意味 | 例文 (999件) |
ion sourceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1612件
To provide an ion source having electric field strength required for generating high-brightness ion beams while preventing discharge between an electric field ionizing electrode and an external electrode.例文帳に追加
電界電離電極と外部電極との間の放電を防ぎながら高輝度のイオンビームの生成に必要な電界強度を得ることが可能なイオン源を提供する。 - 特許庁
A source-drain region 108 is formed by forming an n+high concentration impurity region 107 by the ion implantation using the gate electrode side wall 104 as the ion implantation mask.例文帳に追加
このゲート電極側壁104等をイオン注入マスクとして、n+高濃度不純物領域107をイオン注入で形成し、ソース・ドレイン領域108を形成する。 - 特許庁
To provide an ion source device which can be assembled in a manner that an opening part of an arc chamber as an ion generating chamber becomes surely coaxial to an opening of a draw-out electrode.例文帳に追加
イオンの生成室であるアークチャンバーの開口部が引き出し電極の開口部に対して確実に同軸状となるように組み立てできるイオン源装置を提供する。 - 特許庁
At first, a target material holder 3a is operated to direct a target material 3b toward an ion beam source 1 and then a substrate 5 is irradiated with an ion beam 2 thus forming one layer of film.例文帳に追加
まず、ターゲット材ホルダ3aを操作してターゲット材料3bをイオンビーム源1に向け、イオンビーム2を照射して、基板5上に膜を1層形成する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam device and an FIB (focused ion beam) device excellent in performance by reducing an influence on an ion beam by a noise component included in an electrostatic deflection power source.例文帳に追加
静電偏向電源に乗っているノイズ成分によるイオンビームへの影響を軽減して、性能のよい荷電粒子ビーム装置およびFIB装置を提供すること。 - 特許庁
In this ion beam processing apparatus, an electrode 26 in the center of the face opposed to the pulling-out electrode 20 within the ion source 1 and an electrode 27 along the inner radius are arranged.例文帳に追加
このようなイオンビーム処理装置において、イオン源1内で引出し電極20との対向面中央に電極26と、内周に沿って電極27を設置する。 - 特許庁
A time of flight measuring part 42 measures a flight time until ions generated in the ion source 10 on which the delay extracting parameter is set reach an ion detector 30.例文帳に追加
飛行時間計測部42は、遅延引き出しパラメーターが設定されたイオン源10で発生したイオンが検出器30に到達するまでの飛行時間を計測する。 - 特許庁
To enable a negative ion generator to be driven by a direct-current power source of low power consumption with a simple structure.例文帳に追加
マイナスイオン発生器において、簡単な構成により、低消費電力の直流電源駆動を可能とする。 - 特許庁
To provide a mass spectroscope having an ion source part capable of generating positive ions and negative ions with high efficiency.例文帳に追加
高い効率で正イオン及び負イオンを生成できるイオン源部を有する質量分析装置を提供する。 - 特許庁
Then, ion implantation is performed using the silicon oxide films 21, 24 as masks to form n+ type source regions 4.例文帳に追加
次に、シリコン酸化膜21、24をマスクとしたイオン注入を行ってn+型ソース領域4を形成する。 - 特許庁
After that, each gate electrode is patterned, and source and drain regions are formed in the well region 13 by ion implantation of impurities in the well region 13.例文帳に追加
その後、各ゲート電極をパターニングし、不純物のイオン注入によりソース・ドレイン領域を形成する。 - 特許庁
To prevent a cap becoming a lid of a sample chamber from sticking to the main body of an oven in the oven for an ion source.例文帳に追加
イオン源用オーブンにおいて、試料室の蓋となるキャップがオーブン本体へ固着しないようにする。 - 特許庁
To suppress generation of radioactive substances and reduce radioactivity, when shutting off a beam, in an internal ion source type cyclotron.例文帳に追加
内部イオン源型サイクロトロンにおいて、ビーム遮断時の放射化物質の生成を抑え、放射能を低減化する。 - 特許庁
A size of the milling ion source is made small, and therefore miniaturization of the sputtering device is realized by improving space efficiency.例文帳に追加
ミリング用イオン源のサイズを小さくできるので、スペース効率を向上させてスパッタリング装置を小型化できる。 - 特許庁
A fluoride ion source is also included in the cleaning compositions and is principally responsible for removing inorganic residues from the substrate.例文帳に追加
本発明の洗浄組成物にはフッ化物イオン源も含まれ、基材からの無機残渣除去を主に担う。 - 特許庁
To enhance the convergency of ions of same m/z, when emitting pulse-likely the ions in an ion source by an EI method.例文帳に追加
EI法によるイオン源でパルス的にイオンを出射させる場合に、同一m/zのイオンの収束性を高める。 - 特許庁
To provide a thin film forming device capable of prolonging the life of a gas ion source and reducing the cost of maintenance.例文帳に追加
ガスイオン源の寿命を長くして、メンテナンス費用を低減することができる薄膜形成装置に関する。 - 特許庁
The use of the iron (II) ion source in the preparation for a medicine as an antioxidant is provided.例文帳に追加
本発明はまた、医薬用製剤における鉄(II)イオン源の抗酸化剤としての使用についても提供する。 - 特許庁
The gas line to supply the raw material gas 4 to the ion source 12 is dividedly housed through three ovens 31 to 33.例文帳に追加
イオン源12に原料ガス4を供給するガスラインを三つのオーブン31〜33に分けて格納した。 - 特許庁
Extraction electrodes of the liquid metal ion source are provided in a vertical double stages with a space therebetween, and integrated.例文帳に追加
液体金属イオン源の引き出し電極を各々の間に空間をおいて上下二段構えにし、一体化する。 - 特許庁
Ion pouring is effected by employing the gate electrode as a mask to form a source region 16 and a drain region 17.例文帳に追加
ゲート電極をマスクとしてイオン注入を行いソース領域16とドレーン領域17を形成する。 - 特許庁
An ion is implanted to the exposed substrate to form a common source region 120 and a drain region 122.例文帳に追加
露出された基板にイオン注入して共通ソース領域120及びドレイン領域122を形成する。 - 特許庁
The main insulator 6 has a through hole 6b penetrating from the side of the treatment chamber 2 to the that of the ion source 4.例文帳に追加
主絶縁体6は、処理室2側からイオン源4側に向って貫通する貫通穴6bを有する。 - 特許庁
To provide an ion source in which arc discharge is carried out within a short time and fusion of a filament is prevented.例文帳に追加
イオン源において、短時間でアーク放電を行い、かつ、フィラメントの溶断を防止するイオン源を提供する。 - 特許庁
Next, ion implantation with the films 21 and 24 as masks is performed to form an n^+ type source region 4.例文帳に追加
次に、シリコン酸化膜21、24をマスクとしたイオン注入を行ってn^+型ソース領域4を形成する。 - 特許庁
The substrate treatment device comprises: an ion source generating ions; a target to which an ion beam emitted by the ion source is emitted; a target holder holding the target; a substrate holder holding the substrate at a position to be deposited with target component grains sprung out from the target; and an angle adjustment part adjusting the angle of the target to the ion beam.例文帳に追加
基板処理装置は、イオンを発生させるイオン源と、該イオン源が発射したイオンビームが照射されるターゲットと、該ターゲットを保持するターゲットホルダと、前記ターゲットからはじき出されたターゲット成分粒子が堆積する位置で基板を保持する基板ホルダと、前記ターゲットの前記イオンビームに対する角度を調整する角度調整部と、を有している。 - 特許庁
The ion source 1 includes: a plurality of electrodes (5, 6 and 7) arranged along the extraction direction (Z direction) of an ion beam 3; and magnetic field generating means 11 arranged on the downstream side (Z direction side) of the electrodes (5, 6 and 7) and having at least a pair of magnetic electrodes 14 generating a magnetic field crossing the ion beam 3 extracted from the ion source 1.例文帳に追加
そして、イオンビーム3の引出し方向(Z方向)に沿って配置された複数枚の電極(5、6、7)と、それら電極(5、6、7)の下流側(Z方向側)に配置され、イオン源1より引出されたイオンビーム3を横切る磁界を発生させる少なくとも一対の磁極14を有する磁界発生手段11とを備えている。 - 特許庁
The catalyst is suitably produced by reducing the palladium compound with a reducing agent in an aqueous solution containing a carrier, a palladium source, a nitrite ion or a nitro ligand source and an organic acid source.例文帳に追加
この触媒は、担体、パラジウム源、亜硝酸イオン又はニトロ配位子源、及び、有機酸イオン源、を含有する水溶液中で、パラジウム化合物を還元剤により還元することで好適に製造できる。 - 特許庁
To provide a field emission electron source device in which effect of gas and ion in the field emission electron source device on the field emission electron source array is eliminated or reduced and which has a high reliability.例文帳に追加
電界放出型電子源装置内のガスやイオンの電界放出型電子源アレイに対する影響をなくし、又は少なくした、高信頼性の電界放出型電子源装置を提供する。 - 特許庁
In this mass spectrometer, by previously detecting a current value of an ion pulse coming flying from an ion source with two ion detectors 13, 14 provided in two triple-convergence planes of an electrostatic sector electric field type TOFMS spectral part and feeding the detected value to a final ion detector 11, a gain of the final ion detector 11 is controlled to avoid saturation of the final ion detector 11.例文帳に追加
静電セクター電場型TOFMS分光部の2つの三重収束面に設けられた2つのイオン検出器を用いて、イオン源から飛来するイオンパルスの電流値を予め検知し、検知された量を最終イオン検出器にフィードさせることにより、最終イオン検出器のゲインを制御し、最終イオン検出器の飽和を回避させるように構成した。 - 特許庁
A sample machining method includes a process for machining one portion of a sample 14 into a micro sample 6 by irradiating it with a first ion beam radiated from a first ion source for scanning; a process for separating the micro sample machined by the first ion beam from the sample; and a process for machining the micro sample 6 by using the second ion beam through irradiation with an ion beam from a second ion beam machining apparatus 17.例文帳に追加
第1のイオン源から放出される第1のイオンビームを照射し走査して試料14の一部をマイクロサンプル6に加工する手段と、前記第1のイオンビームにより加工された前記マイクロサンプルを前記試料から分離するプローブと、第2のイオンビーム加工装置17から照射し、前記マイクロサンプル6を前記第2のイオンビームを用いて加工する方法。 - 特許庁
In this anaerobic treatment method of organic waste water which contains potassium ion of ≥0.025 M and nitrogen compound, a sodium ion source is added to the organic waste water and, thereafter, the anaerobic treatment is performed in such a manner that the quantity of sodium ion with respect to the potassium ion in the organic waste water is 1/50-1 in mole ratio.例文帳に追加
0.025M以上のカリウムイオンと窒素化合物とを含む有機性排水を嫌気性処理する方法において、該有機性排水中のカリウムイオンに対するナトリウムイオン量が1/50〜1モル倍となるように該有機性排水にナトリウムイオン源を添加した後嫌気性処理する。 - 特許庁
The ion deposition mass spectrograph is provided with a discharging body 12 and a voltage impressing portion 11 for impressing a bias voltage on the discharging body and is equipped with an ion source which heats the discharging body and discharges metallic ion of a positive electric charge and deposits the metallic ion on detected gas and ionizes the detected gas.例文帳に追加
放出体12と、この放出体にバイアス電圧を印加する電圧印加部11とを有し、放出体を加熱して正電荷の金属イオンを放出させ、金属イオンを被検出ガスに付着させて被検出ガスをイオン化するイオン源を備えたイオン付着質量分析装置である。 - 特許庁
This ion generating device for the vehicle comprises an ion generator 1 connected to a vehicle power source V without passing through an ignition key switch SW, and a control means for allowing the ion generator to start ion generating operation according to preset conditions regardless of the on/off state of the ignition key switch SW.例文帳に追加
イグニッションキースイッチSWを介することなく車両用電源Vに接続されたイオン発生装置1と、イグニッションキースイッチSWのオンオフ状態にかかわらず予め設定された条件に応じて上記イオン発生装置にイオン発生動作を開始させる制御手段とを備える。 - 特許庁
An ion source voltage generation part 7 sets voltages impressed on respective electrodes 11, 12 and 13 so as to make kinetic energy imposed on an ion released from an ion irradiation port of an ion trap 1 different from the other, and performs the mass spectrometry once on one sample, respectively.例文帳に追加
イオン源電圧発生部7は、イオントラップ1のイオン出射口14から放出するイオンに付与する運動エネルギーがそれぞれ異なるように各電極11、12、13に印加する電圧を設定して、同一試料についての質量分析をそれぞれ1回ずつ実行する。 - 特許庁
Capacitance between a gate and a source and capacitance between the gate and a drain are inhibited by oxidizing a trench gate, forming a body to a sidewall by inclined ion implantation, forming a gate electrode and forming a lightly doped source region by inclined ion implantation.例文帳に追加
トレンチゲート酸化後に傾斜イオン注入で側壁にボディを形成し、ゲート電極形成後に低濃度ソース領域を傾斜イオン注入で形成することにより、ゲート・ソース間容量とゲート・ドレイン間容量を抑える。 - 特許庁
A rectifier D1 which supplies power to a DC motor M which functions as the driving source of the occurrence of an air stream and a negative ion generator ION releasing the negative ions to the air stream are connected in parallel with respect to an AC power source.例文帳に追加
空気流発生の駆動源となる直流モータMに電力を供給する整流器D1と、前記空気流にマイナスイオンを放出するマイナスイオン発生器IONと、が交流電源に対して並列に接続される。 - 特許庁
In the electron/ion source device having an electron/ion source emitting electrons or ions, a permittivity modulation part 30 having regions of different permittivities is provided at least in a part between an anode 15 and a cathode 5.例文帳に追加
電子又はイオンを放出する電子/イオン源を有する電子/イオン源装置において、アノード15とカソード5との間の少なくとも一部に、誘電率の異なる領域を有する誘電率変調部30を設ける構成とする。 - 特許庁
ION SOURCE HAVING ADJUSTABLE ION SOURCE PRESSURE FOR CONNECTING ESI-, FI-, FD-, LIFDI- AND MALDI-ELEMENTS AND HYBRID MEANS BETWEEN IONIZATION TECHNIQUES FOR MASS SPECTROMETRY AND/OR ELECTRON PARAMAGNETIC RESONANCE SPECTROSCOPY例文帳に追加
質量分析法および/または電子常磁性共鳴分光法用のイオン化技術間のESI、FI、FD、LIFDI、およびMALDI素子およびハイブリッド手段を結合する調整可能なイオン源圧力を有するイオン源 - 特許庁
The method is also constituted so that the pressure is measured by applying a potential capable of detecting only ions generated from the ion source to the cylindrical electrode of the energy analyzer in order to remove the influence by ions generated outside the ion source.例文帳に追加
また、イオン源外部で生成されたイオンの影響を取り除くために、エネルギーアナライザーの円筒形電極にイオン源で生成されたイオンのみ検出できる電位を印加して圧力測定を行うように構成される。 - 特許庁
To provide a film removing device of a beam irradiation electrode capable of removing a film of a beam irradiation electrode while suppressing a damage in an ion source, an ion source equipped with this, and a member for removing a film of a beam irradiation electrode.例文帳に追加
イオン源内の損傷を抑えつつビーム照射電極の被膜を除去できるビーム照射電極の被膜除去装置、これを備えたイオン源、及びビーム照射電極の被膜除去用部材を提供することを課題とする。 - 特許庁
With the use of the electroless nickel plating bath containing at least the iron ion source and the iodide ion source, it is possible to suppress decomposition of the plating bath without using harmful metal species to stabilize the plating bath.例文帳に追加
このように、少なくとも鉄イオン源及びヨウ素イオン源を含有する無電解ニッケルめっき浴を用いることで、有害な金属を使用することなくめっき浴の分解を抑制して、めっき浴の安定化を図ることができる。 - 特許庁
The surface processing method has a third step to introduce an ion source 31 of a gaseous carbon cluster into a vacuum chamber 12 in which the workpiece 32 is contained without using a carrier gas, subsequently to apply a high frequency voltage to the ion source and making it into plasma to generate a carbon cluster ion 33, and to apply a negative voltage to the workpiece 32 and to ion process it by making its surface irradiated with the carbon cluster ion 33.例文帳に追加
被加工物32が収容された真空槽12中に、キャリアガスを用いずに気体状の炭素クラスターイオン源31を導入後、高周波電圧を印加してプラズマ化して炭素クラスターイオン33を生成させ、被加工物32に負電圧を印加して表面に炭素クラスターイオン33を照射することによりイオン加工する第3工程とを有することを特徴とする表面加工方法。 - 特許庁
In the analyzer for the organometal compound, an ion source 114 including an ion discharge body 114a and the mass analyzing part 115 provided on the downstream side of the ion source 114 are provided in a vacuum container and the gas of the organometal compound is introduced into the vicinity of the ion discharge body and ionized by the metal ions discharged from the ion discharge body to perform the mass analysis of the organometal compound.例文帳に追加
有機金属化合物の分析装置は、真空容器内にイオン放出体114aを含むイオン源114とこのイオン源の下流側に設けられた質量分析部115を設け、有機金属化合物のガスをイオン放出体の近くに導入させ、有機金属化合物のガスをイオン放出体から放出された金属イオンでイオン化して有機金属化合物の質量分析を行うように構成される。 - 特許庁
To provide an ion beam processing-observing technology in which, in a technology for observing a cross-section of an electronic component, a test piece is processed and an observation of the processed portion of the test piece can be made possible by using ion beam taken out of a same ion source.例文帳に追加
電子部品の断面を観察するための技術において、同一のイオン源から引き出したイオンビームを用いて、試料を加工し、試料の被加工部分の観察を可能にするイオンビーム加工・観察技術を提供する。 - 特許庁
To provide an ion source which has an improved generation amount as to cluster ions for operation of a secondary ion mass analyzer so as to achieve high efficiency of secondary ion generation with a high data rate (Datenraten) and a short analysis time.例文帳に追加
高いデータレート(Datenraten)と短い分析時間とによる二次イオン形成の高い効率を達成するために、二次イオン質量分析器の操作のための、クラスターイオンに関し改善された生成量を有するイオン源を提供すること。 - 特許庁
To provide a panel light with a negative ion generating function capable of generating negative ion by irradiating ultraviolet ray or infrared ray emitted from a light source on a negative ion generating material such as tourmaline ore.例文帳に追加
本発明は、光源から照射される紫外線や赤外線をトルマリン鉱石などのマイナスイオン発生物質に当てることによりマイナスイオンを発生させるマイナスイオン発生機能付き照明灯を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
In the case that large differences in level of the surface of the alignment layer 3 irradiated with the ion beam bring about parts shaded from an ion beam source, the ion beam is radiated to the shaded parts by radiation in a reverse direction.例文帳に追加
また、イオンビームを照射する配向膜3の表面の段差形状が大きく、イオンビーム源から影になる部分が生じる場合、逆方向からも照射することによって影になっていた部分にイオンビームを照射する。 - 特許庁
When no voltage is applied to the gate electrode 3, the ion outgoing from an ion source 1 is detected by a primary ion detector 5 via the straight line orbit B, resulting in the short-term and high time resolution analysis being achieved.例文帳に追加
ゲート電極3に電圧が印加されないときにはイオン源1から出射されたイオンは直線軌道Bを経て第1イオン検出器5で検出されるから、分析時間が短く高い時間分解能を達成できる。 - 特許庁
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