「irradiation position」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

The light detector 6 is moved to 5 moving positions of the flare confirmation jig 5 in accordance with the rotation of the polygon mirror and receives the irradiation of the reflection scattered of the polygon mirror 2 at each moving position.例文帳に追加

光検出器６は、ポリゴンミラーの回転に対応して、フレア確認試験治具５の五つの移動位置に移動され、各移動位置にてポリゴンミラー２の反射散乱光の照射を受ける。 - 特許庁

Then, the focus and irradiation position characteristics of a beam on an image carrier become stable because variance is reduced between respective colors, and also the image quality at the time of forming an image is improved.例文帳に追加

よって、像担持体上でのビームのピント・照射位置特性が各色間でばらつきが少なくなって安定し、ひいては画像形成の画質を向上させることができる。 - 特許庁

The irradiation beam 4 is scanned from P1 to P6 under this condition, and a change of an obtained reflected light beam signal 7 is measured to confirm the presence of the test paper 8 and to detect the reference position.例文帳に追加

この状態で照射光ビーム４をＰ１からＰ６まで走査して、得られる反射光信号７の変化を測定し、試験紙８の有無の確認及び基準位置検出を行う。 - 特許庁

A blue filter 45 is moved to a position for transmitting the blue light B and blocking the red light R so as to stipulate the outer edge part on the right side of the irradiation range A1 by its left side end part.例文帳に追加

青フィルタ４５を、青色光Ｂを透過させ、かつその左側端部により照射範囲Ａ１の右側の外縁部を規定するよう、赤色光Ｒを遮光する位置に移動する。 - 特許庁

When the coupling part 40 of the cleaning mean 36 is arranged at a position striding over the light irradiation portion 30, the principal plane of the dustproof glass 34 is touched with a cleaning portion 42 provided in the coupling part 40.例文帳に追加

光照射部３０を跨ぐ位置に清掃手段３６の連結部４０が配置されるとき、連結部４０に設けられた清掃部４２と防塵ガラス３４の主面とが接する。 - 特許庁

The position of the light-emitting center of the light source 21 to the reflecting shade 7 is enabled to be changed at least in four ways including a change in a specified irradiation direction.例文帳に追加

選択装着構造の選択により反射笠７に対する光源２１の発光中心の位置を特定照射方向への変化を含む少なくとも４通りに変更可能とする。 - 特許庁

The pressure collecting wall 52 scratches together the cryo-material in the surrounding area and forms a cryo-target band in the position of the cryo-target groove 51, and a beam condensing irradiation point for the pulse laser beams is located in the center of the band.例文帳に追加

圧集壁５２は周辺のクライオ材を掻き集めてクライオターゲット溝５１の位置にクライオターゲット帯を形成し、その中心にパルスレーザ光の集光照射点を置く。 - 特許庁

To provide an adapter for underwater photographing that is easily attached to and detached from a watertight case containing a camera with an internal electronic flash, easily manufactured, and always realizes proper irradiation with the light from the internal electronic flash of the camera even if the position relation between the camera and electronic flash changes.例文帳に追加

ストロボ内蔵カメラを収容する防水ケースに容易に着脱可能であると共に、製造が容易である水中撮影用アダプタを提供すること。 - 特許庁

After that, the grinding wheel shaft 11 is rotated at a fixed speed, and while the irradiation position is moved along the outer edge of the grinding wheel 3, the laser beam with a fixed intensity is applied to the grinding wheel 3.例文帳に追加

その後、砥石軸１１を一定速度で回転させると共に、砥石３の外縁に沿って照射位置を移動させながら一定強度のレーザ光を砥石３に照射する。 - 特許庁

First, with a beam cross section ready to be shaped with a mask, the position of a beam spot in the image plane is calculated from the image of a first laser irradiation trace formed on the workpiece.例文帳に追加

まず、マスクでビーム断面を整形する状態にして、被照射物上に形成した第１のレーザ照射痕の画像から、像面内におけるビームスポットの位置を算出する。 - 特許庁

The irradiation with the laser beam 11 is performed in the order of the other end part P2, the center part and the one end part P1 in the major- axial direction of the irradiating position P so as to heat the fillet part in this order.例文帳に追加

レーザビーム１１の照射が、照射パターンＰの長軸方向につき、他端部Ｐ２、中央部及び一端部Ｐ１の順に行われ、この順で加熱されるようにする。 - 特許庁

To provide radiographic equipment inexpensively which prevents the irradiation of the subject with the radiation unnecessary for the imaging associated with the altering of the relative angle position between the rectangular radiation image receiving part and the subject.例文帳に追加

矩形の放射線受像部と被検体の相対角度位置の変更に伴い、撮影に不必要な放射線を被検体に照射することがない撮影装置を安価に提供する。 - 特許庁

A well 4 located in an irradiation position A is irradiated with light from the LED 8, as the excitation light, via a collimator lens 10, a band-pass filter 12, a dichroic mirror 14 and an objective lens 16.例文帳に追加

ＬＥＤ８からの光をコリメータレンズ１０、バンドパスフィルター１２、ダイクロイックミラー１４及び対物レンズ１６を介して励起光として照射位置Ａに位置されたウェル４に照射する。 - 特許庁

To accurately perform corneal surgery by a laser beam by obtaining the rotation deviation of an eyeball due to the difference of a body position even during laser irradiation or after cutting the cornea in a layer shape.例文帳に追加

レーザ照射途中や角膜を層状に切開した後にも、体位に違いによる眼球の回転ズレを得て、レーザビームによる角膜手術をより精度良く行えるようにする。 - 特許庁

Laser beam Le emitted from a semiconductor laser LD is led to an irradiation position along the tangential direction of a pattern forming surface 4Sa by a reflection mirror 27 mounted on a carriage 20.例文帳に追加

キャリッジ２０に搭載された反射ミラー２７が、半導体レーザＬＤの出射したレーザ光Ｌｅをパターン形成面４Ｓａの略接線方向に沿って照射位置Ｐｅに導く。 - 特許庁

On the basis of the calculation results, an irradiation area of exposure light is matched with the position of the alignment mark on the wafer W, and the photoresist applied on the alignment mark is exposed.例文帳に追加

そして、上記演算結果に基づき、露光光の照射領域とウエハＷ上のアライメントマークの位置とを一致させ、アライメントマーク上に塗布されているフォトレジストの露光を行う。 - 特許庁

A substrate 1 on a placement table 12 is irradiated with an ion beam from an ion source 13, at a position of a functional layer FL corresponding to the desired pattern shape with a prescribed intensity for a prescribed irradiation time.例文帳に追加

イオン源１３からイオンビームを載置台１２上の基板１に向けて、機能層ＦＬの所望のパターン形状に対応する位置に所定の強度および照射時間で照射する。 - 特許庁

To execute multilevel recording of 5 stages or more on a recording layer by changing time to irradiate a disk optical recording medium rotated at a fixed angular velocity in a laser beam irradiation position.例文帳に追加

レーザービームの照射位置での角速度が一定に回転するディスク状光記録媒体に、時間を変化して照射することによって記録層に５段階以上のマルチレベル記録を行う。 - 特許庁

The glass is cut by using a laser beam 3 having 300-1,100 nm wavelength and scanning an irradiation position with the laser beam 3 along a prescribed cutting line of a glass plate 1 to be cut.例文帳に追加

波長が３００乃至１１００ｎｍであるレーザ光３を使用し、切断対象のガラス板１の所定の切断線に沿ってレーザ光３の照射位置を走査する。 - 特許庁

The laser unit 102 emits the laser beam in a state where the relative position is controlled in such a manner that the inside of the glass substrate 1 is melted in the irradiation range 2.例文帳に追加

レーザーユニット１０２は、照射範囲２においてガラス基板１の内部が溶融するように、上記のようにして相対位置が制御された状態で、レーザ光を照射する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for ion irradiation processing capable of continuously executing the heating and the ion processing of a substrate in a film deposition process at the same position.例文帳に追加

成膜工程における基板の加熱処理とイオン処理を、同じ位置において連続的に実施することができるイオン照射処理装置及びイオン処理方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, the beam diameter of the laser beam is changed irregularly with respect to the irradiation position (respective lattice points of a lattice 14) of the laser beam to control the output of the laser beam.例文帳に追加

本製造方法では、レーザ光のビーム径を、レーザ光の照射位置（図１では格子１４の各格子点）に対して不規則に変化させることで、レーザ光の出力制御を行う。 - 特許庁

To provide an illuminating device capable of easily carrying out adjustment such as expanding, contracting and changing an irradiation area, even in case one is used at a fixed state to a given position.例文帳に追加

所定位置に固定された状態に使用する場合においても、照射領域を、拡張、縮小、変更する等の調整を容易に行うことができる照明装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for correcting the light irradiation position of an optical reconstruction type gate array with which positioning accuracy is automatically corrected by correcting a light direction.例文帳に追加

光の方向を補正して、自動的に位置決め精度の補正を行うことが可能な光再構成型ゲートアレイの光照射位置補正方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray radiographic apparatus that specifies radiation irradiation volume measuring position with accuracy for the bodily region of a subject concerned, and generates its desired radiographic image.例文帳に追加

関心領域となる所定の放射線量測定位置を正確に特定することができ、所望の放射線画像を生成することが可能な放射線画像撮影装置を提供する。 - 特許庁

The temperature of the substrate 12 becomes high at a position that is irradiated with the laser beam 13 for depositing a deposition material 11C, the crystallization of the deposited deposition material 11C advances since a low temperature suitable for crystallization is achieved at a prior irradiation position when the laser beam 13 moves to the other position, and a thin film 20 made of polycrystalline silicon remains.例文帳に追加

レーザビーム１３が照射された位置で基板１２が高温となって蒸着材料１１Ｃが堆積し、レーザビーム１３が他の位置へ移動すると、以前の照射位置では結晶化に適した低温となるので堆積した蒸着材料１１Ｃの結晶化が進行し、多結晶シリコンからなる薄膜２０が残る。 - 特許庁

A plane screen for projecting each irradiated beam, a beam projection position measuring means for measuring the position of a projection point projected on the screen, and a beam direction calculation means for calculating each beam direction from measured projection position information are prepared in order to measure irradiation directions of a plurality of beams.例文帳に追加

複数光線の照射方向を測定するために、照射される各光線を投影する平面スクリーンと、そのスクリーンに投影される投影点の位置を計測する光線投影位置計測手段と、計測された投影位置情報から各光線方向を算出する光線方向算出手段を用意する。 - 特許庁

The detector comprises optical detection systems 15, 16 for detecting the surface position by light irradiation, a capacitance sensor 26 for detecting the surface position by capacitance, and a memory means 24 for storing information about the surface position detection results obtained by the optical detection systems and the capacitance sensor about a surface to be detected.例文帳に追加

光照射により面位置を検出するための光学式検出系１５、１６と、静電容量により面位置を検出するための静電容量センサ２６と、被検出面についての光学式検出系および静電容量センサによる面位置検出結果に関する情報を記憶する記憶手段２４とを備える。 - 特許庁

The laser beam welding equipment comprises a CCD camera 4 to pick up images of plasma light generated from a weld part P irradiated with laser beams L, a detection device 5 to detect the deviation of the irradiation position of the laser beams L based on a plasma image picked up by the CCD camera 4, and a correction device 6 to correct the irradiation position of the laser beams L based on the detected deviation.例文帳に追加

レーザ溶接装置は、レーザビームＬが照射される溶接部Ｐから発生するプラズマ光を撮像するＣＣＤカメラ４と、ＣＣＤカメラ４で撮像されたプラズマ画像に基づいてレーザビームＬの照射位置のずれ量を検出する検出装置５と、検出されたずれ量に基づいてレーザビームＬの照射位置を補正する補正装置６とを備える。 - 特許庁

A beam irradiation axis of an FIB lens barrel 1, a beam irradiation axis of an SEM lens barrel 2, and a first rotating axis of a rotatable table cross each other at almost a right angle at a sample observation position, the rotatable table has a support rotatable on the first rotating axis as a center; and the support connects a sample 5 to a translational mechanism which can be arranged at a sample observation position.例文帳に追加

ＦＩＢ鏡筒１のビーム照射軸と、ＳＥＭ鏡筒２のビーム照射軸と、回転可能な台の第一の回転軸が、試料観察位置でそれぞれが互いに略直交に交わり、回転可能な台が第一の回転軸を中心に回転可能な支持部を有し、支持部が試料５を試料観察位置に配置可能な並進機構と接続する。 - 特許庁

To provide a corpuscular-beam cancer treatment apparatus and a corpuscular-beam scanning irradiation method capable of minimizing an error dose irradiated to a vital organ even if the vital organ is included in the irradiation range where the corpuscular beam is irradiated, a scanned position is deviated from a position of a treatment plan or a range shifter is different from a range shifter of the treatment plan.例文帳に追加

粒子線ビームが照射される照射範囲に重要臓器が含まれ、スキャニングされた位置が治療計画の位置に対してずれたり、レンジシフタが治療計画のレンジシフタと異なったりしたときでも、重要臓器に照射される誤差線量が最小限に抑えられる粒子線がん治療装置および粒子線スキャニング照射方法を提供する。 - 特許庁

On a succeeding measurement stage, the second pulse light output timing of the second light source relative to the molecular beam generation timing of the molecular beam generation part is set and an irradiation position of second pulse light to a molecular beam is set so as to be set to timing and an irradiation position determined based on a fluorescent image obtained by the fluorescent imaging of the imaging part on the preparation stage.例文帳に追加

続く測定段階において、準備段階で撮像部による蛍光撮像により得られた蛍光像に基づいて決定されるタイミングおよび照射位置となるように、分子線生成部による分子線生成タイミングに対する第２光源による第２パルス光出力タイミングを設定するとともに、分子線への第２パルス光の照射位置を設定する。 - 特許庁

The photopolymerization apparatus 1A is constituted of a pulsed laser light source 10 for providing pulsed laser light L of a predetermined wavelength, an irradiation optical system 20 for irradiating a material S to react containing a conjugated cyclic compound with the pulsed laser light L from the pulsed laser light source 10, and a radiation position controlling mechanism 35 for controlling the irradiation position P of the pulsed laser light L on the material S to react.例文帳に追加

所定波長のパルスレーザ光Ｌを供給するパルスレーザ光源１０と、共役環状化合物を含む被反応物Ｓに対してパルスレーザ光源１０からのパルスレーザ光Ｌを照射するための照射光学系２０と、被反応物Ｓに対するパルスレーザ光Ｌの照射位置Ｐを制御する照射位置制御機構３５とを備えて光重合装置１Ａを構成する。 - 特許庁

The device is so composed to be provided with an offset measurement control means which measures the state of irradiation with light beam while the tracking target position of the light beam on a recording medium is offset and measures an optimum offset so that the state of irradiation with light beam is made at an optimum tracking target position, and a tracking control means which controls the tracking by setting the updated optimum offset.例文帳に追加

光ビームの記録媒体上におけるトラッキング目標位置をオフセットさせながら光ビーム照射状態を測定し最適な光ビーム照射状態のトラッキング目標位置になるように最適オフセットを測定するオフセット測定制御手段と、更新された前記最適オフセットを設定してトラッキング制御を行うトラッキング制御手段とを備えるように構成する。 - 特許庁

The irradiation position of a laser beam is respectively moved to first and second positions having first and second distances from the origin position of laser beam irradiation, after the movement, a machining object OB set in a table 11 is rotated, the machining object OB is irradiated with a laser beam from a machining head 20, and circular first and second machining remains are respectively formed at the machining object OB.例文帳に追加

レーザ光の照射位置を、レーザ光の照射の原点位置から第１及び第２距離を有する第１及び第２位置までそれぞれ移動させ、前記移動後にテーブル１１にセットされた加工対象物ＯＢを回転させ、加工ヘッド２０から加工対象物ＯＢにレーザ光を照射して、加工対象物ＯＢに円形の第１及び第２加工跡をそれぞれ形成する。 - 特許庁

An image of the mark for detecting position of the base pattern of the substrate 1 is obtained by each image acquiring device 51 and the chuck 10 is moved by the stage in accordance with the position of the mark for detecting position of the base pattern of the substrate 1 detected by the image processing device 50 to position the substrate 1 before scanning the substrate 1 by the optical beams emitted from the optical beam irradiation device 20.例文帳に追加

各画像取得装置５１により基板１の下地パターンの位置検出用マークの画像を取得し、画像処理装置５０が検出した基板１の下地パターンの位置検出用マークの位置に応じて、ステージによりチャック１０を移動して、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査する前の基板１の位置決めを行う。 - 特許庁

A distance introduction part 140 specifies a position of reflection lights from the detecting object 102 of the lights irradiated by the irradiation unit 120 in the image picked up by the photographing device 110, and derives a distance between the detecting object 102 and the predetermined position (such as a position of a front face of the dash board) from the reflection light position in the picked up image.例文帳に追加

そして、距離導出部１４０は、撮影装置１１０によって撮影された画像中の上記光照射ユニット１２０が照射した光の検出対象者１０２からの反射光の位置を特定し、撮影画像中の反射光位置から検出対象者１０２と予め決められた位置（ダッシュボード前面の位置など）との間の距離を導出する。 - 特許庁

The lens 22 is movable to positions B, B"; in a state where the lens is set at the position B', the laser beam is emitted to the acrylic plate 30 with the focus deviated from the irradiation position E, the acrylic plate 30 is preheated with the laser beam emitted from the lens 21.例文帳に追加

レンズ２２は位置Ｂ，Ｂ’に移動可能であり、位置Ｂ’にセットされている状態においては、照射位置Ｅでの焦点をずらせた状態でレーザビームをアクリル板３０に照射し、前記レンズ２１から照射されるレーザビームとでアクリル板３０を予備加熱する。 - 特許庁

To provide an apparatus for correcting deviation of an irradiation position and precisely measuring strain through diffraction, when a position irradiated with electromagnetic waves is deformed by the movement and deformation of an object to be measured, during measurement in measurement of strain by a diffraction method of electromagnetic waves, such as X-rays.例文帳に追加

Ｘ線など電磁波の回折法によるひずみ測定において、測定中に被測定物の移動や変形により電磁波照射位置が変化した場合に、照射位置のずれを補正し、回折によるひずみ測定を精度良くする装置を提供する。 - 特許庁

The laser beam absorber can be arranged behind a back side condensing body 36 disposed to cover the back side of the laser beam irradiation position, between the conveying position of the continuous paper and the back side condensing body, and to integrate with the back side condensing body.例文帳に追加

レーザ光吸収体は、レーザ光照射位置の背面側を覆うように設けられた背面側集光体３６の後方、連続用紙の搬送位置と背面側集光体との間、又は背面側集光体と一体となるように配置することができる。 - 特許庁

Laser light emitted from an x-direction display laser 21x, a y-direction display laser 21y and a z-direction display laser 21z controls the irradiation position and direction of each laser light so as to ensure that the calculated coordinate position is indicated.例文帳に追加

そして、ｘ方向表示用レーザ２１ｘ、ｙ方向表示用レーザ２１ｙ及びｚ方向表示用レーザ２１ｚから出射されるレーザ照射光が、前記計算された前記座標位置を指し示すように各レーザ照射光の照射位置や方向を制御する。 - 特許庁

Although an irradiation beam entering into the electromagnetic prism 3 enters from two positions according to the difference of the energy, its position is selected at a position where the luminous flux center of the illumination beam in exiting the electromagnetic prism 3 coincides with the optical axis 19.例文帳に追加

電磁プリズム３に入射する照射ビームは、そのエネルギーの違いに応じて、２つの位置から入射するが、その位置は、何れの場合にも、電磁プリズム３を出るときの照明ビームの光束中心が光軸１９に一致するような位置に選ばれている。 - 特許庁

The image of a reference substrate is imaged on which a two-dimensional pattern is formed, the displacement of the positioning stage is obtained from the two-dimensional pattern acquired from the above imaging, the position of the positioning stage is two-dimensionally corrected on the basis of the above displacement, and the irradiation position of a laser beam is corrected.例文帳に追加

二次元パターンが形成された基準基板の画像を撮像し、この撮像で得た二次元パターンから位置決めステージの位置ずれを求め、この位置ずれに基づいて位置決めステージの位置を二次元で校正し、レーザー光の照射位置の位置補正を行う。 - 特許庁

The method of cutting substrate is provided with a process of causing thermal stress at a cutting position of the substrate by the irradiation (S1) with laser, a process (S2) of forming scribe grooves at the cutting position where thermal stress is caused and a process (S3) of cutting the substrate along the scribe grooves.例文帳に追加

基板の破断すべき位置にレーザを照射する（Ｓ１）ことにより基板に熱応力を生じさせる工程と、熱応力を生じさせた破断位置にスクライブ溝を形成する工程（Ｓ２）と、スクライブ溝に沿って基板を破断する工程（Ｓ３）とを具備する。 - 特許庁

The correction processing part 500 computes the time required for a substrate to reach a desired exposure position from the measurement position of the substrate 90 length-measured by a laser length measuring device 70 and controls a light irradiation part 30 so as to irradiate a light with a delay delayed by the corresponding time portion.例文帳に追加

補正処理部５００は、レーザ測長器７０が測長した基板９０の測定位置から所望の露光位置にまで基板が到達するのにかかる時間を演算し、その時間分遅延させて光を照射するように光照射部３０を制御する。 - 特許庁