「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

VAPOR DEPOSITION DEVICE FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT USING ELECTROMAGNET AND VAPOR DEPOSITION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電磁石を用いた有機電界発光素子製作用蒸着装置及びこれを用いた蒸着方法 - 特許庁

POLYPROPYLENE FILM FOR VAPOR DEPOSITION AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

蒸着用ポリプロピレンフィルム及びその製造方法 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE AND METHOD FOR FORMING FILM例文帳に追加

化学的気相成長装置及び成膜方法 - 特許庁

ATOMIC LAYER VAPOR DEPOSITION DEVICE CAPABLE OF VAPOR- DEPOSITING THIN FILM ON PLURAL SUBSTRATE例文帳に追加

複数枚の基板に薄膜を蒸着可能な原子層蒸着装置 - 特許庁

PROPYLENE POLYMER MULTI-LAYER FILM FOR VAPOR DEPOSITION AND MULTI-LAYER VAPOR DEPOSITED FILM例文帳に追加

蒸着用プロピレン系重合体多層フィルム及び多層蒸着フィルム - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus, wherein the vapor of the film forming material generated in a vapor generation section can be fed to a vapor deposition head without lowering the temperature.例文帳に追加

蒸気発生部で発生させた成膜材料の蒸気を温度低下させること無く蒸着ヘッドに送ることができる蒸着装置を提供する。 - 特許庁

MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND ITS MANUFACTURING PROCESS, MANUFACTURING PROCESS OF MgO DEPOSITION FILM例文帳に追加

ＭｇＯ蒸着材およびその製造方法、ＭｇＯ膜の製造方法 - 特許庁

The film deposition method using the vapor deposition source is also provided.例文帳に追加

本発明はまた、この蒸着源を用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a crucible for vapor deposition, which can efficiently deliver a vapor deposition material to a substrate to be treated and can make the vapor deposition material incident on the substrate to be treated as perpendicularly as possible; to provide a vapor deposition method therefor; and to provide a vapor deposition apparatus therefor.例文帳に追加

被処理基板に対して蒸着材料を効率よく到達させることができ、かつ、被処理基板に対して蒸着材料が垂直に入射する状態に近づけることのできる蒸着用坩堝、蒸着法および蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

This invention is characterized in that an elongated rectangular vapor deposition source holder 17 having a plurality of containers in which a vapor deposition material is enclosed is arranged in a vapor deposition chamber, and vapor deposition is carried out while moving the vapor deposition source holder with respect to a substrate 13 at a certain pitch.例文帳に追加

本発明は、蒸着室内において、蒸着材料が封入された容器を複数個設置した細長い矩形形状の蒸着源ホルダ１７に設け、基板１３に対してあるピッチで移動しながら蒸着を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The vapor deposition method for the thin films of forming the thin films by depositing a material 2 to be deposited by evaporation on the substrate 1 comprises arranging the substrate 1 and a plurality of vapor deposition boats V1, V2, V3, and V4 in which vapor deposition sources are put, into a vapor deposition vessel and performing vapor deposition.例文帳に追加

基板１に蒸着物２を蒸着させて薄膜を形成させる薄膜の蒸着方法であって、基板１と、蒸着源が入れられた複数の蒸着ボートＶ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４とを蒸着槽内に配置して蒸着を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus which can perform vapor deposition at an always high vapor deposition rate, and nevertheless does not give damage to a semiconductor substrate to be subjected to vapor deposition, and does not give rise to curing of a photoresist, and an electron beam irradiation method of the vacuum vapor deposition apparatus.例文帳に追加

常に高い蒸着レートにより蒸着を行うことができ、しかも蒸着を行う半導体基板に損傷を与えたり、フォトレジストの硬化を引き起こすことのない、真空蒸着装置及びこの装置の電子ビーム照射方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition tool which has a relatively simple structure and can reduce the film thickness difference caused by the mounting position of a material to be vapor-deposited, and to provide a vapor deposition apparatus or the like with the vapor deposition tool.例文帳に追加

比較的簡単な構造で、被蒸着物の装着位置による膜厚差を低減することができる蒸着治具及びこれを備えた蒸着装置等を提供すること。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus capable of preventing separation of a vapor deposition material from a cell shutter by preventing thick deposition of the vapor deposition material on the cell shutter.例文帳に追加

セルシャッタに蒸着材料が分厚く堆積することを防止することにより、セルシャッタからの蒸着材料の剥離を防止することのできる蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a vapor deposition source which can prevent the denaturation of a vapor deposition material caused by heat, and can increase the utilizing efficiency of a material, a vapor deposition apparatus provided therewith, and a thin film deposition method.例文帳に追加

熱による蒸着物質の変性を防止し、材料の利用効率を高めることができる蒸着源、それを備えた蒸着装置及び薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device capable of obtaining a thin film with uniformity by controlling the moving speed of a vapor deposition source, and controlling the film deposition speed by adjusting the distance between the vapor deposition source and a wafer.例文帳に追加

蒸着設備は蒸着源の移動速度を制御して均一性を具備した薄膜を得て、さらに蒸着源とウエハー間の距離を調整して成膜速度を制御する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition material which achieves film deposition at lower energy than before particularly in a initial stage in which the sublimation of the vapor deposition material is started when depositing a vapor-deposited film by a plasma-type vapor deposition method, and which imparts directivity to the sublimed vapor deposition material without improving an apparatus, and to provide a vapor-deposited film formed by using the vapor deposition material.例文帳に追加

プラズマ式の蒸着法により蒸着膜を成膜する際、特に蒸着材の昇華が始まる初期段階において、従来よりも低エネルギーでの成膜を実現し、かつ装置の改良を行うことなく昇華した蒸着材料に指向性を付与し得る蒸着材及び該蒸着材を用いて成膜された蒸着膜を提供する。 - 特許庁

The means 22 for measuring the temperature of the vapor deposition material measures temperature of the underside of the vapor deposition material just before pre-heating of the vapor deposition material 17, and measures temperature distribution of heating toward the vapor deposition material 17.例文帳に追加

蒸着材料温度測定手段２２は、蒸着材料１７の予備加熱直前における前記蒸着材料の下面の温度を測定し蒸着材料１７への加熱温度分布を測定する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition device and a substrate vapor deposition method in which a correcting mechanism to correct misalignment in deposition amounts of vapor deposition particles on a substrate is improved in matching property with a vapor source and in handling convenience.例文帳に追加

基板への蒸着粒子堆積量のずれを補正可能な補正機構の、蒸発源とのマッチング性や取り扱い利便性を改善させた真空蒸着装置および基板蒸着方法を提供する。 - 特許庁

VACUUM VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM例文帳に追加

真空蒸着装置及び薄膜の製造方法 - 特許庁

VAPOR-DEPOSITION GROWTH DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING EPITAXIAL WAFER例文帳に追加

気相成長装置、エピタキシャルウェーハの製造方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION FILM AND PACKAGING MATERIAL FOR HEAT TREATMENT例文帳に追加

蒸着フィルムおよび加熱処理用包装材料 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus which, even for vapor deposition materials having different evaporation quantities and evaporation temperatures, exhibits satisfactory control performance of the heating temperature of the vapor deposition materials, and consequently can highly accurately control the vapor quantity of the vapor deposition materials.例文帳に追加

蒸発量、蒸発温度が異なる蒸着材料であっても、蒸着材料の加熱温度の制御性が良く、蒸着材料の蒸気量を高精度に制御できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

VIEWPORT OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体製造用化学蒸着装置のビューポート - 特許庁

VAPOR-DEPOSITION MATERIAL FOR PRODUCTION OF LAYER OF HIGH REFRACTIVE INDEX例文帳に追加

高屈折率層の製造用の蒸着材料 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND GAS FLOW PASSAGE DEVICE例文帳に追加

化学的気相成長装置及びガス流路装置 - 特許庁

To provide a vapor deposition device in which vapor deposition of high precision can be carried out by reducing the influence of radiant heat from a crucible of evaporation source on the vapor deposition mask and by suppressing the swelling of the vapor deposition mask.例文帳に追加

蒸発源の坩堝から蒸着マスクへの輻射熱の影響を軽減し、蒸着マスクの膨張を抑制することで精度の高い蒸着を行うことのできる蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

VAPOR-DEPOSITION APPARATUS PROVIDED WITH GUIDE ROLLER FOR LONG TAPE例文帳に追加

ガイドローラーを備えた長尺テープ用蒸着装置 - 特許庁

PRODUCTION OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION MULTILAYER SILICON CARBIDE FILM例文帳に追加

化学蒸着法多層ＳｉＣ膜の製造方法 - 特許庁

TARGET FOR LASER VAPOR DEPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

レーザ蒸着用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING OHMIC LAYER BY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

プラズマ化学蒸着によるオーミック層形成方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION DEVICE AND METHOD OF ORGANIC THIN FILM例文帳に追加

有機薄膜の蒸着装置および蒸着方法 - 特許庁

TRANSPARENT OPP VAPOR DEPOSITION FILM AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

ＯＰＰ透明蒸着フィルム及びその製造方法 - 特許庁

A crucible 1 for vapor deposition comprises a storage unit 4 for storing and heating a vapor deposition material, and an opening part 6 for emitting the vaporized vapor deposition material to an object for vapor deposition.例文帳に追加

また、るつぼが多層構造を有する場合、上記課題に加えてるつぼ内壁からるつぼ内層への溶湯の侵食を防ぐことのできる蒸着用るつぼとその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

PRODUCTION OF THIN FILM USING ATOM-LAYER VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

原子層蒸着法を用いた薄膜製造方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION METHOD FOR NITROGEN DOPED SILICON CARBIDE FILM例文帳に追加

窒素がドープされたシリコンカーバイド膜の蒸着方法 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF GALLIUM INDIUM NITRIDE CRYSTAL LAYER例文帳に追加

窒化ガリウム・インジウム結晶層の気相成長方法 - 特許庁

PLASMA CHEMICLAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS HAVING ROD- LIKE ELECTRODES例文帳に追加

棒状電極を有するプラズマ化学蒸着装置 - 特許庁

APPARATUS FOR GENERATING VACUUM ARC DISCHARGE, AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

真空アーク放電発生装置及び蒸着装置 - 特許庁

CERAMIC SINTERED COMPACT AND METAL VAPOR DEPOSITION HEATING ELEMENT例文帳に追加

セラミックス焼結体及び金属蒸着発熱体 - 特許庁

MAGNESIUM OXIDE VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

酸化マグネシウム蒸着材及びその製造方法 - 特許庁

PROCESS AND APPARATUS FOR VAPOR-DEPOSITING TITANIUM NITRIDE ON SUBSTRATE WITH CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

化学蒸着法により窒化チタンを基板に蒸着させる方法及び装置 - 特許庁

Further, a plurality of substrates conveyed in an upper-surface conveying state are alternately vapor-deposited with the same vapor-deposition source in one vacuum vapor-deposition chamber.例文帳に追加

また、上面搬送されてきた複数の基板を一つの真空蒸着チャンバ内で同一の蒸着源で交互に蒸着する。 - 特許庁

Further, a plurality of the substrates conveyed at top-face conveyance are alternately vapor-deposited with the same vapor-deposition source in one vacuum vapor-deposition chamber.例文帳に追加

また、上面搬送されてきた複数の基板を一つの真空蒸着チャンバ内で同一の蒸着源で交互に蒸着する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF VAPOUR DEPOSITION FILM AND PACKAGING MATERIAL USING VAPOR DEPOSITION FILM例文帳に追加

蒸着フィルムの製造方法および蒸着フィルムを用いた包装材料 - 特許庁