「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(104ページ目) - Weblio英語例文検索

To solve such problems that when silicon is used as a negative active material for a lithium secondary battery, an electrode having an active material layer 1 comprising spaces and columnar particles 6 can be formed on a current collector 5 having recessed and projecting parts on the surface by vapor deposition from the diagonal direction, but since spaces in the surface part are reduced, diffusion of lithium ions through an electrolyte is made insufficient.例文帳に追加

リチウム二次電池用負極活物質としてケイ素を用いる際に、表面に凹凸を有する集電体上５に斜め方向からの蒸着により空間と柱状粒子６から成る活物質層１を有する電極を形成することができるが、表面部分での空間が小さくなるため、電解液を介してのリチウムイオンの拡散が不十分となる。 - 特許庁

To effectively eliminates an unwanted waves generated due to chipping formed at a cut part of a piezoelectric raw plate peripheral edge in cutting division into pieces, using a dicing saw right after an electrode forming process by vapor-deposition when a piezoelectric vibrating element, formed by forming exciting electrodes on the main surfaces of a piezoelectric raw plate is mass-produced by batch processing from a large-area piezoelectric base material.例文帳に追加

圧電素板の主面上に励振電極を形成して成る圧電振動素子を大面積の圧電母材からバッチ処理により量産する場合に、蒸着による電極形成工程に続いて行われるダイシングソーを用いた個片への切断分割において、圧電素板周縁の切断部に形成されるチッピングに起因して発生する不要波を有効に解消することができる。 - 特許庁

This invention relates to a method for producing a titanium-containing perovskite-type compound, which contains a process to react titanium oxide prepared by a vapor phase deposition with at least one kind selected from the group consisting of alkaline-earth metal compounds and Pb compounds in an alkaline solution, the perovskite-type compound obtained by the method, and electronic materials, and the like, using the compound.例文帳に追加

アルカリ性溶液中で、気相法で製造された酸化チタンをアルカリ土類金属化合物及びＰｂ化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種と反応させる工程を有することを特徴とするチタン含有ペロブスカイト型化合物の製造方法、その方法により得られるペロブスカイト型化合物及びその化合物を用いた電子材料等に関する。 - 特許庁

This method for manufacturing the thin film transistor includes the steps of: forming the silicon layer 4 on a substrate 2; forming a silicon oxide film 5a on the silicon layer 4 by a chemical vapor deposition method using a tetraethoxysilane as a raw material gas; forming a silicon nitride film 5b at an upper layer of the silicon oxide film 5a; and executing an annealing treatment.例文帳に追加

本実施形態に係る薄膜トランジスタの製造方法は、基板２上にシリコン層４を形成する工程と、シリコン層４上にテトラエトキシシランを原料ガスとして用いた化学気相堆積法により酸化シリコン膜５ａを形成する工程と、酸化シリコン膜５ａの上層に窒化シリコン膜５ｂを形成する工程と、アニール処理を行なう工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a polyimide film usable for copper laminated boards, which boards are obtained by monolithically connecting and laminating with high adhesion a heat resistant polyimide layer and a metallic layer of a metallic thin film formed by the vapor deposition method, have high peel strength between a polyimide substrate and the metallic layer without using any adhesive, and are usable as a fine wiring board.例文帳に追加

耐熱性を有するポリイミド層と蒸着法により金属薄膜を形成した金属層とが、高い接着力で一体に接合されて積層され、接着剤を使用することなくポリイミドからなる支持体と金属層との剥離強度の大きい、微細配線用基板として使用可能である銅積層基板に用いることができるポリイミドフィルムを提供する。 - 特許庁

The vacuum arc vapor deposition apparatus is constituted so that a porous member 10 is arranged on the inner wall of a plasma duct 5 provided with a deflection magnetic field forming means having a magnetic coil 8 at its outside, with which the plasma containing a cathode substance generated from a cathode 7 attached to a evaporation source 6 can be guided to the neighborhood of the substrate 11 housed in a film forming chamber 1.例文帳に追加

この真空アーク蒸着装置は真空アーク放電によって、蒸発源６に取り付けられた陰極７から生成する陰極物質を含むプラズマを粗大粒子を除去して、成膜室１に収納された基体１１近傍に導くように、その外部に磁気コイル８を有する偏向磁場形成手段が設けられたプラズマダクト５の内壁に多孔部材１０を配設している。 - 特許庁

The method of forming a diffusion barrier used for manufacturing the semiconductor device includes a step for depositing an iridium-doped tantalum-based barrier layer on a pattern-formed intermediate dielectric (ILD) layer by a physical vapor deposition (PVD) process, and the barrier layer is deposited to form the barrier layer into amorphous structure as a result, at least 60% of an iridium concentration in terms of atomic weight.例文帳に追加

半導体デバイス製造に用いる拡散バリアを形成する方法は、物理蒸着（ＰＶＤ）工程によって、パターン形成された中間誘電体（ＩＬＤ）層の上に、イリジウム・ドープされたタンタル・ベースのバリア層を堆積するステップを含み、該バリア層は、原子量で少なくとも６０％のイリジウム濃度で、バリア層が結果としてアモルファス構造を有するように堆積される。 - 特許庁

The ion-assisted vapor deposition apparatus 1 includes: a vacuum vessel 2 having an exhaust port 29; an exhaust system 4 for vacuumizing the inside of the vacuum vessel 2 through the exhaust port 29; a pressure regulating means 20 for regulating the pressure in the vacuum vessel 2; an actuator 204 for moving the pressure regulating means 20; and a controller 206 for controlling timing to move the actuator 204.例文帳に追加

イオンアシスト蒸着装置１は、排気口２９を持つ真空容器２と、排気口２９を介して真空容器２内を真空引きする排気系４と、真空容器２内の圧力を調整する圧力調整手段２０と、圧力調整手段２０を移動させるアクチュエータ２０４と、アクチュエータ２０４を移動させるタイミングを制御するコントローラ２０６とを有する。 - 特許庁

A mixture gas, containing a chlorinated silane gas such as hydrogen and dichloro-silane and having an H/Cl ratio of 1 to 50 as a ratio of the number of hydrogen atoms to the number of chlorine atoms is used as a material gas, polycrystalline silicon is deposited on a substrate, such as a glass substrate through a plasma chemical vapor deposition method to form a polycrystalline silicon film which does not substantially contain amorphous silicon phase.例文帳に追加

水素、及びジクロルシラン等の塩素化シランガスを含む混合ガスであって、且つ該混合ガス中の塩素原子数に対する水素原子数の比（Ｈ／Ｃｌ）が１〜５０である混合ガスを原料ガスとして用いて、プラズマ化学蒸着法によりガラス基板等の基層上に多結晶シリコンを析出させ、実質的に非晶質シリコン相を含まない多結晶シリコン膜を形成する。 - 特許庁

The AIP system for evaporating a material 4 for vapor deposition by an arc discharge in a vacuum chamber 1 and for coating a material 2 to be coated with a thin film is provided with the turbo molecular pump 8 connected as an evacuation pump to the vacuum chamber 1 and is provided with a controller for changing the rotating speed of the pump 8 according to the progression of the step of the thin film coating 2.例文帳に追加

真空チャンバ１内でアーク放電により蒸着材料４を蒸発させ被コーティング物２に薄膜をコーティングするアークイオンプレーティング装置において、真空チャンバ１に真空排気ポンプとしてターボ分子ポンプ８を接続して備えるとともに、薄膜コーティング２の工程進展に応じて前記ターボ分子ポンプ８の回転速度を変化させる制御装置を備えてなる。 - 特許庁

To provide a contact structure by which impact energy at the time of contact closing is reduced and a contact surface shape is hardly denatured by solving the problem that the contact surfaces are fastened each other to reduce opening and closing responsiveness of the contact because the contact surface becomes a mirror state when a contact is formed by means such as vapor deposition, and provide a micro relay using the contact structure.例文帳に追加

蒸着等の手段によって接点を形成すると、接点表面は鏡面状態となり、接点表面同士が固着しやすく、接点の開閉応答性が低下するという問題点を鑑みて、接点閉成時における衝撃エネルギーを緩和し、接点表面形状を変性させにくくする接点構造及びそれを用いたマイクロリレーを提供する。 - 特許庁

A surface layer 4, at least high in seed defect density, is removed in a first conductive silicon carbide epitaxial film 2 grown from the front surface of the first conductive silicon carbide single crystal substrate 1 by chemical vapor deposition method, and thereafter, a second conductive silicon carbide epitaxial film 3 is made to grow from the front surface of the silicon carbide epitaxial film 2, whose surface layer 4 is removed.例文帳に追加

化学気相蒸着法によって第１導電型の炭化珪素単結晶基板１の表面から成長させた第１導電型の炭化珪素エピタキシャル膜２における少なくとも種欠陥密度が高い表層４を除去した後、表層４を除去した炭化珪素エピタキシャル膜２の表面から第２導電型の炭化珪素エピタキシャル膜３を成長させる。 - 特許庁

The method comprises forming a metal oxide thin film on the surface of a plastic film by the vacuum vapor deposition, ion plating, sputtering or CVD method, applying, onto the oxide film, an active-energy-hardenable composition containing a silane coupling agent containing an acryloyl and/or a methacryloyl group, and irradiating active energy rays to form a hardened coating.例文帳に追加

プラスチックフィルム表面に、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法及びＣＶＤ法から選ばれるいずれかの方法により金属酸化物薄膜を形成し、該金属酸化物薄膜上に、アクリロイル基及び／又はメタクリロイル基を有するシランカップリング剤を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化被膜を形成するガスバリア性フィルムの製造方法。 - 特許庁

The hydrogen separation membrane is made by heat treatment for alloying after a process of making the porous ceramic support carry Pb by a low temperature metallorganic chemical vapor deposition method with a pressure difference between two ends of the support and a process for making the support carry a metal to be alloyed with Pb by using a solution having a metal source capable of forming an alloy with Pb.例文帳に追加

セラミックス多孔質支持体上に、支持体の両側に圧力差を設けた低温金属有機物化学的気相成長法によりＰｄを担持させる工程およびＰｄと合金を形成し得る金属源を含有する溶液を用いてＰｄと合金化し得る金属を担持させる工程を任意の順序で適用した後、合金化のための熱処理を行って水素分離膜を製造する。 - 特許庁

The plastic optical fiber has a metal or metal oxide layer comprising at least one selected from the group comprising gold, silver, copper, aluminum, aluminum oxide, silicon oxide and magnesium oxide, obtained by physical or chemical vapor deposition and having 10-200 nm thickness as one of coating layers disposed on the outside of a plastic fiber consisting of a core part comprising a cyclic polyolefin resin and a sheath part.例文帳に追加

環状ポリオレフィン系樹脂からなる芯部と、鞘部からなるプラスチックファイバの外側に設けられる被覆層の一つとして、好ましくは金、銀、銅、アルミニウム、酸化アルミニウム、ケイ素酸化物、および酸化マグネシウムの群から選ばれた少なくとも１種からなり、物理蒸着法または化学蒸着法により得られ、厚みが１０〜２００ｎｍである金属または金属酸化物層を設けているプラスチック光ファイバ。 - 特許庁

A manufacturing method includes a Cu coating forming step of forming CU coating on the surface of a transparent resin film (1) by vapor deposition or sputtering; a coloring step of coloring the surface in black or brown, by performing treatment using a solution of ammonium sulfide after the Cu coating forming step; and a wiring forming step of forming wiring (2), according to screen printing or photoresist after the coloring step.例文帳に追加

蒸着法またはスパッタリング法により透明樹脂フィルム（１）の表面にＣｕ被膜を形成するＣｕ被膜形成工程と、該Ｃｕ被膜形成工程の後、硫化アンモニウムの水溶液で処理をすることにより、表面を黒色または褐色に着色させる着色工程と、該着色工程の後、スクリーン印刷法またはフォトレジスト法により配線（２）を形成する配線形成工程とを有する。 - 特許庁

The vapor deposition frame is composed of a spacer sheet for accommodating and holding several piezoelectric blanks, and a first and a second masking sheets provided with mask holes corresponding to shapes of the electrodes to be formed on piezoelectric blank units, which are accommodated in the spacer sheet, wherein at least one of the mask sheet has such a shape as is divided into several pieces within a sheet plane.例文帳に追加

目的を実現するために本発明は、圧電素板を複数個収納し保持するスペーサ板と、該スペーサ板に収納した該圧電素板単位に形成すべき電極形状に対応するマスク孔を配置した第１と第２のマスク板とで構成された蒸着枠を、該スペーサ板の少なくとも一方に該マスク板が板面平面で複数個に分割された形態にすることにより課題を解決する。 - 特許庁

In the method for producing the microbody, a microstructure composed of an organic material is arranged as a template, on a substrate, the aimed elements are deposited on the surface of the organic structure by a vacuum vapor deposition method or the like, and then the organic structure as the template is decomposed and removed by a UV-ozone treatment method or the like to obtain a microbody composed of only the aimed element components.例文帳に追加

本発明は、有機物にて構成された微小な構造体を鋳型として、基板上に配置し、真空蒸着法などにより、有機物構造体の表面に目的の元素を堆積させ、その後、紫外線-オゾン処理法などにより、鋳型である有機物構造体を分解除去することにより、目的の元素成分のみで構成された微小体を得ることを含む微小体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing a photoelectric conversion element 10 including laminated layers of a back electrode 12, a photoelectric conversion layer 13, an interface layer 14 and a translucent conductive layer 16, a first zinc oxide film 15 is deposited on the interface layer 14 using an organic metal chemical vapor deposition method, and a second zinc oxide film is deposited on the first zinc oxide film 15 using a sputtering method as the translucent conductive layer 16.例文帳に追加

裏面電極１２と光電変換層１３と界面層１４と透光性導電層１６とが積層されてなる光電変換素子１０の製造方法であって、界面層１４上に、有機金属化学気相蒸着法を用いて第１の酸化亜鉛膜１５を成膜し、第１の酸化亜鉛膜１５上に、スパッタ法を用いて第２の酸化亜鉛膜を透光性導電層１６として成膜する。 - 特許庁

To provide a metal material for electrode formation, which can form an electrode provided in an organic function element without adopting vapor deposition, can easily achieve an increase in size, can reduce production cost, and does not cause any disconnection of the electrode upon exposure to flexure and, thus, is highly reliable, and, at the same time, has a high level of electron injection function, and an organic function element using the metal material.例文帳に追加

有機機能素子の電極において、蒸着を用いること無く電極を形成でき、大型化が容易で製造コストが低減でき、また、撓みに対して電極断線することの無い高い信頼性を有する電極形成用の金属材料であるとともに、高い電子注入機能を有する電極形成用の金属材料、及びその金属材料を用いた有機機能素子を提供する。 - 特許庁

For an organic dye sensitive metal oxide semiconductor electrode containing organic dyestuff absorbed on a surface of a metal oxide semiconductor film 3 which is formed on a transparent electrode 2 on a substrate 1, the metal oxide semiconductor is formed by a vapor deposition method, and a solar cell has the above electrode.例文帳に追加

表面に透明電極２を有する基板１、その透明電極上に形成された金属酸化物半導体膜３、及びその半導体膜表面に吸着した有機色素を含む有機色素増感型金属酸化物半導体電極において、前記金属酸化物半導体が、気相成膜法により形成されていることを特徴とする有機色素増感型金属酸化物半導体電極及びこれを有する太陽電池。 - 特許庁

The susceptor for chemical vapor deposition comprises a ring- like carbon base, which has natural resistances of peripheral regions within 15% of the diameter from the outer peripheral edge and within 15% of the diameter from the inner peripheral edge and natural resistances of other inner regions than the peripheral regions and the latter natural resistances are greater by 100 μΩcm than the former natural resistances.例文帳に追加

サセプタを形成するリング形状のカーボン基材は、外周縁から直径の１５％以内の領域および内周縁から直径の１５％以内の領域における周辺領域の固有抵抗値と、それ以外の領域における内部領域の固有抵抗値とは異なり、かつ、内部領域の固有抵抗値が周辺領域の固有抵抗値よりも１００μΩｃｍ以上大きい化学気相成長用サセプタ。 - 特許庁

In a device for performing a chemical vapor deposition on a substrate 18 placed in a processing chamber by supplying a processing gas to the substrate 18 from a shower head electrode 20 and by generating a plasma trenches 74 having a large aspect ratio are made on the insulating surface 72 of the outside surface of an insulating member 70 supporting the shower head electrode 20.例文帳に追加

処理室１０内に配置された基体１８に対し、絶縁状態で配置されたシャワーヘッド電極２０から処理ガスを分散供給して発生したプラズマによる化学蒸着処理によって基体１８を蒸着する装置において、本発明はシャワーヘッド電極２０を支持する絶縁部材７０の外面である絶縁面７２に高いアスペクト比を有する溝のような造作７４を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

In this laminated substrate 100 formed by laminating and arranging successively a crystalline GaN layer 10 and a crystalline AlC layer 20 on a sapphire substrate, a silicon carbide substrate or an aluminum nitride substrate as a substrate 1, trimethyl aluminum as aluminum-containing gas and methane as catbon-containing gas are supplied as a growing condition of an aluminum carbide crystal, to thereby promote growth by a metal organic chemical vapor deposition method.例文帳に追加

基板１としてサファイア基板、炭化ケイ素基板または窒化アルミニウム基板の上に結晶性のＧａＮ層１０、結晶性のＡｌＣ層２０を順次積層して配置した積層基板１００であって、炭化アルミニウムの結晶の成長条件としては、アルミニウムを含むガスとしてトリメチルアルミニウムと、炭素を含むガスとしてメタンを供給し、有機金属気相成長法により成長させる。 - 特許庁

The hydrogen separation membrane is formed by a chemical vapor deposition method using a mixed gas of oxygen and an inert gas and an evaporated silica source, which is at least one kind silane selected from a group consisting of silane having at least one methoxy group and at least one bulky group and tetraaryloxysilane, in a manner that fine pores of a porous substrate are partially clogged or narrowed with silica membrane.例文帳に追加

水素分離膜は、シリカ源は少なくとも１つ以上のメトキシ基と少なくとも１つ以上の嵩高い基を有するシラン類、テトラアリールオキシシラン類からなる群から選択される少なくとも１種を用い、酸素と不活性ガスとからなる混合ガスと気化させたシリカ源とを化学蒸着法によって多孔質基材の細孔を一部閉塞するように又は狭めるようにシリカを製膜させてなる。 - 特許庁

This propylene polymer laminated film for vapor deposition is obtained from a propylene/α-olefin copolymer (A) characterized in that a peak temperature (Tp) calculated from a crystal fusion curve based on DSC is 110-140°C and the difference (Te-Ts) between a fusion start temperature (Ts) and a fusion completion temperature (Te) is below 45°C.例文帳に追加

ＤＳＣに基づく結晶融解曲線から求められたピーク温度（Ｔｐ）が１１０〜１４０℃及び融解開始温度（Ｔｓ）と融解終了温度（Ｔｅ）との差（Ｔｅ−Ｔｓ）が４５℃未満のプロピレン・α—オレフィン共重合体（Ａ）から得られる蒸着用プロピレン系重合体積層フィルム及びその蒸着層面に無機化合物が蒸着されてなるプロピレン系重合体蒸着積層フィルムに関する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a radiation image conversion plate whose stimulable phosphor layer is thinned, which is highly sensitive and is excellent in granularity, where less radiation and excitation light diffuse in the thickness of a stimulable phosphor layer, which is excellent in sharpness by a vapor phase deposition method and to provide the radiation image conversion plate manufactured by the manufacturing method mentioned above.例文帳に追加

輝尽性蛍光体層の厚さを薄くし、高感度で、粒状性にすぐれ、輝尽性蛍光体層厚内での放射線や励起光の拡散が減少し鮮鋭性の優れた放射線画像変換プレートを気相堆積方法により作製する放射線画像変換プレートの製造方法及び放射線画像変換プレートの製造方法により製造する放射線画像変換プレートの提供。 - 特許庁

The basic molding 1 formed to emit metal color from a metal color layer 15 formed by vapor deposition of indium is installed in a predetermined mold, and a surface coating layer 5 formed of a thermoplastic synthetic resin material comprising PC, PMMA, or the like transparent and lower in fusing point than the basic molding 11 is provided on the surface side of the metal color layer 15 assuming the metal color.例文帳に追加

インジウムの蒸着にて形成される金属色層１５から金属色の発せられるようになった基礎成形体１を所定の型内に設置するとともに、その金属色を呈する金属色層１５の面側に、透明性を有するものであって基礎成形体１１よりも低融点のＰＣまたはＰＭＭＡ等からなる熱可塑性合成樹脂材にて形成される表面被覆層５を設ける。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process for forming a thin film of platinum that contains oxygen and nitrogen, oxygen and boron, or oxygen, nitrogen, and boron by a reactive vacuum vapor deposition method; and a process for forming a catalyst of web structure whose main component element is platinum in a reducing process, with the thin film of the platinum containing oxygen and nitrogen, oxygen and boron, or oxygen, nitrogen, and boron.例文帳に追加

反応性真空蒸着法によって白金に酸素と窒素、あるいは酸素と硼素、あるいは酸素と窒素と硼素を含有する薄膜を形成する工程、前記白金に酸素と窒素、あるいは酸素と硼素、あるいは酸素と窒素と硼素を含有する薄膜を還元処理して、白金を主構成元素とするくもの巣状構造の触媒を形成する工程を有する電極触媒層の製造方法。 - 特許庁

It is not necessary to vary operating conditions of a vacuum vapor deposition device for forming a conductive reflection film 13 and of an applying/baking device for forming a heat absorbing film 14, having little variations in the thickness and quality can be formed on a conductive reflection film 13, and reflection and radiation of heat from a conductive reflection film 13 to a color selecting electrode can be effectively suppressed.例文帳に追加

このため、導電反射膜１３を形成するための真空蒸着装置と熱吸収膜１４を形成するための塗布及び焼成装置との動作条件を変動させる必要がなく、厚さ及び品質のばらつきが少ない熱吸収膜１４を導電反射膜１３上に形成することができて、導電反射膜１３から色選別電極への熱の反射及び放射が有効に抑制される。 - 特許庁

By using a cooler section whose growth surface is coated with a material having a melting point higher than that of a metal or a semiconductor material by a chemical vapor deposition, the metal or the semiconductor material melted in a crusible is solidified and grown on the growth surface of the cooler section to manufacture the metallic sheet or the semiconductor sheet.例文帳に追加

るつぼ内で溶融させた金属又は半導体原料を、該原料よりも高い融点を有する材料で化学気相成長法により成長表面をコーティングした冷却体部を用いて、該冷却体部の成長表面で固化成長させることにより金属シート又は半導体シートを製造することを特徴とする金属シート及び半導体シートの製造方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

The manufacturing method of the electrode catalyst layer of the solid polymer fuel cell comprising the catalyst of mesh structure includes a process for forming a thin film consisting of a composite oxide of platinum and cerium by a reactive vacuum vapor deposition method, and a process to obtain a catalyst of mesh structure which consists of a mixture of platinum and cerium oxide by subjecting the thin film to a reducing process.例文帳に追加

網目模様の構造の触媒を有する固体高分子型燃料電池の電極触媒層の製造方法であって、反応性真空蒸着法によって白金とセリウムの複合酸化物からなる薄膜を形成する工程、該薄膜を還元処理して白金と酸化セリウムの混合物からなる網目模様の構造の触媒を得る工程を有する電極触媒層の製造方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing the radiation image conversion panel including a stimulable phosphor layer containing stimulable phosphors on a support, the method is characterized in that a protective layer containing coloring matter and polyurea absorbing excitation laser beam is formed through evaporation on the stimulable phosphor layer after forming it by a gas phase method (or a vapor phase deposition).例文帳に追加

支持体上に、輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルの製造方法において、該輝尽性蛍光体層を気相法（気相堆積法ともいう）により形成した後、輝尽性蛍光体層上に、励起レーザー光を吸収する色素とポリ尿素を含有する保護層を蒸着により形成することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

The thin film formation device 1 for forming a plurality of thin films in a substrate 10 in the same chamber 2 by an antenna type plasma CVD method (chemical vapor deposition) has a residue removal means for removing residue which affects property of a second thin film formed next to a first thin film of a plurality of thin films and is caused in a first thin film formation process.例文帳に追加

アンテナ式プラズマＣＶＤ法（化学的気相成長法）により基板１０に複数の薄膜を同一チャンバ２内で形成する薄膜形成装置１であって、複数の薄膜のうち第１薄膜の次に形成する第２薄膜の特性に影響を与え、かつ、第１薄膜形成過程に起因した残留物質をチャンバ２内から除去する残留物質除去手段を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing carbon nanofibers 20 as the electrically conductive fiber material in a fibrous or tubular form includes film-forming an electrically conductive catalyst layer 12 having direct electrical conductivity on the surface of a substrate 11 made of silicon, heating the electrically conductive catalyst layer 12 and introducing a mixed gas around the layer 12 under a reduced-pressure atmosphere to generate a plasma so as to conduct a CVD (chemical vapor deposition).例文帳に追加

繊維状または管状を成す導電性繊維物質としてのカーボンナノファイバ２０の製造方法であって、シリコンからなる基板１１の表面に直接導電性を有する導電触媒層１２を成膜し、導電触媒層１２を加熱し、減圧雰囲気下において、導電触媒層１２の周囲に混合ガスを導入し、プラズマを発生させてＣＶＤを行うことを特徴とする。 - 特許庁

The transparent gas barrier film 11 has a substrate film 111 of a polyamide resin, an easy adhering layer 112 surface treated by reactive ion-etching and an inorganic oxide layer 113 formed by a vapor phase deposition method thereon, wherein the easy adhering layer 112 is formed on one primary surface of the substrate film 111 and contains nitrogen atoms, an adipic acid and bisphenol glycidyl ether.例文帳に追加

本発明の透明ガスバリア性フィルム１１は、ポリアミド樹脂からなる基材フィルム１１１と、前記基材フィルム１１１の一方の主面上に形成され、窒素原子とアジピン酸とビスフェノールグリシジルエーテルとを含み、リアクティブイオンエッチングによる表面処理が施された易接着層１１２と、前記易接着層１１２上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層１１３とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The method comprises: providing a substrate; introducing a (methyl cyclopentadienyl)(1,5-cyclooctadiene) iridium (1) precursor; introducing oxygen as a precursor reaction gas; establishing final pressure in the range of 1 Torr to 50 Torr; and growing the IrOx hollow nanotube from the surface of the substrate with the use of metalorganic chemical vapor deposition method (MOCVD).例文帳に追加

本発明の方法は、基板を提供すること、（メチルシクロペンタジエニル）（１，５−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）前駆物質を導入すること、前駆物質反応ガスとして酸素を導入すること、１から５０Ｔｏｒｒの範囲内の最終圧力を確立すること、有機金属化学気相成長（ＭＯＣＶＤ）処理を使用することにより、基板の表面からＩｒＯｘ中空ナノチューブを成長させることとを包含する。 - 特許庁

The device for vapor deposition of films for the organic EL elements vaporizes an organic material 5 for the organic EL elements in the container 2 and deposits the material in thin film on the surface of a film-forming substrate 6 and comprises the container 2 constructed of a material capable of generating heat by electromagnetic induction and a means for heating the container for vaporizing the organic material 5 by electromagnetic induction.例文帳に追加

本発明の装置は、容器２中の有機ＥＬ素子用の有機材料５を気化し、成膜用基板６上で堆積させて薄膜を形成する有機ＥＬ薄膜蒸着において、電磁誘導により発熱する材料で構成された前記容器２と、該有機材料５を気化させるため前記容器を電磁誘導加熱する手段とを備えた有機ＥＬ素子蒸着用装置である。 - 特許庁

In manufacturing the group III-V compound semiconductor light emitting device on a side wall of the ridge, having a ridge and a current block layer formed sandwiching the ridge, and including a layer having a larger Al ratio than that of the layer forming a bottom face of both sides of the ridge, the current block layer is made to grow under a condition of 650°C or below by a vapor deposition method.例文帳に追加

リッジと、リッジを挟んで形成された電流ブロック層とを有し、かつリッジの側壁に、Ａｌ混晶比が前記リッジの両側の底面を形成する層のＡｌ混晶比よりも大きい層を含むIII−Ｖ族化合物半導体発光素子を製造するにあたり、電流ブロック層を６５０℃以下の条件でかつ気相成長法により成長させるIII−Ｖ族化合物半導体の製造方法。 - 特許庁

The forgery prevention sheet is composed of ferromagnetic micro flake which is obtained by miniaturization of a ferromagnetic thin film obtained by a vapor phase growth such as vacuum deposition method, etc., dispersed in a substrate, set to form a specific pattern and having an inherent magnetic characteristics, wherein the substrate is made of a paper or a resin and the prescribed ferromagnetic thin film is set to have a smooth surface.例文帳に追加

この課題を解決するため、本発明による偽造防止シートは、蒸着膜などの気相成長した強磁性体薄膜を微細片化した強磁性体微細片が基材内に分散されて、特定のパターンに形成され、固有の磁気特性を保持せしめており、前記基材が紙であるか、または、前記基材が樹脂であり、前記強磁性体薄膜は、その表面が平滑に形成されている。 - 特許庁

In the method of manufacturing a photoelectric conversion device 100 where a first transparent electrode layer 2, a photoelectric conversion layer 3, a second transparent electrode layer 5, and a back electrode layer 4 consisting of a metal film are laminated sequentially on a substrate 1, the second transparent electrode layer 5 is formed by sputtering in a film deposition chamber where the partial water vapor pressure is controlled below 0.6%.例文帳に追加

基板１上に、第１透明電極層２と、光電変換層３と、第２透明電極層５と、金属膜からなる裏面電極層４と、が順に積層される光電変換装置１００の製造方法であって、水蒸気分圧を０．６％以下に制御した製膜室内で、スパッタリング法により第２透明電極層５を形成する光電変換装置１００の製造方法である。 - 特許庁

The optical member is composed of a polycrystal silicon solidified body obtained by melting polycrystal silicon as grown synthesized by a chemical vapor deposition process using monosilane or trichlorosilane as raw materials in an oxygen-free inert gas atmosphere using a vessel made of a non-metallic oxide or a vessel whose inner wall face is covered with a non-metallic oxide substance, thereafter cooling the same and performing solidification, and mainly used for infrared rays.例文帳に追加

モノシランやトリクロロシランを原料として化学蒸着法で合成されたアズグロウンの多結晶シリコンを、酸素を含まない不活性ガス雰囲気下で、且つ、非金属酸化物製の容器或いはその内壁面を非金属酸化物系物質で覆った容器を用いて溶融させた後冷却して凝固させた多結晶シリコン凝固体からなることを特徴とする、主として赤外線用に使用される光学部材。 - 特許庁

The depositing method of an inert coating on a substance surface includes a first process to expose the surface to plasma discharge for an enough time to activate the surface in the presence of an inert gas, and a second process to bring the activated surface into contact with a gaseous org. silicon material without plasma and to carry out vapor deposition of the org. silicon material on the activated surface.例文帳に追加

物質表面に不活性コーティングを付着させる方法において、不活性ガスの存在下で表面を活性化するのに十分な時間前記表面をプラズマ放電に曝す第１工程、およびプラズマがない状態で、活性化された表面と、ガス状有機珪素物質とを接触させ、この活性化された表面に有機珪素物質を蒸着させる第２の工程を含む前記方法。 - 特許庁

In the sheet for molding having the metallic gloss, an anchor coat layer and a vapor deposition layer comprising a metal or a metal oxide are laminated on at least one side of a plastic film to be a substrate, and the anchor coat layer has a first anchor coat layer for giving adhesion to the substrate and a second anchor coat layer for giving solvent barrier properties.例文帳に追加

基材となるプラスチックフィルムの片面若しくは両面に、アンカーコート層と、金属又は金属酸化物よりなる蒸着層と、を積層してなる金属光沢を備えた成型用シートであって、前記アンカーコート層が、前記基材との密着力を付与するための第１アンカーコート層と、溶剤バリア性を付与するための第２アンカーコート層と、よりなる構成を備えた金属光沢を備えた成型用シートとした。 - 特許庁

This presents a rear surface protection sheet used for a solar cell, in which the rear surface protection sheet laminates at least a thermoplastic resinous binder made from acrylic polyol resin and/or a radiation hardening resinous layer made from acrylic oligomer onto a gas barrier vapor deposition film made from inorganic oxide.例文帳に追加

太陽電池に使用する裏面保護シートであって、前記裏面保護シートが、無機酸化物からなるガスバリア性蒸着フィルムに、少なくとも、アクリルポリオール系樹脂からなる熱可塑性樹脂バインダーおよび／またはアクリル系オリゴマーからなる放射線硬化樹脂層を積層してなることを特徴とする太陽電池用裏面保護シートおよびその裏面保護シートを用いた太陽電池モジュール、その太陽電池用裏面保護シートの製造方法である。 - 特許庁