「form region」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

An adhesive sheet 30 with a removable portion 31 is adhered on a mother sealing substrate 400, and moreover a mother element board 100 having a display region 101 and a terminal portion 102 is adhered on the adhesive sheet 30 to form a mother panel.例文帳に追加

マザー封止基板４００に除去部３１を有する接着剤シート３０が貼り付けられ、さらに表示領域１０１と端子部１０２を有するマザー素子基板１００が接着剤シート３０に貼り付けられて、マザーパネル２００が形成される。 - 特許庁

The two layer bank 13 consists of a lower layer bank 14 and an upper layer bank 15 partitioning the color element regions A, and the lower layer bank 14 is provided so as to stretch out to the inside of the color element region A to form the step on the wall surface of the two layer bank 13.例文帳に追加

二層バンク１３は、下層バンク１４と色要素領域Ａを区画する上層バンク１５とからなり、下層バンク１４は、色要素領域Ａの内側に張り出すように設けられて、二層バンク１３の壁面に段差を形成している。 - 特許庁

On each of peripheral wall faces which form the shaft holes 7a, 8a of the pair of opposite side walls 7, 8, respectively, a region G2 by which a fracture surface is formed is set to be minimized, 20% or less of a plate thickness T of each of the opposite side walls 7, 8.例文帳に追加

一対の対向側壁７，８の各軸孔７ａ，８ａを形成する周壁面それぞれにおいて、破断面が形成される領域Ｇ２を対向側壁７，８の板厚Ｔの２０％以下と、可及的に小さく設定している。 - 特許庁

A plurality of differences between an estimated atmospheric pressure and a calculated, substituted atmospheric pressure are previously set in a region discriminating part 33 in the form of functions of the revolution of engine and the opening of a throttle, and are stored together with a plurality of regions defined by the above differences.例文帳に追加

領域判別部３３には、算出された代替大気圧と、予想される大気圧との差が、エンジン回転数とスロットル開度との関数で予め複数設定され、前記差によって区切られた複数の領域とともに記憶されている。 - 特許庁

A droplet 72 of a sample solution is made to adhere to the tip of a needle 71 and passed through a slit 65 while the droplet is brought into contact with the hydrophobic region 62, and the droplet of the needle connects with the gel 64 in such a form as to fill the gap 65 of the gel 64.例文帳に追加

ニードル７１の先端に試料溶液の液滴７２を付着させ、液滴を疎水性領域６２に接触させながらスリット６５を通過させると、ニードルの液滴はゲル６４の間隙６５を埋める形でゲル６４を連結する。 - 特許庁

The image components and the transmissivity component can be expanded by one and same processing system by recording the transmissivity component adopting the same compression form as that of the image components and the two channel pseudo components with the data structure the same as the data structure of the image region.例文帳に追加

画像成分と同一の圧縮形式の透過率成分及び２チャンネルの疑似成分を画像領域と同一のデータ構造で記録することにより、画像成分と透過率成分とを同一の処理方式で伸張することができる。 - 特許庁

To manufacture a toner which suppresses bleed-out of a wax component to a surface thereof, hardly causes filming on a photoreceptor and an offset phenomenon in a high-temperature region, excels in image reproducibility, and can form a high-quality image with high definition and high resolution.例文帳に追加

ワックス成分の表面へのブリードアウトが低減化され、感光体へのフィルミング、高温域でのオフセット現象などを起すことが少なく、画像再現性に優れ、高精細および高解像度の高品位画像を形成できるトナーを製造する。 - 特許庁

Then, an N+-type embedded layer 61 is formed in a second island region 53 to form therein a C-MOS transistor 42, and thereby the noise generated from an N-channel MOS transistor is blocked so as to prevent adverse effects given to an NPN transistor.例文帳に追加

そして、Ｃ−ＭＯＳトランジスタ４２が形成される第２の島領域５３にＮ^+型埋め込み層６１が形成されることで、ＮチャンネルＭＯＳトランジスタから発生するノイズをブロックしＮＰＮトランジスタへの悪影響を防止することができる。 - 特許庁

Then, when the stop operation buttons 84a-84c are depressed, a game image which is a performance image in a form different from that of a performance image displayed in the display region 32a of a liquid crystal display device 32 is displayed at this timing of depressing.例文帳に追加

そして、停止操作ボタン８４ａ〜８４ｃが押された場合には、この押されたタイミングで、液晶表示装置３２の表示領域３２ａに表示されている演出画像とは異なる態様の演出画像であるゲーム画像を表示する。 - 特許庁

A rotation output of a servomotor 14 having a wide range variable speed range region is converted to a reciprocal motion by reciprocation conversion mechanisms 20, 22, 24, a forming blade to form a spring material to a wave shape is driven by the reciprocate motion.例文帳に追加

広範囲な可変回転数域を有するサーボモータ１４の回転出力を往復変換機構２０，２２，２４によって往復運動に変換し、該往復運動によりばね用材を波状に成形する成形刃の駆動を行なわせるようにした。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which can form a deteriorated layer by radiating laser along a street and dividing it into individual devices even if there exists an electrode in such region on the back surface of a semiconductor substrate as corresponds to a device on the front surface.例文帳に追加

半導体基板の裏面において表面のデバイスと対応する領域に電極があっても、ストリートに沿ってレーザを照射して変質層を形成し個々のデバイスに分割することが可能な半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The intravascular expansion appliance 1 formed by taking up a base film of a sheet shape formed of polyimide and drilled with a number of microholes to a tubular form is inserted into the distal end of a catheter 4, is guided to a constricted lesion region 6 of the blood vessel 5 and is discharged to there.例文帳に追加

ポリイミドで形成され、多数の微細孔が穿設されたシート形状のベースフィルムを管状に巻き取った血管内拡張用具１をカテーテル４の先端に内装して血管５の狭窄病変部位６まで誘導し、そこへ排出する。 - 特許庁

Preferably, the apparatus is equipped with magnetic field generating means 21, 22 which form a magnetic field having diversified lines of magnetic force within the discharge plasma forming region or a magnetic field having lines of magnetic force parallel to the direction of discharge current.例文帳に追加

また、好ましくは前記放電プラズマの生成領域に、少なくとも、多方向の磁力線を有する磁場、または、放電電流の進行方向に対して平行な成分を有する磁場を形成する磁界発生手段２１，２２を備える。 - 特許庁

A region including the first connection holes 5a is irradiated with the laser beam 10, a part of the first connection pad 4a is melted by the laser beam 10 in the vicinity of the first connection hole 5a to form a molten part 9, and welded to the first connection electrode 3a.例文帳に追加

第１接続孔５ａを含む領域にレーザ光１０を照射し、第１接続孔５ａ近傍で第１接続パッド４ａの一部がレーザ光１０により溶融して溶融部９を形成し、第１接続電極３ａに溶接される。 - 特許庁

A region A where an acceptor impurity exists is then formed so as to be extended from a boundary face 9 between the base layer 2 and the base layer 3 to the base layer 3 to form an epitaxial substrate 5, and the substrate 5 is used as a substrate when the electronic device is manufactured.例文帳に追加

そして、下地層２及び下地層３の界面９から下地層３へ延在するアクセプタ不純物が存在する領域Ａを形成してエピタキシャル基板５を作製し、この基板５を電子デバイス作製時の基板として用いる。 - 特許庁

For reducing the non-discharge region, the back panel is provided with a triangular projecting wall from a side surface of the back barrier rib, its tip is connected to the tip of the adjacent projecting wall to form a projecting barrier rib.例文帳に追加

前面パネルにおいて透明電極を必要としない第１及び第２のバス電極は、端子部と連結させる端子電極と放電を開始させるための主電極と、その間の給電と放電の安定性を保つ枝電極から構成する。 - 特許庁

A high withstand voltage junction terminal structure 34 comprising a RESURF (reduced surface field) structure in loop form is formed on a SOI substrate, and a horizontal IGBT13, a horizontal FWD14, an output stage device 15, and a driving circuit 16 are formed inside the region.例文帳に追加

ＳＯＩ基板上に、ループ状のリサーフ構造よりなる高耐圧接合終端構造３４を形成し、その内側領域に横型ＩＧＢＴ１３、横型ＦＷＤ１４、出力段素子１５および駆動回路１６を作製する。 - 特許庁

The alignment orientation and position of each discrete alignment patch in the plurality of discrete alignment patches is selected so as to induce the layer of birefringent material, to form at least one optical vortex retarder adjacent to a substantially non-oriented region of the alignment layer.例文帳に追加

複数の別個の配向パッチ中の各別個の配向パッチの配向方向および位置は、複屈折材料の層に、配向層の実質的無方向性領域に隣接した少なくとも１つの光渦リターダを形成させるように選択される。 - 特許庁

A bottom region in the device body case 7 where the lubricating oil 17 resides is divided into two regions on the side of the bearing portions 9, 11 and on the side of the differential case 15 with a partition member 29 to form an oil sump 31 on the side of the bearing portions 9, 11.例文帳に追加

装置本体ケース７内の潤滑油１７が溜まる底部領域を、仕切り部材２９によって、軸受部９，１１側とデフケース１５側との二つの領域に分割し、軸受部９，１１側に油溜まり３１を形成する。 - 特許庁

The wheel cutter includes a revolution wheel object 2 having a cutting tooth 1 to form a rib mark, wherein a plurality of long grooves 11 are formed along the slant face of the cutting tooth 1 by a laser beam machining and ground so that R may be attached to the edge region of the long grooves 11.例文帳に追加

リブマークを形成すべき刃部１を有する回転ホイール体２を具備し、前記刃部１にはその斜面に沿った複数の長溝11がレーザー加工により形成されると共に、前記長溝11の角部にアールを付けるように研磨されている。 - 特許庁

A nitride film sidewall is formed on a side wall of a gate electrode, and a gate oxide film on a source/drain formation-predetermined-region is removed by a wet etching to form an undercut under the nitride film sidewall but no undercut under the gate electrode.例文帳に追加

ゲート電極の側壁に窒化膜サイドウォールを形成し、ウエットエッチングにより、ソース・ドレイン形成予定領域上のゲート酸化膜を除去することにより、窒化膜サイドウォール下方にアンダーカットが入るが、ゲート電極下方にはアンダーカットは入らない。 - 特許庁

Then, a laser beam with a pulse width of 1 fs to 10 ps and a wavelength of 370 to 640 nm is applied to selectively activate only the amorphous portion and form the extension region with thickness of 20 nm or less.例文帳に追加

そして、パルス幅が１ｆｓ以上１０ｐｓ以下、かつ波長が３７０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下のレーザビームを照射することにより、アモルファス化した部分のみを選択的に活性化させ、エクステンション領域を２０ｎｍ以下の厚さで形成する。 - 特許庁

Then an uncured first optical material resin is charged between the second lens member and a formation region of the diffraction grating form and further the first lens member and the second lens member are stuck to each other by curing the first optical material resin.例文帳に追加

そして、回折格子形状の形成領域と第２レンズ部材との間に未硬化の第１光学材料樹脂を充填するとともに、該第１光学材料樹脂を硬化させて第１レンズ部材および第２レンズ部材を貼り合わせる。 - 特許庁

And a coupling part 1a for coupling the punched circuit patterns is formed by punching with a die 5 to form the circuit pattern and by leaving the part corresponding to the non-adhesive means region 2a without punching it out.例文帳に追加

そして、金型５を用いて打ち抜き加工を行って回路パターンを形成するとともに、非接着手段領域２ａに相当する部位を打ち抜かずに残すことにより、打ち抜かれた回路パターン同士を連結する連結部１ａを形成する。 - 特許庁

After forming in the form of a tape a base film 1 made of a highly flexible resin, there are formed by a punching press-work using a metallic mold a device hole 2, sprocket holes 3, an outer hole 4, and zigzaggrid- like mesh holes which are formed only in a folded hole-region 5.例文帳に追加

可撓性の高い樹脂フィルムにてテープ状にベースフィルム１を形成し、デバイスホール２、スプロケットホール３、アウターホール４および折り曲げホール領域５に千鳥格子状のメッシュホールを、金属金型を用いて打ち抜きプレス加工にて形成する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can suppress an increase in the density of an image in an overlapping region wherein a plurality of nozzles corresponding to the formation of one dot exist, can improve a stripe generation suppressing effect, and can form a highly precise image, and to provide an image forming method.例文帳に追加

一のドット生成に対応するノズルが複数存在するオーバーラップ領域における画像の濃度上昇を抑制し、スジの発生抑制効果を高め、高精細な画像を形成可能な画像形成装置、画像形成方法を提供する。 - 特許庁

Thereby the light from the LED lamp 1 can illuminate not only the side face of the plate-form light transmitting member 2 but also the oversurface 2c and undersurface 2d to constitute a wider surface region in a uniform condition or causes them to emit light.例文帳に追加

これによって、ＬＥＤランプ３からの光は、板状光伝達部材２の側面のみならず、より広い面領域をなす上下の面２ｃ，２ｄも、より均一な状態で照明ないし発光させることができ、面発光体を構成し得る。 - 特許庁

To form a sufficiently round shape at the upper edge of a trench and to suppress level difference in the vicinity of the trench when it is filled with an insulating material in the process for fabricating a semiconductor device forming an isolation region of STI structure.例文帳に追加

ＳＴＩ構造の素子分離領域を形成する半導体装置の製造方法において、トレンチの上縁部に充分な丸み形状を形成でき、且つ、トレンチ内部への絶縁材料の埋込みに際してその付近での段差を抑制する。 - 特許庁

A silicon layer 10B of conductivity type opposite to that of a bulk is provided on the surface of a silicon substrate 100, and a hydrogen ion is implanted to prescribed depth L at a surface region via the silicon layer 10B to form a hydrogen ion implantation layer 11.例文帳に追加

シリコン基板１００の表面にバルクの導電型とは反対の導電型のシリコン層１０Ｂを設け、表面領域の所定の深さ（Ｌ）にシリコン層１０Ｂを介して水素イオンを注入して水素イオン注入層１１を形成する。 - 特許庁

A silicon oxide film is formed on the surface of a silicon substrate 101, ions are implanted in a region on the lower layer side than the silicon oxide film, and then heat treatment is performed to form an underlying layer 102 made of single crystal silicon subjected to the ion implantation.例文帳に追加

シリコン基板１０１の表面にシリコン酸化膜を形成し、その後、前記シリコン酸化膜よりも下層側の領域にイオン注入を行い、次いで熱処理して、イオン注入された単結晶のシリコンからなる下地層１０２を形成する。 - 特許庁

Unique features can be found in the form of kami danjiri depending on the region, and various types exist, such as Sumiyoshi-type (Taisa danjiri), Sakai-type, Osaka-type, Ishikawa-type (Niwaka danjiri), Kitakawachi-type, Yamato-type, Kobe-type, Amagasaki-type, Ship-type, Shinto-shrine-type and Takarazuka-type. 例文帳に追加

上地車は、地域によりその形態に特徴があり、住吉型（大佐だんじり）・堺型・大阪型・石川型（仁輪加だんじり）・北河内型・大和型・神戸型・尼崎型・舟型・社殿型・宝塚型というように多種多様な型が存在する。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A left side part of a cover plate 3 is provided with a non-contact part 31a in a protruding convex form so as not to touch a pixel substrate 6 (glass substrate S) corresponding to a region in a left side over the left end 30a of a sealing substrate 23.例文帳に追加

カバープレート３の左側部に、封止基板２３の左側端部３０ａよりも左側の領域に対応した画素基板６（ガラス基板Ｓ）に接触しないように凸形状に盛り上った形状をした非接触部３１ａを設けた。 - 特許庁

After forming a lower electrode and an interlayer dielectric (first insulating film) , a capacitive opening region (first opening) is formed and a second insulating film is deposited to form a sidewall on the sidewall of the first opening by overall etching.例文帳に追加

半導体基板上に下部電極および層間絶縁膜（第１の絶縁膜）を形成した後、容量開口領域（第１の開口部）を形成し、第２の絶縁膜を堆積して全面エッチングにより、第１の開口部の側壁にサイドウォールを形成する。 - 特許庁

The box 5 has an elongated hole 18 surrounding the moving region of the rotary shaft 22, a bottom wall 6 opposed to the bottom surface of the stage 17 via a small gap therebetween, a ceiling wall 7 and a peripheral wall 8 which form the exposure space 4 in cooperation with the bottom wall 6.例文帳に追加

容器５は、回転軸２２の移動領域を囲む長孔１８を有し、ステージの底面に微小な隙間を介して対向する底壁６と、底壁６と共に露光空間４を形成する天井壁７、周壁８を有する。 - 特許庁

A sacrifice layer 103 is isotropically etched through a through-hole 104a with the use of, for instance, a diluted hydrofluoric acid solution, to form a space 131 exceeding the region of the through-hole 104a between an oscillator layer 104 and a GaAs buffer layer 102.例文帳に追加

例えば希弗酸溶液を用い、貫通孔１０４ａを介して犠牲層１０３を等方的にエッチングし、振動子層１０４とＧａＡｓバッファー層１０２との層間に、貫通孔１０４ａの領域を超える空間１３１を形成する。 - 特許庁

Color filter coatings having photosensitivity of second and succeeding colors are formed to cover the green color filter 31 and exposed and developed to form a color filter 32 of the second and succeeding colors inside a region surrounded by the green color filter 31.例文帳に追加

グリーンカラーフィルタ３１を被覆するように、２色目以降の感光性を有するカラーフィルタ被膜を形成し、カラーフィルタ被膜を露光および現像して、グリーンカラーフィルタ３１で囲まれた領域よりも内側に、２色目以降のカラーフィルタ３２ｂを形成する。 - 特許庁

Both sheets are pressed from the side of the molten sheet 6 by a molding roller 16 arranged in opposed relation to the cooling roll 13 positioned on this side of the curing region of the molten sheet 6 to form the groove part corresponding to the outer dimension of the woody substrate to the sheet in the longitudinal direction thereof.例文帳に追加

溶融シート６が硬化する手前に位置する冷却ロール１３に対向して配置された成形ローラ１６で溶融シート６の側から押圧して、シートの長手方向に木質基板の外寸に対応した溝部を形成する。 - 特許庁

The first lower and upper portions form an undoped region ND having a thickness of >0.5 μm and the difference Δn_opt in light refractive index between either one of the coating layers 1 and 2 and the guide layer adjoining the coating layer is adjusted to <0.02.例文帳に追加

第１の下方および上方部分は、厚さが０．５μｍより大きいドープされていない領域ＮＤを形成し、被覆層の少なくともいずれか１つと、前記隣接するガイド層との光屈折率の差Δｎ_ｏｐｔは０．０２未満である。 - 特許庁

The method of manufacturing a touch sheet comprises the step of directly forming, in an elastic body 123 which conducts electricity due to the pressurization in a predetermined region, conductive pattern wirings 121, 122 so as to be in the lattice form on front and back surfaces of the elastic body 123.例文帳に追加

本発明のタッチシートの製造方法は、所定の領域の加圧によって電気的に導通する弾性体１２３において、前記弾性体１２３の表裏に互いが格子状になるように直接導電パターン配線１２１、１２２を形成する。 - 特許庁

The resulting uniform thickness of the BPSG film from the wafer, regardless of the coarseness and denseness refraction of the gate electrode forming region, makes an etching rate between contact holes uniform to be able to form the contact holes having a small variation in the leakage current value.例文帳に追加

その結果、ゲート電極形成領域の疎密にかかわらず、基板からのＢＰＳＧ膜厚が均一となるため、コンタクトホール間のエッチングレートが均一となり、コンタクト抵抗、リーク電流値のばらつきの少ないコンタクトホールを形成することが出来る。 - 特許庁

To enable to simply and rapidly form a region being finely linear and easily dividable not only on a platy body of a semiconductor material, a piezoelectric ceramic material, a glass (amorphous) material or the like but even on a plate of a very hard and brittle material such as sapphire or the like.例文帳に追加

半導体材料、圧電セラミック材料、ガラス（非晶質）材料等の板体のみならず、非常に硬いサファイア等の硬脆材料板体にも、簡単かつ迅速に、精細な線状の分割容易化領域を形成可能とすること。 - 特許庁

We have already discussed the non-tariff barriers removed by the EU in order to form a single market in detail, but Table 3.4.18 gives an overview of the extent to which these items are included in economic partnerships within the East Asian region.例文帳に追加

EUが単一市場形成のために取り除いてきた非関税障壁については既に詳しく述べたが、これらの項目が、東アジア域内の経済連携にどの程度含まれているかという観点からまとめたものが第3-4-18表である。 - 経済産業省

The method for forming the germanide structure within the germanium region on the semiconductor substrate through the self-alignment method includes a step of depositing a metal layer on the substrate and the germanium region, a step of heating the structure to form a metal and a germanium compound, and a step of selectively removing unreacted metals from germanide and the substrate.例文帳に追加

本発明は、半導体基板上のゲルマニウム領域内で、自己整列方法でゲルマニド構造を形成する方法に関するものであり、基板およびゲルマニウム領域にわたって金属層を付着させるステップ、さらに金属およびゲルマニウムの化合物を形成するために構造を加熱するステップ、およびゲルマニドおよび基板から未反応金属を選択的に除去するステップを含んでいる。 - 特許庁

In the information recording medium having a plurality of recording layers in a multilayered form, a plurality of independent thin disks are layered while rotational center holes thereof are aligned and respective thin disks are adhered to each other in a local adhesive region other than a groove forming region where a groove shape is formed.例文帳に追加

本発明による情報記録媒体は、複数の記録層を多層的に有する情報記録媒体であって、独立した単体としての薄型ディスクを複数枚、回転中心穴を合せて積層して構成され、それぞれの薄型ディスクは互いに、溝形状が形成された溝形成領域以外の局所的な接着領域において接着されていることを特徴とする。 - 特許庁

In a region in which a coverage of an active region where a gate electrode 14 is formed is ≥50% and an area thereof is ≥0.02 mm^2, carbon 15 is introduced into a polycrystalline silicon film 14' and then phosphorus 16 is introduced into the polycrystalline silicon film 14', which is patterned to form the gate electrode 14 on a gate insulating film 13.例文帳に追加

ゲート電極１４が形成されたアクティブ領域による被覆率が５０％以上かつその面積が０．０２ｍｍ^２以上の領域において、多結晶シリコン膜１４´に炭素１５を導入してから、多結晶シリコン膜１４´にリン１６を導入し、多結晶シリコン膜１４´をパターニングすることにより、ゲート絶縁膜１３上にゲート電極１４を形成する。 - 特許庁