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「emitter region」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索
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emitter regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 535



例文

An Si-collector embedded layer 11, a first base region 12 of an SiGeC layer having a high C content, a second base region 13 of an SiGeC or SiGe layer having a low C content and an Si gap layer 14 containing an emitter region 14a are stacked on an Si substrate 10.例文帳に追加

Si基板10に、Siコレクタ埋め込み層11と、C含有率の高いSiGeC層からなる第1ベース領域12と、C含有率の低いSiGeC層又はSiGe層からなる第2ベース領域13と、エミッタ領域14aを含むSiキャップ層14とを積層している。 - 特許庁

A ratio L2/L1 between a distance L1 from the center of the gate electrode of the thyristor 8 to the innermost periphery of an emitter region and a distance L2 to the most outermost periphery is set to 1.2-3.0.例文帳に追加

サイリスタ8のゲート電極の中心からエミッタ領域の最内周までの距離L1 と最外周までの距離L2 との比L2 /L1 を1.2〜3.0にする。 - 特許庁

To raise a breakdown voltage between a collector and an emitter and an early voltage by setting the collector resistance of a collector lead-out region to low resistance in a vertical type pnp transistor.例文帳に追加

縦型PNPトランジスタにおいて、コレクタ導出領域のコレクタ抵抗を低抵抗に設定できることによって、コレクタ−エミッタ間耐圧やアーリー電圧を高くする。 - 特許庁

This semiconductor device is equipped with a substrate 1, first conductivity-type regions 4a to 4g, a collector region 3b, base regions 4c to 4e, and emitter regions 6a to 6c.例文帳に追加

半導体装置は、基板1と、第1導電型領域4a〜4gと、コレクタ領域3bと、ベース領域4c〜4eと、エミッタ領域6a〜6cとを備える。 - 特許庁

例文

In this example, the Ga_xIn_1-xAs is used as the base material and amount of increase in the GaAs composition ratio is excessively increased only on the region near to the emitter end.例文帳に追加

例ではGa_xIn_1−xAsをべース材料に用いており、GaAs組成比の増加量をエミッタ端に近い領域のみ過剰に大きくしている。 - 特許庁


例文

In this semiconductor device, LOCOS oxide films 14, 15, and N-type diffusion layers 22, 23 are formed around a P-type diffusion layer 18 as an emitter region.例文帳に追加

本発明の半導体装置では、エミッタ領域としてのP型の拡散層18の周囲には、LOCOS酸化膜14、15、N型の拡散層22、23が形成される。 - 特許庁

Consequently, the N+ diffusion region 49 and N+ additional embedded layer 45 are connected surely together to lower the collector-emitter saturation voltage of the NPN transistor 31.例文帳に追加

そのことで、N^+型拡散領域49とN^+型付加埋め込み層45とは確実に連結され、NPNトランジスタ31におけるコレクタ−エミッタ間飽和電圧が低減される。 - 特許庁

An SiGe alloy layer 4 is formed on this active region 2a, and a silicon film 5 and an n-type diffusion layer (emitter layer) 6 are formed on the SiGe alloy layer 4.例文帳に追加

この活性領域2a上にSiGe合金層4を形成し、SiGe合金層4上にシリコン膜5およびn型拡散層(エミッタ層)6を形成する。 - 特許庁

Therefore, the number of carriers leaked to the semiconductor substrate 102 from the emitter region 112 can be reduced and a substrate current can also be reduced.例文帳に追加

このため、エミッタ領域112から放出されるキャリアのうち、半導体基板102に漏れるキャリアの数を減少させることができ、基板電流を減少させることができる。 - 特許庁

例文

A P type diffusion layer 106 to become an emitter layer of a horizontal PNP transistor of the IIL and a P type diffusion layer 107 to become a collector layer are formed on the first element region.例文帳に追加

第1の素子領域にはIILの横型PNPトランジスタのエミッタ層となるP型拡散層106と、コレクタ層となるP型拡散層107が形成される。 - 特許庁

例文

Under the circumstances, holes in the vicinity of the first base region 12 are promptly extracted upon application of a reverse bias to the voltage across the emitter and the base, and this suppresses the occurrence of a tail current.例文帳に追加

このため、エミッタ−ベース間電圧が逆バイアスされると、第1ベース領域12近傍の正孔が速やかに引き抜かれ、テール電流の発生が抑えられる。 - 特許庁

Then the base layer 2 is formed, so that the impurity concentration of a side of the base layer 2 joined to the collector layer 1 is higher than that of a side thereof which is joined to the emitter region 3.例文帳に追加

そして、ベース層2が、コレクタ層1との接合側の不純物濃度がエミッタ領域3との接合側の不純物濃度より高くなるように形成されている。 - 特許庁

With respect to the high-frequency transistor 20, there are formed alternately in a square-form base region B_L a plurality of stripe-form emitter openings and a plurality of stripe-form base contacts.例文帳に追加

高周波トランジスタ20では、方形状のベース領域B_L内に、ストライプ状を有するエミッタ開口部とベースコンタクト部とが交互に複数本形成されている。 - 特許庁

A high resistance poly-plug is connected to each source region, which is the emitter of a parasitic bipolar transistor so that parasitic thyristor operations are suppressed, and resistance to latch-up is improved.例文帳に追加

寄生バイポーラトランジスタのエミッタとなる各ソース領域に高抵抗のポリプラグが接続されているので、寄生サイリスタ動作が抑制されラッチアップ耐性が向上する。 - 特許庁

The emitter-side grating 23a substantially passes the laser beam L2 having a longer wavelength than the other laser beam L1, and directs it to a desired region of the light receiving element 12.例文帳に追加

発光素子側回折格子23aは、レーザ光L1,L2のうち波長の長いレーザ光L2をほぼ透過させて受光素子12の所望の領域に導く。 - 特許庁

A P+ emitter region 41 is formed from above a step difference and an interval 42 is enlarged by the influence of acceleration oxidation to the collector buried layer 29.例文帳に追加

段差の上部からP+エミッタ領域41を形成すること及びコレクタ埋め込み層29に対する増速酸化の影響により、間隔42を拡大する。 - 特許庁

In an entire emitter region 3, difference in inductance due to the routing of wiring is eliminated, thus canceling the phase deviation of an RF signal, and hence reliably increasing gain.例文帳に追加

全てのエミッタ領域3において、配線の引き回しによるインダクタンス差が無くなるためRF信号の位相ズレを解消でき、ゲイン向上を確実に達成できる。 - 特許庁

On the surface of the first-layer emitter electrode 17 on the gate electrode 15 where no channel region 6 is formed, a polyimide film 7 which is to be a gate stage is formed.例文帳に追加

チャネル領域6を形成しない箇所のゲート電極21上の第1層目のエミッタ電極17の表面にゲート台座となるポリイミド膜7を形成する。 - 特許庁

This bipolar transistor comprises a GaAs substrate, an n-type collector region formed on the GaAs substrate, a p-type base region having a base layer consisting of p-type SiGe and having a composition, capable of lattice matching with the GaAs substrate and formed on the n-type collector region, and an n-type emitter region formed on the p-type base region.例文帳に追加

GaAs基板と、前記GaAs基板上に形成されたn型コレクタ領域と、前記n型コレクタ領域上に形成され前記GaAs基板と格子整合する組成のp型のSiGeからなるベース層を有するp型ベース領域と、前記p型ベース領域上に形成されたn型エミッタ領域と、を備えることを特徴とするバイポーラ型トランジスタを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises a step for forming an n-type semiconductor region 2 partially on a p-type semiconductor substrate 1, a step for forming an anti-oxidation layer 3 by lowering n-type carrier concentration above the n-type semiconductor region, and a step for forming a base region B, an emitter region E and a collector region C above the anti-oxidation layer 3.例文帳に追加

本発明は、p型半導体基板1上部に部分的にn型半導体領域2を形成する工程と、前記n型半導体領域上部のn型キャリア濃度を下げて酸化防止層3を形成する工程と、前記酸化防止層3上にベース領域Bとエミッタ領域Eとコレクタ領域Cを形成する工程を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

After an intrinsic base region 113 is formed by ion implantation through the aperture, the built-up silicon oxide film is etched back, and an insulating spacer 114 is formed to compose an emitter opening window, in which an emitter lead electrode 118 is formed.例文帳に追加

その開口部からイオン注入を行って真性ベース領域113を形成し、その後堆積したシリコン酸化膜をエッチバックして絶縁スペーサ114を形成することにより構成されたエミッタ開口窓にエミッタ引出し電極118を形成する。 - 特許庁

A p-type SiGe alloy layer 6a and a p-type silicon film 7a of a protruding cross-sectional shape are formed on the active region of an n-type collector layer 2, wherein an n-type emitter diffused layer 13 which functions as an emitter layer, is formed inside the upper part of the silicon film 7a.例文帳に追加

n型のコレクタ層2の活性領域上にp型のSiGe合金層6aと断面凸状のp型のシリコン膜7aとが形成され、シリコン膜7a内の上部にはエミッタ層として機能するn型のエミッタ拡散層13が形成されている。 - 特許庁

The BCD device according to the embodiment includes a poly-emitter type bipolar transistor that includes a poly-emitter region comprised of the polysilicon material and includes one or more MOSs of a CMOS and a DMOS formed on the same single wafer as that on which the bipolar transistor is formed.例文帳に追加

実施の形態に係るBCD素子は、ポリシリコン材質からなるポリエミッタ領域を含むポリエミッタ型バイポーラトランジスタを含み、上記バイポーラトランジスタと同一な単一ウエハ上に形成されたCMOSとDMOSのうちの1つ以上のMOSを含む。 - 特許庁

Also, of a p-n junction formed of the p-type base layer 24 and an n-type emitter layer 25 in a contact region equipped with a base electrode is removed so that ineffective currents, without contribution to a bipolar transistor operation can be prevented from running between the emitter and base.例文帳に追加

また、p型ベース層24とn型エミッタ層25とで形成されたpn接合のうち、ベース電極が設けられるコンタクト領域のものを除去することによって、バイポーラトランジスタ動作に寄与しない無効な電流がエミッタ・ベース間に流れることを防止する。 - 特許庁

By forming a PSG layer on a substrate, a protective film on a region in which a depletion layer is spread, a protective film for the protection from external contamination can be formed simply, and phosphorus treatment and formation of an emitter region can be practiced simultaneously.例文帳に追加

本発明は、基板上にPSG層を設けることにより、空乏層の拡がる領域の保護膜と外部からの汚染を防止する保護膜の形成を簡略化し、リン処理およびエミッタ領域形成が同時に行える。 - 特許庁

In order to expose an n^+-type emitter region 5 or a body p layer 6 (p-type base region 3), an opening end of a contact hole 10a formed on an interlayer insulating film 10 is retracted, and the opening width of the contact hole 10a is expanded.例文帳に追加

n^+型エミッタ領域5やボデーp層6(p型ベース領域3)を露出させるために層間絶縁膜10に形成されるコンタクトホール10aの開口端を後退させ、コンタクトホール10aの開口幅を広げる。 - 特許庁

A semi-insulating region 38 is formed in the p-type GaAs base layer 34 and the n-type GaAs emitter layer 36 between the device region 20 formed in a central portion of the GaAs chip 14 and the metal electrode 18.例文帳に追加

GaAsチップ14の中央部に形成された素子領域20と金属電極18との間において、p型GaAsベース層34とn型GaAsエミッタ層36に半絶縁性領域38が形成されている。 - 特許庁

An aperture 1a is formed through the emitter region 4, base region 2 and carrier accumulation layer 3 and a gate electrode 8 is formed on the internal wall surface of the aperture 1a via a gate insulating film 7.例文帳に追加

エミッタ領域4、ベース領域2およびキャリア蓄積層3を貫通するように開口部1aが形成され、その開口部1aの内壁面上にゲート絶縁膜7を介在させてゲート電極8が形成されている。 - 特許庁

An IGBT is structured in a main cell part MC so that a p^+-type body layer 5 is terminated in an n^+-type emitter region 4, and the IGBT is structured in a sense cell part SC so that p^+-type body layer 5 is terminated in a channel region.例文帳に追加

メインセル部MCでは、IGBTがp^+型ボディ層5がn^+型エミッタ領域4内で終端する構造とされ、センスセル部SCでは、IGBTがp^+型ボディ層5がチャネル領域内で終端する構造とされるようにする。 - 特許庁

In this semiconductor device, in a step of patterning lamination films 205 to 207 containing a polycrystalline silicon film 206 as a base lead-out electrode, a base emitter layer forming region and a collector layer forming region are eliminated by the use of the same mask.例文帳に追加

ベース引き出し電極となる多結晶シリコン膜206を含む積層膜205〜207をパターニングする工程において、同一のマスクを用いてベース・エミッタ層形成領域とコレクタ層形成領域とを除去する。 - 特許庁

A first P+ diffused layer 10 constituting an emitter region of a horizontal PNP transistor and a second P+ diffused layer 10 constituting a collector region are formed on an embedded silicon oxide film 2 on the SOUI substrate, respectively.例文帳に追加

横型PNPトランジスタのエミッタ領域を構成する第1のP^+ 拡散層10及びコレクタ領域を構成する第2のP^+ 拡散層10は、それぞれ、SOI基板上の埋込シリコン酸化膜2上に形成されている。 - 特許庁

The emitter 83 and the collector 84 of the LDD structures are manufactured by forming poly-si gates 210 and 211 in a lateral pnp transistor forming region 200 at the time of forming a poly-si gate 210 in a MOSFET forming region 100, and implanting ions twice in the region 200 in the same way as in the region 100.例文帳に追加

LDD構造のエミッタ83及びコレクタ84は、MOSFET形成領域100にpoly-siゲート210を形成するときに、ラテラルPNPトランジスタ形成領域200にもpoly-siゲート210、211を形成し、領域200に対しても領域100に対してと同様に二回のイオン注入を行なうことによって製造される。 - 特許庁

In an Insulated Gate Bipolar Transistor (IGBT) provided with a pair of main electrodes (emitter-collector electrodes) and a trench gate electrode 32 controlling the on-off state of the electric current flowing between a pair of the main electrodes, an n-type floating semiconductor region is formed in a body region 28 side from the bonding interface of the body region 28 and a drift region 26.例文帳に追加

一対の主電極(エミッタ・コレクタ電極)と、その一対の主電極間を流れる電流のオン・オフを制御するトレンチゲート電極32を備えているIGBT(Insulated Bipolar Transistor)において、ボディ領域28とドリフト領域26の接合界面よりボディ領域28側にn型のフローティング半導体領域が形成されていることを特徴としている。 - 特許庁

An N-type island shaped region 14 surrounded by a separation region 13 comprises a collector region 16 extending from the upper surface of the epitaxial layer EL to the second buried layer 12, island shaped base regions 15, 17 surrounded by the second buried layer 12 and the collector region 16, and an emitter region 18 whose periphery keeps an approximately constant distance away from the collector region 16.例文帳に追加

分離領域13に囲まれたN型の島状領域14の中に、エピ層ELの上面から第2の埋め込み層12まで延びるコレクタ領域16と、第2の埋め込み層12とコレクタ領域16に囲まれて島状を呈するベース領域15、17と、内側の窓部分よりベース電極を取り出せるようにしたリング状で、その外周がコレクタ領域16とほぼ一定の距離だけ離れているエミッタ領域18と、を形成する。 - 特許庁

A collector layer 103 formed on a semiconductor substrate 101, a base layer 104 comprising carbon which is formed on the collector layer, and an emitter layer formed on the base layer are provided, with tellurium contained in an intrinsic region 105 of the emitter later.例文帳に追加

半導体基板101上に形成されるコレクタ層103と、前記コレクタ層上に形成され、炭素を含有するベース層104と、前記ベース層上に形成されたエミッタ層を有し、前記エミッタ層の真性領域105にはテルルが含有されることを特徴とするヘテロ接合バイポーラトランジスタ。 - 特許庁

A semiconductor device, which can improve VEBO on a substrate surface and can maintain a current amplification rate β, as is, by installing the low concentration base area 32 on the surface of the base region 22 adjacent to an emitter region 23 can be provided.例文帳に追加

エミッタ領域23に隣接するベース領域22表面に低濃度ベース領域32を設けることにより基板表面でのVEBOを上げることができ、電流増幅率βも従来のまま維持できる半導体装置を提供できる。 - 特許庁

An emitter E, a collector C1, and a sub collector C2 are composed of an n-channel region, and the breakdown voltage between the sub collector C2 and a base B is higher than a breakdown voltage between the collector C1 and the base B.例文帳に追加

エミッタE、コレクタC1及びサブコレクタC2はn型領域からなり、サブコレクタC2−ベースB間の降伏電圧は、コレクタC1−ベースB間の降伏電圧より高い。 - 特許庁

The impurity in the PSG film 40, then, is diffused in an area 13 of a p-type base, thereby, the region 14 of n-type emitter is formed along the opening of the trench 10a.例文帳に追加

そして、PSG膜40内の不純物をP型ベース領域13内に拡散させることにより、トレンチ溝10aの開口に沿ってN型エミッタ領域14を形成する。 - 特許庁

The upper interface of the first P+ diffused layer 10 and that of the second P+ diffused layer 10 are at deeper level that than of an emitter region 23 of a vertical NPN transistor.例文帳に追加

第1のP^+ 拡散層10の上界面及び第2のP^+ 拡散層10の上界面は、それぞれ、縦型NPNトランジスタのエミッタ領域23の上界面より深い位置にある。 - 特許庁

To constitute a semiconductor device into a structure, wherein a turn-off breakdown at the edge part of a pressure contact region at the time of breaking a current is hardly generated and failure of a dielectric strength between a gate and an emitter at this edge is hard to occur.例文帳に追加

電流遮断時の加圧接触領域のエッジ部でのターンオフ破壊が生じ難く、また、このエッジ部でのゲート/エミッタ間の絶縁耐圧不良が起こり難い構造とする。 - 特許庁

An emitter current for which the base current is amplified flows as a photoelectric current and a logarithmically transformed voltage appears at the source of a MOS transistor T1 for performing an operation in a sub threshold region.例文帳に追加

このベース電流が増幅されたエミッタ電流が光電流として流れ、サブスレッショルド領域で動作を行うMOSトランジスタT1のソースに対数変換された電圧が現れる。 - 特許庁

To provide a bipolar transistor which is superior in electrical characteristics and high in reliability by suppressing thermal history given to a base region and reducing the electrical resistance of the emitter electrode.例文帳に追加

ベース領域に与える熱履歴の抑制およびエミッタ電極の電気抵抗値の低減などにより、電気的特性に優れ、信頼性の高いバイポーラトランジスタを提供することができる。 - 特許庁

an emitter current in which this base current is amplified flows as a photocurrent and a logarithmically converted voltage appears at a gate of a MOS transistor T1 that performs an operation in a sub-threshold region.例文帳に追加

このベース電流が増幅されたエミッタ電流が光電流として流れ、サブスレッショルド領域で動作を行うMOSトランジスタT1のゲートに対数変換された電圧が現れる。 - 特許庁

In the first island-shaped region, a first Zener diode ZD1 formed of a base layer 6 and an emitter layer 7 is connected to an input/output terminal SG in a forward direction.例文帳に追加

第1の島状領域においてベース層6およびエミッタ層7により形成される第1のツェナーダイオードZD1が入出力端子SGに順方向接続されている。 - 特許庁

In the p-type base layer 3, an n-type emitter layer 4 is formed and in a region on the surface of the n-type base layer 1, which is different from the p-type base layer 3, a trench groove 8 is formed.例文帳に追加

そして、p型ベース層3内にはn型エミッタ層4が形成され、また、n型ベース層1の表面でp型ベース層3と異なる領域にはトレンチ溝8が形成されている。 - 特許庁

Since the concentration of an electric field generated in the vicinity of the bottom surface of the buffer region 113 is eased by the configuration, voltage resistance between the collector and the emitter can be further increased.例文帳に追加

当該構成により、バッファ領域113の底面近傍で発生する電界集中が緩和されることとなるため、コレクタ−エミッタ間の耐圧を更に高くすることが可能となる。 - 特許庁

This invention is related to an inter-road/vehicle communication system for performing inter-road/vehicle communication based on an optical signal between an in-vehicle unit 2 and a light emitter/receiver 8 of an optical beacon 4 in a communication region A.例文帳に追加

本発明は、通信領域Aにおいて車載機2と光ビーコン4の投受光器8との間で光信号による路車間通信を行う路車間通信システムである。 - 特許庁

The cold cathode electron emitter comprises a wide band gap (WBG) semiconductor that is n+ doped in high concentration, p doped WBG region, and a metallic layer having a low work function.例文帳に追加

冷陰極電子エミッタは、高濃度にn+ドーピングされたワイドバンドギャップ(WBG)の半導体、pドーピングされたWBG領域、および低い仕事関数を持つ金属層を含む。 - 特許庁

On a semiconductor substrate 101, an emitter mesa section 105 and base mesa sections 104 and 103 are formed, and the surface of a sub- collector layer 102 is exposed in a region outside a collector layer 103.例文帳に追加

半導体基板101上にエミッタメサ部105、ベースメサ部104,103を形成するとともに、コレクタ層103の外側の領域にサブコレクタ層102の表面を露出させる。 - 特許庁

例文

To automatically track a target object in a low electric field region in which a receiving electric field of a primary emitter for tracking is not more than a value of thermal noise C/N even if a digital modulation system is used.例文帳に追加

デジタル変調方式を用いても追尾用一次輻射器の受信電界が熱雑音C/N値以下の低電界領域において目標物体を自動追尾する。 - 特許庁




  
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