「ion energy」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an ion beam cut-off device which can cut off a high-energy ion beam for a long time without suffering damage and where local overheat in a cutting-off part is little and scarce radioactivity remains.例文帳に追加

高エネルギーイオンビームを損傷を受けることなく長時間遮断することができ、遮断部の局部過熱が少なく、かつ残留放射能の少ないイオンビーム遮断装置を提供する。 - 特許庁

To irradiate an ion beam having sufficiently uniform current density distribution against a semiconductor substrate even when energy reduction of the ion beam is advanced.例文帳に追加

イオンビームの低エネルギー化が進んだ場合においても、半導体基板に対して十分に均一な電流密度分布を有するイオンビームを照射することを主たる目的としている。 - 特許庁

To provide a method of low-energy doping for high-concentrated carrier impurity atoms with high time-efficiency compared with a conventional ion implantation process, in usual processing time of ion implantation.例文帳に追加

これまでのイオン注入処理に比べて、高い時間効率で高濃度のキャリア不純物原子を、通常のイオン注入の処理時間で低エネルギードーピングできる方法を提供する。 - 特許庁

Control of the parameters can tune the ion beam to provide an optimum ion beam current, energy, size and shape for any particular implantation.例文帳に追加

これらのパラメータを制御することにより、どのような特定の注入に対しても最適なイオンビーム電流、エネルギー、サイズ及び形状を与えるようにイオンビームを調整することができる。 - 特許庁

MICROWAVE ION SOURCE, LINEAR ACCELERATOR SYSTEM, ACCELERATOR SYSTEM, ACCELERATOR SYSTEM FOR MEDICAL USE, HIGH ENERGY BEAM APPLICATION SYSTEM, NEUTRON GENERATING DEVICE, ION BEAM PROCESSING DEVICE, MICROWAVE PLASMA SOURCE, AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

マイクロ波イオン源、線形加速器システム、加速器システム、医療用加速器システム、高エネルギービーム応用装置、中性子発生装置、イオンビームプロセス装置、マイクロ波プラズマ源及びプラズマプロセス装置 - 特許庁

In a method for increasing the kinetic energy of an ion in a linear electrode structure, axial motion of the ion is constrained substantially to a selected axial end of the electrode structure.例文帳に追加

線形電極構造内でイオンの運動エネルギーを増加させる方法において、イオンの軸方向運動は、実質的に、電極構造の選択された一方の端部に制約される。 - 特許庁

As the energy irradiation, any of sputtering treatment using an inactive material, a sputtering treatment using a chemically active ion, ion milling, and plasma etching can be employed.例文帳に追加

エネルギー照射としては、不活性材料を使用したスパッタリング処理、化学的に活性を有するイオンを使用したスパッタリング処理、イオンミリング、及びプラズマエッチングのうちのいずれかを利用できる。 - 特許庁

About a process by a particle seed such as ion having a strong anisotropic for an entering, an ion angle energy distribution function (IAEDF) which is respectively the function of an angle θ and an energy E, and an etching yield energy component which is the coefficient of an action with respect to the surface, are numerically integrated to generate the weighted etching yield ion angle distribution function (EYIADF) in advance.例文帳に追加

入射に関する異方性の強いイオンなどの粒子種によるプロセスに関して、それぞれ角度θおよびエネルギーＥの関数であるイオン角度エネルギー分布関数（ＩＡＥＤＦ）と、表面との作用の係数としてのエッチング・イールドのエネルギー成分とを数値積分して、エッチング・イールドの重み付けのついたイオン角度分布関数（ＥＹＩＡＤＦ）をあらかじめ作成する。 - 特許庁

The electronic spectrum of the organic ligand is red-shifted, and the energy E_T1' of triplet state of the organic ligand after the red shift and the energy E_re3+ of an excited state of the rare earth ion satisfy the relationship: E_T1'≥E_Re3+.例文帳に追加

有機配位子の電子スペクトルは、レッドシフトしており、レッドシフト後の有機配位子の三重項状態のエネルギーＥ_T1'と、希土類イオンの励起状態のエネルギーＥ_Re3+とは、関係Ｅ_T1'≧Ｅ_Re3+を満たす。 - 特許庁

An energy determination processor 26 determines whether energy of the ion beams after acceleration is normal or abnormal, based on a frequency of the high-frequency voltage and a position of the beam orbit.例文帳に追加

エネルギー判定処理装置２６は高周波電圧の周波数及びビーム軌道の位置に基づいて加速終了後のイオンビームのエネルギーが正常であるか異常であるかを判定する。 - 特許庁

To provide a magnetic field deflecting energy analyzer and an ion scattering spectroscope, which reduces a noise level of energy spectrum with a simple mechanism to analyze constituent elements of an analyzing sample with high resolution.例文帳に追加

磁場偏向型エネルギー分析器及びイオン散乱分光装置に関し、簡単な機構によりエネルギースペクトルのノイズレベルを低減して、高分解能で分析試料の構成元素を分析する。 - 特許庁

During this free movement period, the respective ions expand according to the respective kinetic energy, and at the time of ion discharge, different kinetic energy is provided depending on existing positions of the ions.例文帳に追加

この自由運動期間中に各イオンはそれぞれが有する運動エネルギーに応じて広がり、イオン排出時にはイオンの存在位置に依存してそれぞれ異なる運動エネルギーを付与される。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for plasma processing capable of providing an energy suited for substrate processing to ions in a plasma and narrowing a dispersion width of the ion energy.例文帳に追加

プラズマ中のイオンに基板の処理に適したエネルギーをもたせるとともに、イオンエネルギーの分散を狭帯域化させることを可能とするプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

The measured value is compared with a calibration curve created beforehand which indicates relation of an apparent resist film thickness and implantation energy, thereby implantation energy of the ion implantation is found.例文帳に追加

その測定値とあらかじめ作成していた見かけのレジスト膜厚と注入エネルギーの関係を示す検量線とを比較することで、イオン注入の注入エネルギーを求める。 - 特許庁

The compounds also comprise at least one other atom, molecule, or ion other than the increased binding energy hydrogen species.例文帳に追加

この化合物は又、前記結合エネルギー増加水素種とは異なる、１つ以上のその他の元素、分子、或いはイオンを有する。 - 特許庁

To provide an ion exchange membrane method type electrolytic cell in which the renewal cost of a cathode is low, and the electric energy as small a loss as possible.例文帳に追加

陰極の更新費用が安価で、かつ、電気エネルギーロスが可及的に小さいイオン交換膜法電解槽を提供する。 - 特許庁

Here, the energy range of the ion beam B, generated by the accelerated voltage, is to be set at 1 keV or higher and lower than 20 keV.例文帳に追加

この際、加速電圧によって生じるイオンビームＢのエネルギー範囲を１ｋｅＶ以上２０ｋｅＶ未満に設定する。 - 特許庁

A plasma generation part in a plasma source capable of controlling ion energy is composed of a metal plate 2, a heater 1, and a heater heating power source 6.例文帳に追加

イオンエネルギーを制御可能なプラズマ源のプラズマ発生部は、金属板２、ヒーター１、ヒーター加熱電源６から構成される。 - 特許庁

To restrain static charge of insulating object for treatment in a plasma surface treatment, and improve on energy controllability and collimation of ion.例文帳に追加

プラズマ表面処理における絶縁性の被処理物の帯電を抑止し、イオンのエネルギー制御性および平行性を向上する。 - 特許庁

The termination region is formed by single-step ion injection in which the kind of impurity and injection energy are fixed.例文帳に追加

終端領域は、不純物の種類および注入エネルギーを固定した１段階のイオン注入によって形成される。 - 特許庁

To measure the kinetic energy of a charge particle of ion or the like with high resolution by using an orbit in which multiple circulation is possible.例文帳に追加

多重周回可能な周回軌道を利用してイオン等の荷電粒子の運動エネルギーを高い分解能で以て測定する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a bipolar semiconductor device with low-energy RF power in the case of the RF etching method of an Ar ion.例文帳に追加

ＡｒイオンのＲＦエッチ法の場合、低エネルギーのＲＦパワーのバイポーラ半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An ion flux of high energy is reduced by collision in a localized target vapor cloud generated by the prepulse.例文帳に追加

高エネルギーイオン流束は、先行パルスによって生成される、局在化したターゲット蒸気雲内の衝突によって低減される。 - 特許庁

To provide a negative electrode material for ensuring a high energy density, a high output density, and a high durability in a lithium-ion capacitor.例文帳に追加

リチウムイオンキャパシタにおいて高いエネルギー密度、高い出力密度、高い耐久性が得られる負極材料を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a new positive electrode active material of a lithium ion secondary battery capable of generating the positive electrode active material of the lithium ion secondary battery used for the lithium ion secondary battery with high energy density by shortening a manufacturing period.例文帳に追加

エネルギー密度の高いリチウムイオン二次電池のためのリチウムイオン二次電池正極活物質を、製造時間を短縮して生成可能な、新たなリチウムイオン二次電池正極活物質の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Since the formation of an ion sheath in the wafer outer circumferential part can be controlled, it is possible to control the ion energy injected into a wafer 9 and the distribution of ion amount on a wafer surface, and as a result, distribution on a surface of etching treatment of the wafer 9 can be corrected.例文帳に追加

ウェハ外周部におけるイオンシースの形成を制御することができるため、ウェハに入射するイオンエネルギーおよびイオン量のウェハ面内分布を制御することができ、その結果ウェハのエッチング処理の面内分布を補正することができる。 - 特許庁

Energy is given to an ion group inside the ion trap device with a SWIFT waveform including frequency components except frequencies corresponding to the orbital resonant frequency of the ion of the chemical matter as an object for detection to remove impurities.例文帳に追加

この検出対象化学物質のイオンの軌道共鳴周波数に対応する周波数を除いた周波数成分を含むＳＷＩＦＴ波形によってイオントラップ装置１０内のイオン群にエネルギーを与えて不純物が除去される。 - 特許庁

In the energy transfer and/or ion transportation devices 1200, 1300 for transferring energy of at least one ion to at least one gas particle in a gas, a container 1201 internally containing a gas is prepared, and the container 1201 has a transportation axis.例文帳に追加

少なくとも１つのイオンのエネルギーをガス中の少なくとも１つのガス粒子に伝達するエネルギー伝達および／またはイオン輸送装置１２００，１３００であって、内部にガスを含有する容器１２００を設け、この容器１２００は輸送軸線を有する。 - 特許庁

To provide an ion implantation apparatus which may reduce shift of ion implantation quantity without calculating the beam neutralization (beam ionization) even when ion species, beam current, implantation energy, and resist material, etc., are different by ion implanting under a pressure within a chamber of more than 1×10-4 Torr so as to prevent shift of ion implantation amount in ion implantation process during manufacture of semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程におけるイオン注入において、注入量のシフトを防ぐためにチャンバ内の圧力を１×１０^−４Ｔｏｒｒ以上の状態にしてイオン注入することにより、イオン種、ビーム電流、注入エネルギー、レジスト材料などが異なる場合でも、ビーム中性化（又はイオン化）の計算を行うことなく、イオン注入量のシフトを少なく抑えたイオン注入装置を提供する。 - 特許庁

This photocatalytic material is constituted so that F ion is diffused to the surface of the TiO2 crystal preferentially by implanting the ion of F being a nonmetallic element into the TiO2 crystal while the amount of F ion to be implanted per unit area and the depth of F ion to be implanted are adjusted by controlling the implantation energy of F ion to the TiO2 crystal and then annealing the F ion-implanted TiO2 crystal.例文帳に追加

酸化チタン（ＴｉＯ_2）結晶に非金属元素のフッ素（Ｆ）イオンを注入する際に、酸化チタン（ＴｉＯ_2）結晶へのＦイオンの注入エネルギーを制御してＦイオンの単位面積あたりの注入量及び注入深さを調整した後に、Ｆイオン注入後の酸化チタン結晶を焼鈍処理することによりＦイオンを結晶表面へ優先的に拡散させた光触媒材料。 - 特許庁

The device measures the energy spectrum of the scattered ions scattered from a sample onto which an ion beam 15 is irradiated, and includes an ion detector for detecting the scattered ions within a vacuum container in which a magnetic field is formed, and an aperture 16 for ion sorting provided between the ion detector and the sample.例文帳に追加

イオンビーム１５が照射された試料から散乱する散乱イオンのエネルギースペクトルを測定するための装置であって、磁場が形成された真空容器内で前記散乱イオンを検出するイオン検出器と、このイオン検出器と前記試料との間の位置に設けられるイオン選別用のアパーチャ１６とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing a lithium ion conductive electrolyte reacts monomer components of the lithium ion conductive electrolyte composition to polymerize them by irradiating with an active energy beam and/or heating.例文帳に追加

前記リチウムイオン伝導性電解質用組成物を、活性エネルギー線および／または加熱により、モノマー成分を反応させて重合することを特徴とするリチウムイオン伝導性電解質の製造方法。 - 特許庁

To provide a lithium ion secondary battery improving the electron conductivity of LiMnPO_4, which is a positive electrode active material, and obtaining both high energy density and high safety for the lithium ion secondary battery.例文帳に追加

リチウムイオン二次電池の正極活物質であるＬｉＭｎＰＯ_４の電子伝導性を向上させるとともに、リチウムイオン二次電池としての高エネルギー密度と高い安全性とを両立させる。 - 特許庁

To provide an electromagnet for mass separation having an electromagnet, in which a sufficient mass separating function is displayed in response to a wide range of energy and ion mass, and to provide an ion injection device.例文帳に追加

広いエネルギー、及び、広いイオン質量の範囲に対応して十分な質量分離機能を発揮できる電磁石を備えた質量分離用電磁石とイオン注入装置を提供する。 - 特許庁

In addition, the potential barrier has dopant formed by high-energy ion implantation, and also has dopant formed by ion implantation or diffusion during the epitaxial growth of p-type epitaxial layer.例文帳に追加

また、前記ポテンシャル障壁は、高エネルギーのイオン注入によるドーパントを有し、前記Ｐ型エピタキシャル層のエピタキシャル成長中にイオンの注入又は拡散により形成されたドーパントを有する。 - 特許庁

The fragment ion total amount calculated from activation energy is distributed in response to the proton affinity of a plurality of fragment ions produced by the same fragmenting reaction, and a further accurate fragment ion strength is determined.例文帳に追加

同じフラグメント化反応で生じる複数のフラグメントイオンのプロトン親和力に応じて、活性化エネルギーから計算されるフラグメントイオン総量を分配し、より精度の高いフラグメントイオン強度を求める。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing method which enables ion implantation of dopant to a deep region to result in activation without increasing a heat load and without using a high-energy ion implantation device.例文帳に追加

半導体の製造に際し、熱負荷を増大させることなく、また、高エネルギーのイオン注入機を必要とすることなく深い領域までドーパントを注入して活性化することを可能にする。 - 特許庁

At least the die surface of the molding die for compound optical element is irradiated with ion beans at 3-5 keV of ion acceleration energy and at the exposure of 1x1010 to 1x1020 ions/cm2.例文帳に追加

複合光学素子成形用金型の少なくとも成形面に、イオン加速エネルギー３〜５０ｋｅＶ、照射量１×１０^１０〜１×１０^２０ｉｏｎｓ／ｃｍ^２の条件でイオンビームを照射する。 - 特許庁

An ion beam having given energy adjusted through acceleration by an accelerator 16 is emitted onto a substrate S held in a vacuum space, where the ion beam scans the substrate S in X and Y directions to inject ions.例文帳に追加

真空中で保持された基板Ｓに対し、加速器１６により加速することで所定の注入エネルギーに制御したイオンビームを照射し、Ｘ、Ｙ方向に走査させて所定のイオンを注入する。 - 特許庁

The vibration energy of the negative ion generating electric refrigerator/freezer 10 is used as it is in the external energy, and the vibrational energy is applied to a coral-containing water-proof solidified material or a coral block work as the coral work 20.例文帳に追加

外的エネルギーの中でマイナスイオン発生電気冷蔵・冷凍１０が持つ振動エネルギーをそのまま使用するもので、この振動エネルギーを珊瑚加工物２０である珊瑚含有耐水性固化物または珊瑚塊加工物に投与するものである。 - 特許庁

To provide an ion conductor capable of improving proton conductivity; to provide an energy device, in particular, a fuel cell using it; and to provide its system.例文帳に追加

プロトン伝導性を向上させ得るイオン伝導体、これを用いたエネルギーデバイス、特に燃料電池及びそのシステムを提供する。 - 特許庁

To enable constituting a gate region getting into underside of a source region, without subjecting the region high-energy ion implantation.例文帳に追加

高エネルギーのイオン注入を行わなくても、ソース領域の下方までゲート領域が入り込んだ構造を形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a lithium ion secondary battery which can maintain the energy density of a positive electrode more than a conventional one so as to suppress the decline in a battery capacity.例文帳に追加

従来よりも正極のエネルギー密度を維持し、電池容量の低下を抑制可能なリチウムイオン二次電池を提供する。 - 特許庁

To inexpensively remove at low energy a damage layer generated in a cut end face after working by a converged ion beam.例文帳に追加

集束イオンビーム加工後の切削端面に生じたダメージ層を低エネルギーかつ低コストで除去する表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode active material, capable of achieving high load characteristics, high cycle characteristics, and high energy density, and a lithium ion battery.例文帳に追加

高負荷特性、高サイクル特性及び高エネルギー密度を実現することが可能な電極活物質及びリチウムイオン電池を提供する。 - 特許庁