例文 (27件) |
ion beam radiationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 27件
A processing cross-sectional surface 10 of a workpiece 4 is formed on an ion beam-irradiated side surface 26 obtained by moving a radiation axis 24 of an ion beam 20 along a processing line.例文帳に追加
イオンビーム20の照射軸24が加工ラインに沿って移動して得られるイオンビーム照射側面26に、ワーク4の加工断面10を形成する。 - 特許庁
In a method for processing a solid surface to make it even by using a gas cluster ion beam, at least during part of a period of a gas cluster ion beam radiation process, a radiation angle made by the normal line of a solid surface and the gas cluster ion beam is made larger than 70°, and the gas cluster ion beam is focused using a lens mechanism without separating the monomer ion, thus radiating it.例文帳に追加
ガスクラスターイオンビームを用い、固体表面を平坦に加工する方法において、ガスクラスターイオンビームの照射過程の少なくとも一部の期間において固体表面の法線とガスクラスターイオンビームとがなす照射角度を70度より大きくし、かつモノマーイオンを分離せずにガスクラスターイオンビームをレンズ機構によってフォーカスさせて照射する。 - 特許庁
Optimized ion beam current and the current (accumulated value) generated by the direct current generator are measured in an ion beam current measuring part 4 before radiation of the ion beam 1 upon the wafer 3 placed on the platen 2.例文帳に追加
イオンビーム1がプラテン2上のウエハ3に照射される前に、最適なイオンビーム電流値を直流電流発生器6により発生した電流値(積算値)のみを、イオンビーム電流計測部4で計測する。 - 特許庁
The method includes a step of irradiating the sample with a neutral atomic beam or ion beam, and a step of irradiating the sample with radiation after the irradiation of the sample with the neutral atomic beam or ion beam and analyzing the electrons from the sample.例文帳に追加
試料に中性原子線又はイオン線を照射する過程と、中性原子線又はイオン線の照射後に、試料に対して放射線を照射し、試料からの電子を分析する過程とを含む。 - 特許庁
In the case that large differences in level of the surface of the alignment layer 3 irradiated with the ion beam bring about parts shaded from an ion beam source, the ion beam is radiated to the shaded parts by radiation in a reverse direction.例文帳に追加
また、イオンビームを照射する配向膜3の表面の段差形状が大きく、イオンビーム源から影になる部分が生じる場合、逆方向からも照射することによって影になっていた部分にイオンビームを照射する。 - 特許庁
To provide an ion beam scan processing method with which beam radiation efficiency is improved and in-plane uniformity of dosage can be maintained.例文帳に追加
ビーム照射効率を向上させるとともにドーズ量の面内均一性を維持できるイオンビームスキャン処理方法を提供する。 - 特許庁
An ion beam from the charged particle beam generator 2 is irradiated to an affected part 62 of a patient 61 by the radiation field forming device 15.例文帳に追加
荷電粒子ビーム発生装置2からのイオンビームは照射野形成装置15より患者61の患部62に照射される。 - 特許庁
Following this processing program, a radiation quantity of the ion beam 3, etc., are controlled in processing the optical element material 7.例文帳に追加
この加工プログラムに従って、光学素子材料7を加工するときのイオンビーム3の照射量等を制御する。 - 特許庁
To suppress electrification as small on the base plate surface during the period of an ion beam radiation while HF(High Frequency) discharge-type plasma generation equipment is in use.例文帳に追加
高周波放電型のプラズマ発生装置を用いつつ、イオンビーム照射の際の基板表面の帯電を小さく抑制する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display panel which is capable of reducing the occurrence of display image retention by increasing alignment control force in an ion beam radiation system.例文帳に追加
イオンビ−ム照射方式の配向規制力を増大し、表示残像発生を緩和可能な液晶表示パネルを提供する。 - 特許庁
The radiation of the ion beam by the ion beam generation means and the detection of the emission signal by the detection means are carried out in a state where the temperature of the sample is regulated at a predetermined value by the temperature regulation means.例文帳に追加
前記温度調整手段により前記試料を予め設定された温度に調整した状態で、前記イオンビーム発生手段によるイオンビームの照射、及び前記検出手段による放出信号の検出を行う。 - 特許庁
The latter is equipped with a flow-out suspension system 31 via a signal line 30 to suspend ion beam radiation within several microseconds.例文帳に追加
後者は、信号線30を経由して、数マイクロ秒以内でイオンビーム照射を中止するために流出中止システム31を備えている。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resist composition that responds not only to ultraviolet rays, such as I-line or g-line, but also to visible rays, excimer laser beam like that of KrF, electron beams, extreme-ultraviolet radiation (EUV), X-rays, and radiation, such as ion beams.例文帳に追加
i線、g線等の紫外線のみならず、可視光線、KrF等のエキシマレーザー光、電子線、極端紫外線(EUV)、X線、イオンビーム等の放射線にも感応する感放射線性レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle detecting device with high radiation resistance, fast time responsiveness, and particularly suitable for use as a heavy ion beam detector.例文帳に追加
放射線耐性が高く、時間応答性が早く、特に重イオンビーム検出器として用いるのに好適な荷電粒子検出装置を提供する。 - 特許庁
A radiation area of ion beams radiated from one ion beam radiation source (ion gun 10) which performs frequency adjustment upon piezoelectric vibrators 17 carried in a specific direction while being aligned and arranged, is utilized in said method to simultaneously adjust frequencies of a plurality of proximate piezoelectric vibrators 17.例文帳に追加
本発明では前記方法において、整列配置されて規定の方向へ搬送される圧電振動子17の周波数調整を行う1のイオンビーム照射源(イオンガン10)から照射されるイオンビームの放射領域を利用して、近接する複数の圧電振動子17の周波数調整を同時に行うようにした。 - 特許庁
When a secondary ion 4 released from the surface of a sample 1 through sputter etching by ion beam radiation is detected, and the depth-wise distribution of the element containing in the sample 1 is measured, an ion beam is irradiated in a state where sample 1 is exposed to an oxygen atmosphere 2, and the element distribution on the extreme surface of the sample 1 is evaluated.例文帳に追加
イオンビーム照射によるスパッタエッチングによって試料1の表面から放出される二次イオン4を検出し、試料1中に含まれる元素の深さ方向分布を測定する際に、試料1を酸素雰囲気2に曝した状態でイオンビームを照射して、試料1の極表面での元素分布評価を行う。 - 特許庁
In this method, light or radiation may be visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, vacuum ultraviolet light, X-rays, γ-rays, electron beams or ion beam.例文帳に追加
本発明において光または放射線とは可視光、紫外光、遠紫外光、真空紫外光、X線、γ線、電子線、イオン線等を含むものである。 - 特許庁
This method can easily adjust the exposure radiation dose to each position inside a patient in the ion beam advancing direction to greatly reduce the probability of the erroneous irradiation causing excess/deficiency of the exposure radiation dose in each position in the ion advancing direction in the patient.例文帳に追加
このため、患部内のイオンビーム進行方向における各位置に対する照射線量を容易に調節することができ、患部内のイオン進行方向における各位置において照射線量の過不足が生じる誤照射の確率を著しく低減することができる。 - 特許庁
In irradiating an organic polymer thin film or an electroluminescence having the organic polymer thin film with a radiation composed of a γ-beam, an electron beam or an ion beam, the use of the radiation having a dosage of not greater than 100 kGy inhibits the crystallization of the polymer constituting the thin film to effect its crosslinking without causing gelation.例文帳に追加
有機高分子薄膜又は有機高分子薄膜を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子をγ、電子又はイオンビームからなる放射線で照射し、その際に100kGy以下の線量の放射線を用いることにより、薄膜を構成する高分子に架橋を生じさせるが、ゲル化を生じることなく結晶化を抑制するものである。 - 特許庁
To provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and a good margin for light exposure in microfabrication particularly when KrF excimer laser, X-radiation, an electron beam or an ion beam is used.例文帳に追加
半導体素子の微細加工における性能向上技術における課題を解決することであり、特にKrFエキシマレーザー、X線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好な露光量マージンの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
This radiation image conversion panel has: the substrate formed of a metal or an alloy; an oxide layer formed on the substrate by a vapor phase deposition method such as a sputtering method, an ion plating method or an ion beam assist evaporation method; and a phosphor layer formed on the oxide layer by a vapor phase deposition method.例文帳に追加
本発明の放射線像変換パネルは、金属または合金により構成された基板と、この基板上に、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法またはイオンビームアシスト蒸着法などの気相堆積法により形成された酸化物層と、この酸化物層上に気相堆積法により形成された蛍光体層とを有するものである。 - 特許庁
Since the impulse radiation is prompt, extraordinarily larger than nuclear reaction in reaction probability and detected, for example, as a continuous energy spectrum distribution strongly correlated with ion energy, the data related to the behavior of the particle beam can be monitored in a real time.例文帳に追加
制動輻射は、即発性であり、反応確率が原子核反応よりも桁違いに大きく、例えば、イオンエネルギーに強い相関を持つ連続エネルギースペクトル分布として検出されるため、粒子線の挙動に関する情報をリアルタイムにモニタリングすることを可能とする。 - 特許庁
At least either of the direction of the processing line and the angle of the radiation axis 24 is changed so that the ion beam-irradiated side surface 26 significantly approaches a direction toward the other side out of the first and second parts where the covering part 16 is thicker rather than a direction toward one side where the covering part 16 is thinner.例文帳に追加
イオンビーム照射側面26が、第1及び第2の部分のうち被覆部16の薄い一方への方向よりも、被覆部16の厚い他方への方向に大きく接近するように、加工ラインの方向及び照射軸24の角度の少なくとも一方を変更する。 - 特許庁
A diamond wafer 13 is characterized in that a recess 17 formed by the irradiation of a gas cluster ion beam and having a bottom 17c with a surface roughness Rms of 0.1 to 10 nm is formed at a position where a absorber 16 for absorbing radiation light, etc., is arranged on the surface of a permeable membrane 12 facing a material to be transferred.例文帳に追加
ダイヤモンドウェハ13は、透過膜12の被転写体側の面であって照射光等の吸収体16を配設する部位にガスクラスターイオンビームの照射によって表面粗さがRms=0.1〜10nmの底面17cを有する凹部17が設けられたことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a polyelectrolyte membrane for a solid polymer-type fuel cell having a high ion exchange capacity and a high proton conductivity by solving the problem of the deterioration of the material characteristics of a base material by causing graft reaction to a fluorinated polymer through irradiation of radiation beam.例文帳に追加
フッ素系高分子に放射線照射してグラフト反応させることによって基材の材料特性が低下する問題を解消し、かつ、高イオン交換容量、高プロトン伝導性を有する固体高分子形燃料電池用の高分子電解質膜を提供する。 - 特許庁
To provide a gelled electrolyte element with high electrolyte retaining property, accordingly with high ion conductivity, enabled to easily bridge by heating or by radiation of energy-ray like ultraviolet-ray or electron beam, capable of gelling after injecting in the state of liquid, in the space formed by arranging electrodes with a prescribed distance, and to provide a gelled electrolyte formed by bridging the gelled electrolyte element.例文帳に追加
電解液保持率が高く、従ってイオン伝導度が高く、しかも加熱又は紫外線、電子線などのエネルギー線照射によって容易に架橋可能であり、電極を所定間隔に配設して形成された空隙に液状で流し込んだ後にゲル化可能であるゲル状電解質形成組成物及びこれを架橋させたゲル状電解質を提供することにある。 - 特許庁
The radiation shield material is constituted by combining porous zeolite with a high hydrogen element content having large neutron shielding effect, ion exchange elements (adding hydrogen and excluding nickel and lead) containing 2, 6, 8, 14, 20, 28, 50, 82, 126 neutrons or protons, heavy metals over atomic number of 40 exhibiting high shielding effect to high energy neutron beam and gamma ray and thermal neutron absorber.例文帳に追加
本発明の放射線遮蔽材は、中性子遮蔽効果の大きい水素元素含有率の高い多孔質ゼオライト、2、6、8、14、20、28、50、82、126個の中性子または陽子を含むイオン交換性元素(但し水素を加えニッケルと鉛は除く)、高エネルギー中性子線及びガンマ線に高い遮蔽効果を示す原子番号40以上の重金属と、熱中性子吸収材を組み合わせてなるものである。 - 特許庁
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