｃを繰り返し、距離ごとにフォーカス評価指標を求める。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit for process evaluation which can obtain data used as a determination material for delicate process control in a short time.例文帳に追加

微妙なプロセスコントロールのための判断材料となる情報を短時間のうちに採取することができるプロセス評価用半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

The evaluation method of skin dullness has the process of photographing a UV image of the skin and the process of calculating the average value of the brightness of the photographed UV image.例文帳に追加

肌のくすみの評価方法は、肌のＵＶ画像を撮影する工程と、撮影されたＵＶ画像の輝度の平均値を算出する工程を有する。 - 特許庁

The computed evaluation score is stored in a storage part 22 as a diagnosis history together with the measured information, so that the evaluation scores can be confirmed as the process of treatment in time series.例文帳に追加

又、算出した評価スコアは、計測情報と共に診断履歴として記憶部２２に記憶され、治療の時系列推移として確認することができる。 - 特許庁

Then, a notification control part 307 notifies the action data retrieved by the retrieval part 305 and the evaluation result evaluated based on the first process data by an evaluation part 306.例文帳に追加

そして、報知制御部３０７では、検索部３０５で検索されたアクションデータを、評価部３０６で第１のプロセスデータに基づき評価した評価結果と共に報知する。 - 特許庁

To provide a performance evaluation device for evaluating performance of a user for that required by a system and deciding the process of a story according to the evaluation result.例文帳に追加

システムが求める演技に対するユーザの演技を評価し、その評価結果によってストーリの進行を決定することを実現する演技評価装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sound-proof chamber for product evaluation capable of enhancing detection ability of a sound-proof chamber for sound evaluation in a production line, and capable of automating an inspection process.例文帳に追加

製品生産ラインでの音評価用の防音室の検出力向上、並びに検査工程の自動化を図った、製品評価用防音室を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR EVALUATING ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPING TONER, EVALUATION APPARATUS, ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPING TONER, DEVELOPMENT METHOD, AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

静電荷像現像用トナー評価方法、評価装置、静電荷像現像用トナー、現像方法及びプロセスカートリッジ - 特許庁

To provide a design and evaluation system which takes resource conditions into consideration without limiting an object process about a work procedure.例文帳に追加

作業手順について対象プロセスを限定せず資源条件を考慮した設計、評価システムの提供。 - 特許庁

To process the data capable of easily grasping product evaluation and advertising effect from contents of inquiry of a product.例文帳に追加

製品の問合せ内容から容易に製品評価や宣伝効果を把握可能なデータに加工することにある。 - 特許庁

The evaluation method for contamination on surface of material comprises a process for measuring the surface resistivity of a material.例文帳に追加

用材の表面における汚れの評価方法は、用材の表面抵抗率を測定する工程を含む。 - 特許庁

The evaluation method for bacterial count on surface of material comprises a process for measuring the surface resistivity of the material.例文帳に追加

用材の表面における菌数の評価方法は、用材の表面抵抗率を測定する工程を含む。 - 特許庁

TREATMENT EVALUATION METHOD AND DEVICE IN MANUFACTURING PROCESS OF SEMICONDUCTOR PRODUCT, AND SEMICONDUCTOR PRODUCT MANUFACTURING SYSTEM例文帳に追加

半導体製品の製造工程における処理評価方法および装置ならびに半導体製品製造システム - 特許庁

To automatically reflect evaluation data in a manufacturing process of an article on a price to sell it to a customer.例文帳に追加

商品の製造工程での評価データを、顧客に販売する提供価格に自動的に反映させる。 - 特許庁

PRODUCTION CONTROL SYSTEM WITH CULPABLE BLUNDER EVALUATION FOR QUANTIFYING DEGREE OF RESPONSIBILITY FOR CAUSING PROCESS STOCK例文帳に追加

工程在庫の滞留が発生することに対する責任度合いを定量化する有責失点生産管理システム - 特許庁

(e) A best focus state is detected based on a plurality of focus evaluation indices calculated in the process (d).例文帳に追加

（ｅ）工程ｄで求められた複数のフォーカス評価指標に基づいて、ベストフォーカス状態を検出する。 - 特許庁