「irradiation position」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a laser beam processing machine that surely irradiates a prescribed position of a workpiece with a laser beam and that prevents adverse effect of debris generated by the irradiation of the laser beam.例文帳に追加

レーザー光線を被加工物の所定位置に確実に照射することができるとともに、レーザー光線を照射することによって発生するデブリの影響を防止することができるレーザー加工装置を提供する。 - 特許庁

To balance a mechanism rapidly supplying a droplet target to a laser irradiation position without disturbing the track of a target with a mechanism trapping ions (charged debris) generated from plasma by the action of a magnetic field.例文帳に追加

ターゲットの軌道を擾乱させることなく、ドロップレットターゲットをレーザ照射位置に高速に供給する機構と、プラズマから発生したイオン（帯電したデブリ）を磁場の作用によりトラップする機構とを両立させる。 - 特許庁

The laser pointer is equipped with a light emitting unit 7 for emitting a laser beam, and the antenna A arranged at a position surrounding the irradiation path of the laser beam and performing radio wave communication with the prescribed electronic equipment.例文帳に追加

レーザ光線を発光するための発光ユニット７と、前記レーザ光線の照射通路を取り囲む位置に配され且つ所定の電子機器と電波通信するためのアンテナＡとを備えて成るようにした。 - 特許庁

Because the average refractive index temperature coefficient of the zoom lens 2 is small, variation of an imaging position due to a partial temperature rise of the zoom lens 2 caused by irradiation of linear light for drawing can be suppressed.例文帳に追加

ズームレンズ２では、平均屈折率温度係数が小さいため、描画用の線状光の照射により生じるズームレンズ２の部分的な温度上昇による結像位置の変動を抑制することができる。 - 特許庁

The trigger unit 241, based on the laser beam irradiation correct/error command, specifies existence of laser reirradiation and a position of reirradiation, and the trigger unit 241 sends out command of reworking by status order to a main controller 23.例文帳に追加

トリガユニット２４１はレーザ照射正誤指令に基づきレーザの再照射の有無と再照射位置を特定し、トリガユニット２４１は、メインコントローラ２３に対してステータス命令による再加工指令を送出する。 - 特許庁

To make it possible to exactly and directly irradiate a desired cornea position with an IR laser beam without direct contact with the cornea of an IR laser beam irradiation region of an ophthalmological refraction correcting apparatus using the laser beam.例文帳に追加

レーザ光を用いた眼科屈折矯正装置において、赤外線レーザ光照射領域の角膜に直接接触せず、所望の角膜位置に赤外線レーザ光を正確かつ簡単に照射できるようにする。 - 特許庁

A photomask formed with a light shielding film pattern is irradiated with laser, and the image of the light shielding film pattern is acquired by changing the relative position of a laser and the photomask while reciprocating an irradiation spot of the laser within a micro range.例文帳に追加

遮光膜のパターンが形成されたフォトマスクにレーザーを照射し、そのレーザーの照射スポットを微小範囲で往復させながらレーザーとフォトマスクの相対位置を変化させて遮光膜のパターンの画像を取得する。 - 特許庁

To provide an optical element holding device which allows light irradiation test to be easily performed by accurately and surely holding even an optical element whose area being available as a margin to hold and being non-light-transmissive is small, in a prescribed position.例文帳に追加

保持代として利用できる光を透過させない領域が少ない光学素子でも所定位置に正確且つ確実に保持して光照射試験を容易に実施可能とする光学素子保持装置を提供する。 - 特許庁

When the light receiver 7 is positionally changed for a visible light source 30, visible light can be irradiated to the reflector 9 to cause the irradiation position of the laser light as invisible light emitted in gas detection to be checked visually.例文帳に追加

受光器７の配置位置に可視光源３０を交換することにより、反射体９に可視光を照射でき、ガス検出時に出射される不可視光であるレーザ光の照射位置を目視確認できる。 - 特許庁

The beam catcher 38a has a roof-shaped part 44 having an angle section elongated in the Y-direction along a center bridge 28 and pointed on the center bridge 28 side on the position opposite to the center bridge 28 of an irradiation window 22.例文帳に追加

しかもこのビームキャッチャー３８ａは、照射窓２２の中央桟２８に対向する位置に、中央桟２８に沿ってＹ方向に延びていて中央桟２８側が尖った断面山形の尾根状部４４を有している。 - 特許庁

When the high speed high beam is irradiated, all portions of the movable shade 40 is positioned at the second position so that they may be below the fixed edge 33 and the cut off-line line of the irradiation light is formed by the fixed edge 33.例文帳に追加

高速走行用ビームを照射する際には、可動シェード４０の全ての部分を固定エッジ３３よりも下方になるように第２位置に位置させ、固定エッジ３３で照射光のカットオフラインを形成する。 - 特許庁

The irradiating position of the charged particle beam is moved to the entire patient by moving the treatment table 102 along the axis A while scanning the charged particle beam in the direction vertical to the axis A by the irradiation means 3.例文帳に追加

照射手段３は、荷電粒子ビームを軸線Ａに対して垂直方向に走査しつつ、治療台１０２が軸線Ａに沿って移動することにより、荷電粒子ビームの照射位置が患部全体に移動する。 - 特許庁

Besides, an absorber 85 may be provided in the vicinity of the water-stream impact position to the workpiece, to absorb the fragments generated from the workpiece by the laser-beam irradiation action.例文帳に追加

さらに、前記水流の前記被加工物に対する衝突部分に隣接して設けられた吸引部８５を含み、前記レーザ照射作用により生じた前記被加工物からの破片を吸引するようにしてもよい。 - 特許庁

The mark formed on the internal layer circuit is detected by an X-ray fluoroscope 40 comprising an X-ray irradiation unit 41 and a camera unit 42, and a substrate K held by a holding table 10 is moved to the marking position.例文帳に追加

内層回路に形成されたマークを、Ｘ線照射部４１及びカメラ部４２からなるＸ線透視装置４０により検出し、その後、保持テーブル１０に保持された基板Ｋをマーキング位置に移動する。 - 特許庁

Then, the laser irradiation device is constructed of the optical system 300, and a substrate mounting part which is arranged in a position capable of receiving the laser beam irradiated from the optical system 300 and on which the treating object S is mounted.例文帳に追加

また，レーザ照射装置を，光学系３００と；光学系３００から照射されるレーザビームを受像可能な位置に配置されて被処理物Ｓが載置される基板載置部と；を含んで構成されるようにした。 - 特許庁

Since the height position of the annular ultraviolet lamp 67 is adjusted through the drive mechanism by a controller 76 based on the measured value of an ultraviolet illuminance meter 74 installed in the substrate irradiation room 72, the illuminance in the substrate irradiation room 72 is kept constant and the curing degree of the curing agent of the adhesive tape T is enhanced evenly, which makes its detachment easy.例文帳に追加

基板照射室７２に設置の紫外線照度計７４の計測値が入力される制御機器７６によって駆動機構を介してリング状紫外線ランプ６７の高さ位置を調整して基板照射室７２内の照度を一定に保ち、粘着テープＴの粘着剤の硬化度を均等に高めて、その剥離を容易化させる。 - 特許庁

To enable it to intuitively make clear the extent of reducing X-ray irradiation output in relation to the position of a subject in an X-ray CT scanning, where the X-ray irradiation output is smaller than the prescribed one in the prescribed range of X-ray projection angle and subject's body axis direction.例文帳に追加

被検体の体軸方向の所定の範囲における所定の投影角度範囲において、Ｘ線照射出力を所定のＸ線照射出力よりも小さくするＸ線ＣＴスキャンを行うに当り、Ｘ線照射出力を小さくする範囲を被検体との位置的関係において直感的に把握できるようにする。 - 特許庁

The control map determines the irradiation control method having a small possibility of giving the glare to the front traveling wheel in a region having higher brightness than a prescribed value and the many number of the light points and determines the irradiation control method changing light distribution according to the position of the front traveling wheel in a region having lower brightness than the prescribed value and the small number of the light points.例文帳に追加

制御マップは、所定値よりも輝度が高くかつ光点数が多い領域に、前走車に対してグレアを与える可能性が少ない照射制御方式が定められ、所定値よりも輝度が低くかつ光点数が少ない領域に、前走車の位置に応じて配光を切り替える照射制御方式が定められている。 - 特許庁

At least one electrode of a pair of electrodes of the medium 2 is divided into a plurality of striped sub-electrodes along the longitudinal direction of the light irradiation bar 12, and an image forming voltage or a reset voltage is applied between a sub-electrode 241 on the position covered with the light irradiation bar 12 and an electrode 25 opposite thereto.例文帳に追加

媒体２の一対の電極のうち少なくとも片方の電極は光照射バー１２の長手方向に沿ったストライブ形状の複数のサブ電極に分割されており、光照射バー１２により覆われる位置のサブ電極２４１およびそれに対向する電極２５の間に画像形成電圧またはリセット電圧が印加される。 - 特許庁

During the operation, the output light source, such as laser, emits a high-intensity input light to the irradiation spot; and although thereby a high-intensity wide-band output light is irradiated to the phosphor blend in the irradiating spot, the irradiation spot continuously changes the position to the light-emitting phosphor blend to reduce photofading, thus prolonging the service life of the light source structure.例文帳に追加

作動中、出力光源（例えば、レーザー）は照射スポットに高強度入力光を与え、それによってそのスポットにおける発光蛍光体ブレンドに高強度広帯域出力光を放射させるが、この照射スポットは発光蛍光体ブレンドに対して連続的に位置を変えて光退色を減じ、それによって光源構造の寿命を延ばす。 - 特許庁

In the laser beam machining method to machine a workpiece by relatively moving the workpiece to a laser beam irradiation means while irradiating the workpiece with laser beams from the laser beam irradiation means, gas is blown toward the workpiece at a position to be irradiated with the laser beams from a side machined with laser beams when irradiating laser beams.例文帳に追加

被加工物にレーザー光線照射手段からレーザー光線を照射しつつ該被加工物と該レーザー光線照射手段とを相対移動せしめて該被加工物を加工するレーザー加工方法であって、レーザー光線照射時にレーザー光線によって加工された側からレーザー光線の照射位置に向けてガスを噴出せしめる。 - 特許庁

An electron beam irradiation device for scanning by a scanning part 3 the electron beam emitted toward a commodity box X from an electron beam generation part 1, and irradiating the commodity box X therewith, includes an electron lens 5 for deflecting a traveling direction of the electron beam on each scanning position to a direction approximately orthogonal to an irradiation plane of the commodity box X.例文帳に追加

電子線発生部１から商品箱Ｘに向けて出射された電子線を走査部３で走査して商品箱Ｘに照射する電子線照射装置であって、各々の走査位置における電子線の進行方向を商品箱Ｘの照射平面に略直交する方向に偏向する電子レンズ５を備える。 - 特許庁

The laser beam is branched into a main laser beam 13M and a sub-laser beam 13S, pattern irradiation corresponding to the recording pattern is performed by the main laser beam 13M, and the position of the main laser bema 13M is adjusted by the sub-laser beam 13S obtaining the positional information from the area where a pattern irradiation processing by the main laser beam 13M is performed.例文帳に追加

レーザ光を主レーザ光１３Ｍと副レーザ光１３Ｓとに分岐し、主レーザ光１３Ｍによって記録パターンに対応するパターン照射を行い、副レーザ光１３Ｓによって、主レーザ光１３Ｍによるパターン照射処理がなされた領域から、その位置情報を得て、主レーザ光１３Ｍの位置調整を行う。 - 特許庁

The ultraviolet irradiation apparatus used for irradiating a continuously conveyed ultraviolet setting layer with ultraviolet ray has a light source 1, at least an optical filter 3 arranged at a front position in the irradiation direction of the light from the light source 1, and a cooling mechanism 4 which cools the optical filter 3 with a liquid coolant.例文帳に追加

連続搬送される紫外線硬化性層に紫外線を照射するために用いられる紫外線照射装置であって、光源１と、光源１からの光の照射方向前方に配置された少なくとも一枚の光学フィルター３と、光学フィルター３を液状冷媒により冷却する機構４とを有する紫外線照射装置である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical information recording medium by which a position irradiated with laser light is more accurately adjusted and a transferred layer part is processed by short time irradiation with laser light and whose productivity is enhanced in a method of removing the transferred layer part existing on the outside of an outer diameter of a light incident surface side substrate by irradiation with laser light.例文帳に追加

本発明の目的は、光入射面側基板外径よりも外側に存在する転写層部分をレーザー光を照射することで取り除く方法において、レーザー光照射位置の調整をより正確にし、且つ、短時間のレーザー光照射で転写層部分の処理が可能な、より生産性の向上した製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The charged particle beam emitted from a charged particle beam generator is supplied to a scanning magnet for performing scanning on an irradiation surface vertical to a beam advancing direction, and on the basis of the position and dose on the irradiation surface of the charged particle beam which passes through the scanning magnet, the emission amount of the charged particle beams from the charged particle beam generator is controlled.例文帳に追加

荷電粒子ビーム発生装置から出射された荷電粒子ビームを、ビーム進行方向と垂直な照射面上に走査する走査磁石に供給し、この走査磁石を通過した荷電粒子ビームの照射面上における位置及び線量に基づいて、荷電粒子ビーム発生装置からの荷電粒子ビームの出射量を制御する。 - 特許庁

The lower surface of an electronic component (b) is irradiated with four straight slit beams 30, at tilts across each other, from a beam irradiation means 14, and the irradiation position of beam on the electronic component (b) is imaged with an imaging means 11 comprising a CCD camera through a beam incidence means 12 comprising a telecentric lens, for detecting an image of the electronic component (b).例文帳に追加

光線照射手段１４により互いに交差する傾斜をもって電子部品ｂの下面へ四本の直線スリット光３０を照射し、電子部品ｂ照射されたこの光の位置を、テレセントリックレンズからなる入光手段１２を介して、ＣＣＤカメラからなる撮像手段１１により撮像して電子部品ｂの画像を検出する。 - 特許庁

A pattern drawing device 1 measures an irradiation position of an optical head 32 and irradiation positions of respective alignment drawing heads 41, 42, 43, and 44 by using a common calibration camera, and corrects the positions of the alignment drawing heads 41, 42, 43, and 44 to optimize relative positional relationship between the optical head 32 and alignment drawing heads 41, 42, 43, and 44.例文帳に追加

パターン描画装置１は、光学ヘッド３２の照射位置と各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の照射位置とを共通のキャリブレーションカメラを使用して計測し、アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の位置を補正することにより、光学ヘッド３２とアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４との相対的な位置関係を適正化させる。 - 特許庁

Laser beam welding is performed by applying laser beams 3 adjusted so that the ratio of the focal distance to the spot diameter at the focal position is ≥300 to a weld part of a workpiece 2 while jetting a shield gas to a laser beam irradiation position to the laser beam applying position of the workpiece from a nozzle 11 provided in a side space between a laser head for outputting laser beams and the workpiece 2.例文帳に追加

レーザー光を出力するレーザーヘッドと被溶接体２との間の側方空間に設けたノズル１１から被溶接体のレーザー光照射位置にシールドガスを噴射しつつ、焦点位置でのスポット径に対する焦点距離の比率が３００以上となるように調整したレーザー光３を被溶接体２の溶接部位に照射してレーザー溶接する。 - 特許庁

A laser machining head 14, which constitutes a laser machining apparatus 10, includes: a machining-laser irradiation mechanism 22, which conducts laser machining by irradiating a workpiece W with a machining-laser beam L; and a position detecting mechanism 24, which detects the position of the laser machining head 14 relative to the workpiece W.例文帳に追加

レーザ加工装置１０を構成するレーザ加工ヘッド１４は、加工用レーザ光Ｌを加工対象物Ｗに照射してレーザ加工を行う加工用レーザ照射機構２２と、前記加工対象物Ｗに対する前記レーザ加工ヘッド１４の位置を検出する位置検出機構２４とを備える。 - 特許庁

On a display part, where the light flux for measurement is converged or fixed on the eyeground 61 of the eye 60 to be examined and further, the converging/measuring position is changed by moving a fixation target or position to be irradiated with irradiation light for Hartmann measurement with a driving part.例文帳に追加

表示部では、被検眼６０の眼底６１上のどの位置に測定のための光束が集光しているか又は固視しているかを確認できるようにし、さらに、駆動部により、固視標又はハルトマン測定用照射光の照射位置を動かすことで、その集光位置・測定位置を変更する。 - 特許庁

The generator 2 of X rays and the detector 3 are guided by an arcuate guide rail 4 to be made movable and the crossing point C of the irradiation direction of the generator 2 and the detecting direction of the detector 3 is allowed to coincide with the center of the circular arc of the guide rail 4 position of the position to be measured of the measuring target O at the crossing point C.例文帳に追加

エックス線の発生装置２と検出装置３を円弧状のガイドレール４に案内させて移動可能とし、発生装置２の照射方向と検出装置３の検出方向の交点Ｃをガイドレール４の円弧の中心と一致させ、交点Ｃに測定対象Ｏの被測定位置を位置させる。 - 特許庁

By displaying residual periods until reaching the permissible exposure dose by respective sections of the body surface of the patient constantly during the inspection as fluoroscopic inspection possible periods, the operator judges properly by the residual periods whether to continue the inspection at an irradiation position as it is or to change the radiation position and continue the inspection.例文帳に追加

検査中常時被検者の体表面の各区分ごとに許容被曝線量に達するまでの残り時間を透視可能時間として表示することにより、術者はこのままの照射位置で検査を続けるか、あるいは照射位置を変えて検査を続けるかを残り時間によって適切に判断することができる。 - 特許庁

The X-ray CT apparatus 100 performs X-ray irradiation of the X-ray tube 12a and X-ray detection of the X-ray detector 13 every time the X-ray tube 12a reaches a first position (e.g. 0°) and a second position (e.g. 90°) on the circular orbit to collect projection data about the subject P.例文帳に追加

また、Ｘ線ＣＴ装置１００は、Ｘ線管１２ａが円軌道上の第一の位置（例えば０°）及び第二の位置（例えば９０°）に到達する毎にＸ線管１２ａによるＸ線の照射及びＸ線検出器１３によるＸ線の検出を行い、被検体Ｐの投影データを収集する。 - 特許庁

A thermal conduction equation regarding a silicon film is solve on the basis of not only basic parameter including a central position, disctribution and energy density of a laser beam and overlapping ratio when multiplex laser beam irradiation is performed, but also fluctuation components including the center position and energy density, and growth of crystals in the object is statistically calculated.例文帳に追加

レーザビームの中心位置、分布、及びエネルギ密度、並びにレーザビームを多重照射する際の重複率を含む基本パラメータのみならず、中心位置、及びエネルギ密度を含むゆらぎ成分に基づいてシリコン膜に関する熱伝導方程式を解いて、対象物中における結晶の成長を統計的に計算する。 - 特許庁

The laser beam machining device 1 consists of a board 21 whose one surface is held by a board holding means 20, a laser irradiation means 30 for drilling a hole by irradiating the hole drilling position 22 of the board 21 with a laser beam (laser) 31a and a plasma gas feeding means 40 for feeding gas to the position 22.例文帳に追加

片面を基板保持手段２０で保持される基板２１と、基板２１の穴加工位置２２にレーザビーム（レーザ）３１ａを照射して穴加工するレーザ照射手段３０と、穴加工位置２２にプラズマガスを供給するプラズマガス供給手段４０とからなることを特徴とするレーザ加工装置１。 - 特許庁

A pair of displays 30, 31 for displaying by performing deflection control of the irradiation direction of the light beam are arranged mutually separated on the front part of the three-dimensional position sensor 10, and marks for indicating the measuring range fit for the focal distance position of the measuring object are displayed respectively by the displays.例文帳に追加

三次元位置センサ１０の正面部に、光ビームの照射方向を偏向制御することにより表示を行う一対の表示器３０，３１を互いに離間して配置し、この表示器により、計測対象物における焦点距離位置に合った計測範囲を指示するマークをそれぞれ表示させる。 - 特許庁

When a hologram is recorded in each information recording position of the information recording areas of the optical information recording medium, it is necessary that the irradiation positions of information light and recording reference light follow up the information recording position, which is moved in accordance with movement of the optical information recording medium, for a prescribed period required for exposure.例文帳に追加

光情報記録媒体の情報記録領域の各情報記録位置にホログラムを記録する際には、光情報記録媒体の移動に伴って移動する情報記録位置を露光に必要な所定の時間、情報光及び記録用参照光の照射位置が追従するこが要求される。 - 特許庁

The X-ray shielding curtains 673, 676 are provided in a position where lengths C1, C2 in a vertical direction of the X-ray shielding curtains 673, 676 are almost the same as or shorter than lengths L5, L6 in a horizontal direction from the X-ray irradiation hole U to a position where the X-ray shielding curtains 673, 676 are disposed.例文帳に追加

Ｘ線遮蔽カーテン６７３，６７６は、Ｘ線遮蔽カーテン６７３，６７６の鉛直方向の長さＣ１，Ｃ２が、Ｘ線照射口ＵからＸ線遮蔽カーテン６７３，６７６が配置されている位置までの水平長さＬ５，Ｌ６と比較して、略同一または短い位置に設けられる。 - 特許庁

When electron beam scanning is continuously performed in the width direction of a travelling metal strip by a plurality of electron guns, the position of each electron gun is adjusted both in the direction parallel to the width direction of the strip and the vertical direction to the strip surface in response to the position alteration of the strip used as an irradiation object.例文帳に追加

複数の電子銃により、走行する金属ストリップの幅方向に連続して電子ビーム走査を行うに際し、照射対象となるストリップの位置変更に応じて、各電子銃の位置を、ストリップの幅方向に平行な方向およびストリップ面に対する上下方向の双方について調整する。 - 特許庁

In the information processor 20, the indication position in time of the operation input by the second operation input means is calculated on the basis of an irradiation direction related to three or more different reference points detected on the basis of the operation input by the first operation input means, and a changeover of a display screen based on the indication position is performed.例文帳に追加

情報処理装置２０では、第１の操作入力手段による操作入力に基づいて検出された３以上の異なる基準点に関する照射方向に基づいて、第２の操作入力手段による操作入力時の指示位置が算出され、指示位置に基づく表示画面の切り替えが行われる。 - 特許庁

In the endoscope 100, a ray 108 irradiating the object 106 to be observed from a micro-mirror 116 is detected by a position detecting element 126 while scanning it to determine the irradiation position on the object 106 to be observed by a control part 136, so that the three-dimensional shape of the object 106 to be observed is measured.例文帳に追加

内視鏡１００では、微小鏡１１６から観察対象１０６上へ照射される光線１０８が、走査されつつ位置検出素子１２６で検出されて制御部１３６で観察対象１０６上の照射位置を求められることで、観察対象１０６の立体形状が計測される。 - 特許庁

Main part-side connecting position indicating marks 12 and 13 which are placed on positions approximately the same in the circumferential direction when a tamper evidence ring part 9 is connected with a main part 8 are provided respectively at the outer circumferences of the main part 8 and the tamper evidence ring part 9, and the connecting position indicating marks 12 and 13 are formed by irradiation of laser beams.例文帳に追加

主部８外周と、タンパーエビデンスリング部９外周に、タンパーエビデンスリング部９が主部８に対し連結した状態において周方向位置が互いにほぼ一致する主部側連結位置表示マーク１２、１３が形成され、これら連結位置表示マーク１２、１３は、レーザ光照射により形成されている。 - 特許庁

The microcomputer control circuit 20 receives a light-receiving intensity signal of irradiation light of the two directions detected by the light receiving part 18, and calculates the position of a liquid level 36 and the liquid amount in the liquid tank 30 from a previously correlated relationship between the light-receiving intensity and the position of liquid level to output them.例文帳に追加

前記マイコン制御回路２０は、受光部１８によって検出された２方向の照射光の受光強度の信号を受けて、あらかじめ相関付けた受光強度と液面位置の関係から、前記液体タンク３０内の液面３６の位置及び液体量を算定して出力する。 - 特許庁

The apparatus includes a computer 7 which detects the position of an underlay wiring pattern by monitoring the underlay wiring pattern formed on the substrate 11 by irradiation with light, and corrects pattern data to be inputted to the mirror elements of the DMD 5 based on the detection result so as to correct an exposure position for forming an overlay pattern.例文帳に追加

基板１１に形成された下層配線パターンを光の照射にてモニターすることにより下層配線パターンの位置を検出し、かつ検出結果に基づいて、ＤＭＤ５の各ミラー素子に入力するパターンデータを補正することにより上層パターンを形成するための露光位置を補正するコンピュータ７を有する。 - 特許庁