例文 (535件) |
emitter regionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 535件
In this emitter region 4, the base region 3 is exposed in this emitter region 4, and the emitter electrode 6 is provided so as to contact with a base region 4b exposed in the emitter region 4.例文帳に追加
このエミッタ領域4内にベース領域4を露出させ、エミッタ電極6がそのエミッタ領域4内に露出するベース領域4bにもコンタクトするように設けられている。 - 特許庁
At least a portion of the first emitter region 111 is formed as a p^+-emitter region 100, and the second emitter region 111 is brought into contact with the p^+-emitter region 100.例文帳に追加
第1エミッタ領域111の少なくとも一部はp^+ エミッタ領域100であり,第2エミッタ領域111は,p^+ エミッタ領域100に接している。 - 特許庁
The emitter region or the collector region forms the base region and heterojunction.例文帳に追加
エミッタまたはコレクタ領域はベース領域とヘテロ接合を形成する。 - 特許庁
An emitter electrode 102 is in contact with the n^+-type emitter region 122.例文帳に追加
エミッタ電極102は、n^+型エミッタ領域122に接している。 - 特許庁
An emitter electrode 10 is connected to the p^--type base region 2 and the n^+-type emitter region 4.例文帳に追加
p^−型ベース領域2とn^+型エミッタ領域4にエミッタ電極10が接続されている。 - 特許庁
Further, in a base region 5 contacting the emitter region 9, a Ge composition ratio increases from the emitter region 9 to the collector region 3.例文帳に追加
また、エミッタ領域9に接するベース領域5は、エミッタ領域9からコレクタ領域3に向かいGe組成比が増加している。 - 特許庁
The p emitter region is composed of a low-concentration p-channel region 103 and a high-concentration p^+ emitter region 100.例文帳に追加
そしてpエミッタ領域を,低濃度のpチャネル領域103と高濃度のp^+エミッタ領域100とで構成した。 - 特許庁
The n^+ emitter region 104, the p-channel region 103, and the p^+ emitter region 100 are brought into contact with an emitter electrode 109.例文帳に追加
そして,n^+エミッタ領域104とpチャネル領域103とp^+ エミッタ領域100とのいずれもがエミッタ電極109に接するようにした。 - 特許庁
The IGBT100 includes an emitter region 8, a body region 12 and a drift region 19.例文帳に追加
IGBT100は、エミッタ領域8と、ボディ領域12と、ドリフト領域19を備える。 - 特許庁
The drift region 19 is separated from the emitter region 8 by the body region 12.例文帳に追加
ドリフト領域19は、ボディ領域12によってエミッタ領域8から分離されている。 - 特許庁
The body region 25 of the non-channel region 10B includes no emitter region 26.例文帳に追加
非チャネル区域10Bのボディ領域25には、エミッタ領域26が設けられていない。 - 特許庁
The trench 6 is in contact with an emitter region 5 and a fixed potential region 2.例文帳に追加
トレンチ6は、エミッタ領域5および固定電位領域2と接する。 - 特許庁
Then, an emitter 59 is formed on the silicon germanium layer 51 on the emitter 59 region.例文帳に追加
次に、エミッタ59領域のシリコンゲルマニウム層51上にエミッタ59を形成する。 - 特許庁
Its fine emitter region is formed by an emitter diffusion performed from the bottom portion of the groove.例文帳に追加
溝の底部からエミッタ拡散によりより微小なエミッタ領域を形成する。 - 特許庁
The current suppression region 17 is formed under the emitter region 14 so as to cover the base of the emitter region 14.例文帳に追加
電流抑制領域17は、エミッタ領域14の底面を覆うように、エミッタ領域14の下方に形成されている。 - 特許庁
While no emitter electrode is formed on the second emitter region 110, an emitter electrode is formed on that part of a base region 103 which is adjacent to the second emitter region 110.例文帳に追加
第2エミッタ領域110上にはエミッタ電極が形成されていない一方、第2エミッタ領域110と隣接する部分のベース領域103上にはエミッタ電極が形成されている。 - 特許庁
An emitter/source region 208 is formed within the base region 206.例文帳に追加
ベース領域206内には、エミッタ/ソース領域208が形成されている。 - 特許庁
Then, an emitter region 19 is formed on the surface of the base region 17.例文帳に追加
その後、ベース領域17の表面にエミッタ領域19を形成する。 - 特許庁
An n-type emitter region 4 is formed in the base region 3.例文帳に追加
そのベース領域3内にn形のエミッタ領域4が形成されている。 - 特許庁
A heterojunction bipolar transistor is successively provided with an emitter region 21, a base region 22, a collector region 20A, and a sub- collector region 27.例文帳に追加
エミッタ領域21、ベース領域22、コレクタ領域20Aおよびサブコレクタ領域27を順に備える。 - 特許庁
An emitter region 170 is formed in the base region 150 and shallower than the base region 150.例文帳に追加
エミッタ領域170はベース領域150の中に形成され、ベース領域150より浅い。 - 特許庁
The spacer is arranged to electrically insulate the emitter region or the collector region from an external region.例文帳に追加
スペーサはエミッタまたはコレクタ領域を外部領域から電気的に絶縁するために配置される。 - 特許庁
The emitter layer consists of s first emitter region 11 of undoped semiconductor which is not doped with dopant intentionally and a second emitter region 12 of semiconductor which is doped with second conductivity dopant, and the second emitter region 12 surround the whole of the first emitter region 11.例文帳に追加
また、エミッタ層は、故意に不純物をドーピングしていないアンドープ半導体の第1エミッタ領域11と、第2導電型ドーパントをドーピングした半導体の第2エミッタ領域12とから成り、第2エミッタ領域12が第1エミッタ領域11全体を囲っている。 - 特許庁
An emitter region 10 of a second conductivity type is provided in the base region 9.例文帳に追加
ベース領域9には第2導電型のエミッタ領域10が設けられる。 - 特許庁
A p-body region 203a, a p^+emitter region 203c, and an n^+emitter region 204a are formed in the region 213a, and a p-body region 203c, a p^+emitter region 203d, and an n-hole barrier region 211 are formed in the region 213b.例文帳に追加
半導体領域213aにはpボディ領域203a、p+エミッタ領域203c及びn+エミッタ領域204aが形成されており、半導体領域213bにはpボディ領域203c、p+エミッタ領域203d及びn正孔バリア領域211が形成されている。 - 特許庁
An emitter electrode 2 is connected to the emitter region 12 and the second part 11b of the p-type base region 11.例文帳に追加
エミッタ電極2はエミッタ領域12とP型ベース領域11の第2の部分11bとに接続されている。 - 特許庁
A base region 2 is formed in a collector region 1, and the emitter region 3 is formed in the base region 2.例文帳に追加
コレクタ領域1にはベース領域2が形成され、さらに、ベース領域2にはエミッタ領域3が形成されている。 - 特許庁
To reduce displacement of a collector region and an emitter region within a base region for formation of the collector and emitter regions within the base region that constitutes a transistor.例文帳に追加
トランジスタを構成するベース領域にコレクタ領域やエミッタ領域を形成するに際し、ベース領域内におけるコレクタ領域やエミッタ領域の位置ずれを低減する。 - 特許庁
The emitter region 7 and the collector plug region 8 are short-circuited through a wiring 10.例文帳に追加
エミッタ領域7とコレクタプラグ領域8とは配線10によって短絡する。 - 特許庁
An emitter/source region 306 is formed in the base region to be spaced from the resurf region 302.例文帳に追加
ベース領域内にはリサーフ領域302と離隔してエミッタ/ソース領域306が形成されている。 - 特許庁
In the bipolar transistor, an emitter electrode lead layer 9 is formed into such a shape as to completely cover the emitter region 5 and a depletion region 21 near the junction between the emitter region 5 and the base region 3.例文帳に追加
バイポーラトランジスタにおいて、エミッタ電極引き出し配線層9をエミッタ領域5と、エミッタ領域5とベース領域3との接合近傍での空乏層領域21を完全に覆うような形状とする。 - 特許庁
A base electrode 5 and an emitter electrode 6 are provided in contact with the respective base region 3 and emitter region 4.例文帳に追加
このベース領域3およびエミッタ領域4にそれぞれコンタクトしてベース電極5およびエミッタ電極6が設けられている。 - 特許庁
A p-channel region 18, an n+-emitter region 24, a trench-type gate electrode 22, and an emitter electrode 28 are made on the n-drift region 12.例文帳に追加
n−ドリフト領域12上には、pチャネル領域18、n+エミッタ領域24、トレンチ型のゲート電極22、エミッタ電極28が形成される。 - 特許庁
A base region 13 and an emitter region 14 are formed to form a semiconductor device.例文帳に追加
ベース領域13やエミッタ領域14を形成して半導体素子を形成する。 - 特許庁
The emitter regions are positioned on the base region in the first conductivity-type region.例文帳に追加
エミッタ領域は第1導電型領域においてベース領域上に位置している。 - 特許庁
An IGBT 10 comprises an n^+type emitter region 34, an n^-type drift region 26, a (p) type body region 28 formed between the emitter region 34 and the drift region 26, a trench gate 40 extending in the body region 28 from the emitter region 34 toward the drift region 26, and an insulator protrusion 60.例文帳に追加
IGBT10は、n^+型のエミッタ領域34と、n^−型のドリフト領域26と、エミッタ領域34とドリフト領域26を隔てているp型のボディ領域28と、エミッタ領域34からドリフト領域26に向けてボディ領域28内を伸びているトレンチゲート40と、絶縁体の突出部60を備えている。 - 特許庁
An n-type emitter region 208 is formed in the base region 206 to be spaced from the resurf region 202.例文帳に追加
ベース領域206内にリサーフ領域202とは離隔してN型エミッタ領域208が形成されている。 - 特許庁
Within the base region, an n^+-type emitter/source region 206 is formed in separation from the resurf region 202.例文帳に追加
ベース領域内にはリサーフ領域202と離隔してN^+ 型エミッタ/ソース領域206が形成されている。 - 特許庁
A second region (84), contiguous to the first region, is used to form the emitter region of the transistor.例文帳に追加
第1領域に隣接する第2領域(84)は、トランジスタのエミッタ領域を形成するために用いられる。 - 特許庁
A transistor 100 has an emitter region 10, a base region 20 and a collector region 50.例文帳に追加
本発明におけるトランジスタ100が、エミッタ領域10、ベース領域20およびコレクタ領域50を有する。 - 特許庁
In the base region, an N-type emitter/source region 206 is formed separately from the N-type region 202.例文帳に追加
ベース領域内にはN型領域202と離隔してN型のエミッタ/ソース領域206が形成されている。 - 特許庁
The vertical auxiliary transistor operates with the emitter region 31, a deep side portion of the base region 14B contacting the bottom of the emitter region, and a collector deep region 12B serving as a current channel.例文帳に追加
縦型の補助トランジスタ部は、エミッタ領域31と、その底面に接するベース領域14Bの深部側部と、コレクタ深部領域12Bとを電流チャネルとして動作する。 - 特許庁
The field-effect semiconductor device is equipped with a semiconductor region sandwiched between the gate electrodes 106, and the semiconductor region is formed into a stripe-shaped structure composed of an n^+ emitter region 104 and a p emitter region.例文帳に追加
電解効果型半導体装置における,ゲート電極106に挟まれた半導体領域を,n^+ エミッタ領域104とpエミッタ領域とによるストライプ状の構造とした。 - 特許庁
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