「exposure operation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

OPERATION DEVICE, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

操作装置、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

A scan exposure operation is carried out at an accurate exposure position in the following exposure (exposure timing), based on this detection result.例文帳に追加

そして、この検出結果に基づいて、次の露光（露光タイミング）においては、精確な露光位置によるスキャン露光を行う。 - 特許庁

EXPOSURE OPERATION EVALUATION METHOD OF EXPOSURE APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光装置の露光動作評価方法および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

On the basis of these informations, various data which are stored in a memory beforehand, etc., the exposure device precision judging machine 40 selects any one out of a stoppage of exposure operation, exposure operation accompanied by correction operation, and regular exposure operation, and transmits a control signal to an exposure operation controller 50.例文帳に追加

露光装置精度判定機４０は、これら情報や予めメモリにストアした各種データ等に基づいて、露光動作の停止、補正動作を伴った露光動作又は通常の露光動作の何れかを選択して、露光動作制御器５０に制御信号を送る。 - 特許庁

The exposure operation controller 50 controls the operation of the exposure device 10 based on the control signal from the exposure device precision judging machine 40.例文帳に追加

露光動作制御器５０は、露光装置精度判定機４０からの制御信号に基づいて露光装置１０の動作を制御する。 - 特許庁

To perform exposure control only by the pressing operation of a release button.例文帳に追加

レリーズボタンの押圧操作のみで露光制御を行う。 - 特許庁

To facilitate setting operation for fixed exposure correction and stepwise exposure correction.例文帳に追加

一定の露出補正および段階的な露出補正の設定操作を簡単にする。 - 特許庁

The overlayer 22, the photospacers 24 and the contact holes 27 are simultaneously formed by one exposure operation using a multi-level gradation exposure mask and one development operation following the exposure operation.例文帳に追加

オーバーレイヤ２２、フォトスペーサ２４、及びコンタクトホール２７は、多階調露光マスクを用いた１回の露光及びそれに続く１回の現像によって同時に形成される。 - 特許庁

When the oscillation exceeding the prescribed level is detected during the exposure operation, a processor 310 ends the exposure operation.例文帳に追加

露光動作中に所定のレベルを越す揺動が検出された場合、プロセッサ３１０は露光動作を打ち切る。 - 特許庁

To provide an exposure arithmetic operation device, an exposure arithmetic operation method and a camera appropriately reflecting the luminance of a main subject in an exposure value.例文帳に追加

主要な被写体の輝度を適切に露出値に反映可能な露出演算装置および露出演算方法並びにカメラを提供する。 - 特許庁

Notification operation is started at least once during a multiple exposure period from the start of a first exposure period when the first exposure operation is performed until the end of the nth exposure period when the last exposure operation is performed.例文帳に追加

そして、最初の露光動作が行われる第１露光期間の開始時から、最後の露光動作が行われる第ｎ露光期間の終了時まで、の多重露光期間中に、少なくとも一回報知動作を開始することとする。 - 特許庁

Thereafter, the exposure operation is turned on again, but, the exposure operation is turned off at a timing when a transfer operation signal is turned on at a time (ty).例文帳に追加

その後再度露光動作をオンとするが、時刻ｔｙで転写動作信号がオンとなるタイミングでは、露光動作をオフにしておく。 - 特許庁

To provide an electronic camera for reducing operation errors of exposure.例文帳に追加

露出の演算誤差を低減する電子カメラを提供する。 - 特許庁

To improve the throughput of an exposure system by performing exposure operation and alignment operation continuously in parallel.例文帳に追加

連続的に露光動作とアライメント動作を平行作業させることにより、装置のスループットを上げることを目的とする。 - 特許庁

VACUUM EQUIPMENT, OPERATION METHOD, EXPOSURE SYSTEM, AND OPERATION METHOD THEREOF例文帳に追加

真空装置、真空装置の運転方法、露光装置、及び露光装置の運転方法 - 特許庁

An exposure operation starts at a time (ta), but, the exposure operation is turned off once at a timing when the operation signal of a developing unit is turned on at a time (tx).例文帳に追加

時刻ｔａで露光動作が開始されるが、時刻ｔｘで現像器の動作信号がオンとなるタイミングでは一旦露光動作をオフにしておく。 - 特許庁

To speed up the exposure operation in a shutter device for camera.例文帳に追加

カメラ用シャッタ装置において、露光動作の高速化を図る。 - 特許庁

The camera head performs an exposure operation, images the object, and outputs the data of the image and a timing signal relating to the exposure operation.例文帳に追加

カメラヘッドは、露出動作を行ない、被写体を撮像して画像のデータと、露出動作に関するタイミング信号を出力する。 - 特許庁

An exposure operation device includes a photometry unit, a target setting unit, a correction unit, and an operation unit.例文帳に追加

露出演算装置は、測光部と、目標設定部と、補正部と、演算部とを備える。 - 特許庁

The exposure in the imaging device is then carried out as an original photographing operation on the exposure condition set by the second exposure condition calculating operation.例文帳に追加

そして、第２の露光条件算出動作によって設定された露光条件によって本来の撮影動作としての撮像素子における露光を実行させる。 - 特許庁

An exposure control unit 210 decides the exposure for a CCD image pickup device 10, in response to an operation of a shutter button 9, and controls the exposure operation of the CCD image pickup device 10.例文帳に追加

シャッタボタン９の操作に応じて露光制御部２１０がＣＣＤ撮像素子１０の露光時間を決定し、ＣＣＤ撮像素子１０の露光動作を制御する。 - 特許庁

The exposure of the imaging device (1) and the exposure of the imaging device (2) are finished after the lapse of an exposure time period based on a result of AE arithmetic operation from start of the exposure of the imaging device (1) and the imaging device (2).例文帳に追加

撮像素子（１）及び撮像素子（２）の露光開始からＡＥ演算の結果に基づいた露光時間経過後にそれぞれ露光を終了する。 - 特許庁

To provide an exposure meter exactly measuring exposure and a digital camera capable of realizing efficient photographing operation.例文帳に追加

露出を正確に測定する露出計と、効率的な撮影動作を可能にするデジタルカメラを提供する。 - 特許庁

An arithmetic circuit 101 selects a mode to be a program automatic exposure arithmetic mode (P), an aperture precedence automatic exposure arithmetic mode (A), a shutter speed precedence (exposure time precedence) automatic exposure arithmetic mode (S), or a manual exposure arithmetic mode (M) in response to an operation signal from an exposure mode setting operation member 110.例文帳に追加

演算回路１０１は、露出モード設定操作部材１１０からの操作信号に応じてプログラムオート露出演算モード（Ｐ）、絞り値優先オート露出演算モード（Ａ）、シャッタ速度優先（露光時間優先）オート露出演算モード（Ｓ）、およびマニュアル露出演算モード（Ｍ）のいずれかに設定する。 - 特許庁

A scanning velocity and an exposure operation pitch are determined according to selected exposure luminous energy and emission length among various exposure luminous energies and light emission lengths and corresponding scanning velocities and exposure operation pitches, in drawing processing, it establishes as an exposure parameter.例文帳に追加

そして、様々な露光量および発光長とそれに対応する走査速度，露光動作ピッチの中で、選択される露光量、発光長に応じた走査速度、露光動作ピッチを決定し、露光パラメータとして描画処理において設定する。 - 特許庁

To provide a portable electronic apparatus capable of preventing distortion of a cabinet wall part, depression and protrusion of an operation key between mutual key group exposure hole surrounding a plurality of operation keys and the other key group exposure hole adjacent to the key exposure hole surrounding the operation keys at the time an operation of the operation key.例文帳に追加

操作キーの操作時に、複数の操作キーを囲むキー群露出孔とこれと隣合う他のキー群露出孔との相互間の筐体壁部が撓んで操作キーが入り込んだり、乗り上げることを防止することができる携帯電子機器を提供する。 - 特許庁

The exposure time is accumulated even during the performance of the continuous recording operation, and the accumulated exposure time of a recording head coincides with the set exposure time Ta during the continuous recording operation performed for the required time period Tp4.例文帳に追加

この実行中にも暴露時間は累積されて、所要時間がＴｐ４の連続記録動作中に、記録ヘッド暴露累積時間は設定暴露時間Ｔａに一致する。 - 特許庁

To execute appropriate exposure adjustment by a simple structure and simple operation.例文帳に追加

簡単な構造かつ簡単な操作で適切な露光調節を行う。 - 特許庁

LOGICAL OPERATION CIRCUIT, LIGHT-EMITTING ELEMENT CHIP, EXPOSURE DEVICE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

論理演算回路、発光素子チップ、露光装置および画像形成装置 - 特許庁

If a release operation is performed, new image pickup is performed at an exposure value corrected at the exposure correction amount.例文帳に追加

レリーズ操作がなされると、上記露出補正量によって補正された露出値にて新たな撮像を行う。 - 特許庁

To improve the throughput of the exposure processing step of alternately performing exposure operation on wafers on two wafer stages.例文帳に追加

２つのウエハステージ上のウエハに対する露光処理を交互に行う露光処理工程のスループットを向上する。 - 特許庁

To decide whether appropriate exposure is obtained for exposure time calculated by arithmetic operation inexpensively with small space.例文帳に追加

演算により算出された露出時間にて適正露出が得られるかを少スペース、低コストで判定可能にする。 - 特許庁

That is, the preparatory operation for exposure (mirror-up and diaphragm drive, etc.), is executed by an exposure start instructing operation (releasing operation), and at the point of time when the preparatory operation is finished, the shake detecting/calculating part 01 and the exposure start decision part 02 are made in an active state.例文帳に追加

即ち、露光開始指示操作（レリーズ操作）により露光のための準備動作（ミラーアップ、絞り駆動等）が行われ、準備動作が完了した時点で、ブレ検出演算部０１及び露光開始判定部０２の動作を開始する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of carrying out a light exposure with high accuracy without reducing throughput even when waiting state of a reticle exists during an exposure operation.例文帳に追加

露光動作中にレチクルの待機状態が存在していても、スループットを落さずに高精度に露光を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To suppress the influence of vibration to the securing of throughput and exposure operation.例文帳に追加

スループットの確保及び露光動作への振動の影響の抑制を図る。 - 特許庁

To improve operation efficiency while reducing unnecessary radiation exposure.例文帳に追加

不必要な被曝を低減し、作業効率を向上することを課題とする。 - 特許庁

After the exposure operation is over, the substrate is lifted and isolated from the substrate table.例文帳に追加

露光動作が終了したら、基板を持ち上げて、基板テーブルから離す。 - 特許庁

IMAGING DEVICE, EXPOSURE CONTROL METHOD THEREFOR AND OPERATION PROCESSING PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

撮像装置およびその露出制御方法およびその動作処理プログラム - 特許庁

On the basis of the OR operation, the exposure pattern on the glass substrate is simulated.例文帳に追加

ＯＲ演算に基づいてガラス基板上の露光パターンをシミュレーションする。 - 特許庁

The image pickup operation is performed a plurality of times under different exposure conditions.例文帳に追加

撮像動作は、露光条件の異なる状態で、複数回行われる。 - 特許庁

Exposure arithmetic operation is performed by using the information on the sensitivity of the imaging device from the electronic still back side when it is performed by an exposure arithmetic operation means.例文帳に追加

また、露出演算手段が露出演算する場合、電子スチルバック側からの撮像素子の感度に関する情報を用いて露出演算を行う。 - 特許庁

After optimization alignment operation conditions of the exposure device B are determined, the second wafer is fed to the exposure device B.例文帳に追加

露光装置Ｂの最適化アライメト作業条件が決定した後に２枚目のウエハを露光装置Ｂに投入する。 - 特許庁

To reduce a period during which an exposure operation is stopped to exchange a filter for removing impurities from gas in an exposure chamber.例文帳に追加

露光室内の気体から不純物を除去するフィルタの交換に伴う露光処理の停止時間を低減する。 - 特許庁

To provide an exposure method, etc. which adjusts the edge shot exposure time and operation of a robot arm to make the throughput enhanced.例文帳に追加

エッジショット露光時間とロボットアームの操作を調整してスループットを向上させる露光方法等を提供する。 - 特許庁

The exposure preparing operation of an exposure device is started (S505), the elapsed time of the started exposure preparing operation is measured, and the completion of the exposure preparation is determined when the measured elapsed time T1 coincides with exposure preparation completion scheduled time Tp stored in a storage means in advance (S512).例文帳に追加

露光装置の露光準備動作を開始させ（Ｓ５０５）、開始した露光準備動作の経過時間を計測し、計測した経過時間Ｔ１が記憶手段に予め記憶している露光準備完了予定時間Ｔｐに一致したときに露光準備完了を判定する（Ｓ５１２）。 - 特許庁