「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

METAL CATALYST FOR CARBON NANOTUBE BY LOW TEMPERATURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

カーボンナノチューブの低温熱化学蒸着用金属触媒 - 特許庁

The acrylic protective layer is formed by acryl flash vapor deposition.例文帳に追加

アクリル保護層が、アクリルフラッシュ蒸着で形成されたこと。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION OF BENZOTRIAZOLE (BTA) FOR PROTECTING COPPER WIRING例文帳に追加

銅配線を保護するためのベンゾトリアゾール（ＢＴＡ）の蒸着 - 特許庁

MICROWAVE PLASMA GENERATING DEVICE AND PLASMA ASSIST VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

マイクロ波プラズマ発生装置及びプラズマアシスト蒸着装置 - 特許庁

VACUUM VAPOR DEPOSITION DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

真空蒸着装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

POLYIMIDE FILM FOR FORMING METALLIC THIN FILM BY VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

蒸着法による金属薄膜形成用のポリイミドフィルム - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF TUNGSTEN ONTO SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板上へのタングステンの化学気相デポジション方法 - 特許庁

ORGANIC METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF LEAD TITANATE ZIRCONATE FILM例文帳に追加

ジルコン酸チタン酸鉛膜の有機メタル化学気相堆積 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING METAL VAPOR DEPOSITION FILM WITH OXIDATION PREVENTING LAYER AND METAL VAPOR DEPOSITION FILM WITH OXIDATION PREVENTING LAYER例文帳に追加

酸化防止層を備えた金属蒸着フィルムの製造方法及び酸化防止層を備えた金属蒸着フィルム - 特許庁

VAPOR DEPOSITION POLYAMIDE RESIN FILM ROLL AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

蒸着ポリアミド系樹脂フィルムロール、およびその製造方法 - 特許庁

Further, as vapor deposition material for the oblique vapor deposition films, dielectrics such as SiO_2 and TiO_2 are effectively used.例文帳に追加

また、斜め蒸着膜の蒸着材料としては、誘電体が使用され、例えば、ＳｉＯ_2、ＴｉＯ_2などが有効である。 - 特許庁

HIGH-FREQUENCY MATCHING CIRCUIT MECHANISM OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

化学的気相成長装置の高周波整合回路機構 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC LIGHT-EMISSION APPARATUS例文帳に追加

蒸着装置および有機発光装置の製造方法 - 特許庁

A raised bottom portion 12 is partially provided on a bottom surface of a vapor deposition container 11 for storing a vapor deposition material 14.例文帳に追加

蒸着材料１４を収容する蒸着容器１１の容器底面に上げ底部１２を部分的に設ける。 - 特許庁

As the forming method, chemical vapor deposition or plasma chemical vapor deposition is used.例文帳に追加

本発明に記載された形成方法では、化学気相堆積法又はプラズマ化学気相堆積法の方法を用いている。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING IRON SILICIDE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

化学気相析出法による鉄ケイ化物の製造方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT例文帳に追加

蒸着装置および有機電界発光素子の製造装置 - 特許庁

(2) The metallic film 30 is formed through a vacuum vapor deposition method.例文帳に追加

（２）金属膜３０は真空蒸着にて形成される。 - 特許庁

To provide a thin film deposition system which performs vapor deposition and sputtering of a thin film in the same film deposition chamber.例文帳に追加

同じ成膜室内で薄膜を蒸着及びスパッタすることができる薄膜製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam vacuum vapor deposition method, and its apparatus capable of performing the vapor deposition without affecting an object for film deposition, and excellent in the film deposition efficiency and uniformity of the film deposition distribution.例文帳に追加

成膜対象に影響を与えずに蒸着を行うことができ、かつ成膜効率及び成膜分布の均一性に優れた電子ビーム真空蒸着方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

In the vapor deposition mode, the vapor is emitted from the opening part 3a directed in the substrate direction.例文帳に追加

蒸着時には、基板方向に向いた開口部３ａから蒸気を放出させる。 - 特許庁

To form a diagonally vapor-deposited film having a uniform thickness distribution and vapor deposition-angle distribution.例文帳に追加

膜厚分布および蒸着角度分布が均一な斜方蒸着膜を形成する - 特許庁

The vapor deposited and polymerized film 5 is a film formed by a vapor deposition and polymerization method.例文帳に追加

ここで、蒸着重合被膜は、蒸着重合法により形成される被膜である。 - 特許庁

THERMOCHEMICAL VAPOR PHASE VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND LOW-TEMPERATURE SYNTHESIS OF CARBON NANOTUBE USING THE SAME例文帳に追加

熱化学気相蒸着装置及びこれを用いたカーボンナノチューブの低温合成方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION MATERIAL FOR THIN FILM DEPOSITION, THIN FILM SHEET PROVIDED WITH THE THIN FILM, AND LAMINATED SHEET例文帳に追加

薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート - 特許庁

To provide a film deposition apparatus in which organic vapor deposition material is hardly deposited on outlets.例文帳に追加

放出口に有機蒸着材料が析出し難い成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus for depositing a manganese film by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process.例文帳に追加

マンガン膜をＣＶＤ法により形成することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

In the case the vapor deposition system is used, a film deposition method not only by a passing film deposition system but also by a fixed film deposition system is available.例文帳に追加

この蒸着装置を用いる場合に通過成膜方式だけでなく固定成膜方式による成膜法が可能である。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition, capable of forming a fine deposition region and a deposition region where a non-deposition region exists inside.例文帳に追加

微細な蒸着領域や非蒸着領域が内部にある蒸着領域を形成できる蒸着用金属マスクを提供する。 - 特許庁

Then, the gasified vapor deposition material gas is generated by heating the vapor deposition material 30 contained in the crucible 13 using the heating part 14, and the vapor deposition film is formed on the object to be treated.例文帳に追加

次に、坩堝１３に収納された蒸着材料３０を加熱部１４により加熱して、気体化した蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。 - 特許庁

The inorganic oriented film layer 41 is formed by, for example, a rhombic vapor-deposition process and the organic oriented film layer 42 is formed by an ion vapor-deposition process using an acrylic monomer as a vapor deposition material.例文帳に追加

無機配向膜層４１は例えば斜方蒸着法により形成され、有機配向膜層４２は、蒸着材料としてアクリルモノマーを用いたイオン蒸着法により形成される。 - 特許庁

In a vapor deposition film having a total light transmittance of 20-50%, a copper vapor deposition layer (which is) 0.02-1.0 nm in average thickness and an aluminum vapor deposition layer are formed on the surface of a polyester film.例文帳に追加

ポリエステルフィルム表面に平均厚み０．０２〜１．０ｎｍの銅蒸着層、およびアルミ蒸着層を形成し、全光線透過率２０〜５０％である蒸着フィルムとする。 - 特許庁

A rotary wafer table 208 for moving a wafer is provided on an upper part in the vapor deposition chamber, and a plurality of movable vapor deposition ports 224 are provided on a lower part in the vapor deposition chamber.例文帳に追加

ウエハーを移動する回転式ウエハーテーブル２０８は蒸着チャンバ内の上方に設けられて、複数個の移動式蒸着ボート２２４は蒸着チャンバ内の下方に設けられる。 - 特許庁

The DLC-Si film D is applied to the sliding face S2 of an outer clutch plate 34b, by the well known method such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method, PVD (Physical Vapor Deposition) method, ion vapor deposition method, and so on.例文帳に追加

アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりＤＬＣ−Ｓｉ薄膜Ｄを施す。 - 特許庁

At that time, so that a new vapor-deposition layer will not be formed in a full color display region 110C, a vapor-deposition mask 11a is arranged between a vapor-deposition source 8a and the element substrate 1b.例文帳に追加

この際、蒸着源８ａ及び素子基板１ｂ間には、フルカラー表示領域１１０Ｃに新たな蒸着層が形成されないように蒸着マスク１１ａが配置される。 - 特許庁

The vapor deposition metal film 3 is formed by vacuum vapor deposition, ion plating, EB vapor deposition or sputtering and the thickness thereof is preferably 10-200 mμm.例文帳に追加

前記蒸着金属膜が３真空蒸着、イオンプレーティング、ＥＢ蒸着あるいはスパッタリングで形成されていること、厚さが１０ｍμｍ以上、２００ｍμｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Only the vapor deposition material 14 in contact with the heating means 13 inside the opening 15 is selectively evaporated and vapor deposited on the substrate to be subjected to vapor deposition.例文帳に追加

開口部１５の内部の加熱手段１３に接した蒸着材料１４のみが、選択的に蒸発し、被蒸着基板に蒸着される。 - 特許庁

To provide an electron beam vapor-deposition apparatus which forms a vapor-deposited film with uniform thickness distribution and is particularly effective for an article having comparatively small vapor deposition area.例文帳に追加

均一な蒸着膜厚分布を得ることができ、特に蒸着面積が比較的小さいものに有効な電子ビーム蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an ALD(Atomic Layer Deposition) thin film vapor deposition apparatus provided with a cleaning apparatus by which dry cleaning is efficiently performed, and after the cleaning, thin film vapor deposition can easily be performed.例文帳に追加

効率良く乾式クリーニングし、クリーニング後、薄膜蒸着が容易に行えるクリーニング装置を備えたＡＬＤ薄膜蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method and a vapor deposition system where a crucible and cooling water are made needless, structure is simplified, further, injection energy is reduced, and further, the generation of splashes upon film deposition is prevented.例文帳に追加

るつぼや冷却水が不要となり、構造を簡素化するとともに、投入エネルギを低減し、更に成膜時におけるスプラッシュの発生を防止する。 - 特許庁

To prevent the sticking of particles dropped from a mask to a film vapor-deposited on the film deposition face of a substrate in the case vapor deposition is performed by down deposition.例文帳に追加

ダウンデポジションで蒸着を行う場合に、基板の成膜面に蒸着させた膜にマスクから落下したパーティクルが付着しないようにする。 - 特許庁

The inorganic oxide layer is preferably manufactured by a vacuum deposition method, a spattering method, an ionization vapor deposition method, an ion beam method, or a chemical vapor phase deposition method.例文帳に追加

前記無機酸化物層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオンビーム法、または化学気相蒸着法により作製されるのが好ましい。 - 特許庁

The method is preferably carried out by using plasma enhanced atomic layer deposition, plasma enhanced chemical vapor deposition, and plasma enhanced cyclic chemical vapor deposition.例文帳に追加

この方法は、好ましくは、プラズマ原子層堆積、プラズマ化学気相成長、及びプラズマサイクリック化学気相成長を用いることによって実行される。 - 特許庁

A tungsten bulk fill may then be deposited on the nucleation layer employing cyclical deposition, chemical vapor deposition or physical vapor deposition techniques.例文帳に追加

その後、周期的堆積、化学気相堆積、又は、物理的気相堆積技術を用いて、タングステンのバルクフィルが核形成層上に堆積されてもよい。 - 特許庁

Consequently, the vacuum deposition apparatus can stably measure the exact vapor deposition rate, and can form the high-accuracy vapor deposition film based on the rate.例文帳に追加

そのため、真空蒸着装置は正確な蒸着レートを安定的に計測でき、これに基づいて高精度な蒸着膜を形成することができる。 - 特許庁