| 意味 | 例文 (999件) |
Vapor Depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5223件
EVAPORATION SOURCE AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS PROVIDED WITH IT例文帳に追加
蒸発源及びこれを備えた蒸着装置 - 特許庁
To provide a vapor deposition apparatus capable of precisely controlling the vapor deposition rate of a film material, and to provide a vapor deposition method and a method of manufacturing an organic EL apparatus.例文帳に追加
膜材料の蒸着レートをより精密に制御可能な蒸着装置、蒸着方法、および有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a mask for vapor deposition with which the regulation of film thickness can be performed even in a single vapor deposition chamber, and to provide a vapor deposition method using the mask.例文帳に追加
単一蒸着室でも膜厚調整を行うことができる蒸着用マスク及びそのマスクを用いた蒸着方法を提供すること。 - 特許庁
To enhance a recovering efficiency of a vapor deposition material to improve productivity, in a vapor deposition apparatus with a device for recovering the vapor deposition material.例文帳に追加
蒸着材料の回収手段を備えた蒸着装置において、蒸着材料の回収効率を向上し、生産性の改善を図る。 - 特許庁
To provide a vapor deposition method capable of accurately performing vapor deposition on a part to be subjected to vapor deposition even when a base plate is expanded or contracted.例文帳に追加
基板が膨張又は収縮した場合においても蒸着すべき部分に精度良く蒸着を行うことができる蒸着方法を提供する。 - 特許庁
To provide a vapor deposition apparatus with which the reduction of a vapor deposition material before vapor deposition can be effectively prevented and a high quality functional element can be produced.例文帳に追加
蒸着前の蒸着材料の減少を効果的に防ぐとともに、高品質の機能素子を製造することができる蒸着装置等を提供する。 - 特許庁
A jig for vapor deposition through resistance heating forms vapor deposition material blocking parts 1F and 1G between fixed parts 1A and 1B and a vapor deposition material installation part 1C.例文帳に追加
この抵抗加熱蒸着治具１は、固定部１Ａ,１Ｂと蒸着材料設置部１Ｃとの間に、蒸着材料せき止め部１Ｆ,１Ｇを形成した。 - 特許庁
To improve the operation efficiency of a vapor deposition apparatus by regenerating a resonator of a film thickness detection device provided in a vapor deposition chamber in such a state that the resonator is placed in the vapor deposition chamber.例文帳に追加
蒸着室内の膜厚検知装置の振動子を蒸着室内において再生することで蒸着装置の稼動効率を向上させる。 - 特許庁
Since vapor deposition molecules are simultaneously evaporated onto the glass substrate 130 from the plurality of vapor deposition sources 10, 11, vapor deposition is performed at random angles.例文帳に追加
複数の蒸着源１０，１１から同時に蒸着分子がガラス基板１３０に対して蒸発されるため、よりランダムな角度から蒸着が行われる。 - 特許庁
To stabilize the amount of vapor deposition by improving reproducibility of the amount of the vapor deposition for each batch in a vacuum processing apparatus using a coaxial vacuum arc vapor deposition source.例文帳に追加
同軸型真空アーク蒸着源を用いた真空処理装置における蒸着量のバッチ毎の再現性を改善し、その安定化を提供する。 - 特許庁
To stably measure an exact vapor deposition rate, and to allow a high-purity vapor deposition film to be formed based on the vapor deposition rate.例文帳に追加
真空蒸着装置において、正確な蒸着レートを安定的に計測して、この蒸着レートに基づいて高精度な蒸着膜を形成する。 - 特許庁
After the inside of the vacuum chamber has been made into the reduced pressure state, evaporation of the deposition material from the vapor deposition source is started and a vapor deposition film composed of the deposition material is formed on the member to be subjected to vapor deposition.例文帳に追加
真空槽内が減圧状態にされた後に、蒸着源からの蒸着材料の蒸発が開始させられ、蒸着材料からなる蒸着膜が被蒸着物に形成される。 - 特許庁
To provide a method for producing a vapor deposition material capable of achieving the film deposition with the lower energy when depositing a vapor deposition film by the plasma-type vapor deposition method, in particular, in the initial stage that sublimation of the vapor deposition material starts, and the vapor deposition material produced thereby.例文帳に追加
プラズマ式の蒸着法により蒸着膜を成膜する際、特に蒸着材の昇華が始まる初期段階において、従来よりも低エネルギーでの成膜を実現し得る蒸着材の製造方法及び該方法により製造された蒸着材を提供する。 - 特許庁
TARGET ASSEMBLY FOR DEPOSITING THIN FILM, VAPOR DEPOSITION SOURCE, THIN FILM DEPOSITION SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
薄膜形成用のターゲット組立体、蒸着源、薄膜形成装置及び薄膜形成方法 - 特許庁
As the film deposition in this method is carried out by sputtering, the film deposition rate is higher than that of a vapor deposition method.例文帳に追加
しかも、成膜はスパッタによるものであるため蒸着法に比べると成膜レートが早い。 - 特許庁
To provide a vacuum deposition system capable of performing vapor deposition while correctly controlling the concentration ratio of co-vapor deposition.例文帳に追加
共蒸着の濃度比率を正確に制御しながら蒸着を行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
Because the angles from the vapor deposition source 4 with respect to the fringes of the surfaces to be vapor-deposited of each substrate 6 are approximately the same over all perimeters of the surfaces to be vapor-deposited, vapor deposition angles of the vapor deposition material spreading from the vapor deposition source 4 become same in the fringes of the surfaces to be vapor-deposited of each substrate 6.例文帳に追加
各基板６の被蒸着面の周縁に対する蒸着源４からの角度が、被蒸着面全周に渡ってほぼ同一とされるため、蒸着源４から飛散する蒸着材料の蒸着角が、各基板６の被蒸着面周縁において同一となる。 - 特許庁
VACUUM ARC VAPOR-DEPOSITION APPARATUS AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加
真空アーク蒸着装置および磁気記録媒体 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND SYSTEM FOR MANUFACTURING DISPLAY UNIT例文帳に追加
蒸着装置、および表示装置の製造システム - 特許庁
VAPOR DEPOSITION APPARATUS, METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
気相成長装置、気相成長装置の温度制御方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
VAPOR-DEPOSITION MATERIAL OF METAL OXIDE, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND METHOD FOR PRODUCING VAPOR-DEPOSITION FILM OF METAL OXIDE例文帳に追加
金属酸化物蒸着材、その製造方法、および金属酸化物蒸着膜の製造方法 - 特許庁
SUPPORTING STRUCTURE FOR SUBSTRATE IN VACUUM VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
真空蒸着装置における基板の支持構造 - 特許庁
The conductor pattern 25 comprises a metal thin film formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition.例文帳に追加
導体パターン２５を物理的蒸着又は化学的蒸着による金属薄膜によって構成する。 - 特許庁
ROTATION MECHANISM OF SUBSTRATE IN SPUTTERING VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
スパッタ蒸着装置における基板の回転機構 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE例文帳に追加
蒸着方法及び表示装置の製造方法 - 特許庁
To provide a vapor deposition mask with which a vapor deposition material can be deposited at high efficiency of utilizing the material.例文帳に追加
蒸着材料を高い利用効率で成膜することができる蒸着マスクを提供する。 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION DEVICE, METHOD FOR REMOVING COUNTER SURFACE MEMBER OR SUSCEPTOR TOP COVER IN VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
気相成長装置、気相成長装置における対向面部材またはサセプタ上面カバー取外し方法 - 特許庁
To correctly measure the vapor deposition rate of each vapor deposition source in multiple co-evaporation by avoiding cross-talk.例文帳に追加
クロストークを回避して多元共蒸着における各蒸着源の蒸着レートを正確に測定する。 - 特許庁
PLASMA PROCESSING METHOD, PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, AND PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置、プラズマ化学蒸着方法及びプラズマ化学蒸着装置 - 特許庁
METHOD OF DETECTING ECCENTRICITY IN SUSCEPTOR OF VAPOR PHASE DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
気相成長装置のサセプタ偏心検知方法 - 特許庁
The thin film composed of carbon of diamond structure is formed by chemical vapor deposition or physical vapor deposition.例文帳に追加
ダイヤモンド構造の炭素からなる薄膜は、化学蒸着、物理蒸着などによって形成すする。 - 特許庁
To provide a vapor deposition film excellent in the adhesiveness of a vapor deposition layer preventing stickiness and having hot water resistance.例文帳に追加
ベタツキを防止し、耐熱水性等の蒸着層の接着性に優れた蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁
PLASMA ASSISTED VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND CONTROLLING METHOD THEREFOR例文帳に追加
プラズマアシスト蒸着装置及びその制御方法 - 特許庁
PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET FOR USE AND REUSE IN THIN FILM VAPOR DEPOSITION, AND SPUTTERING VAPOR DEPOSITION TARGET例文帳に追加
薄膜蒸着での使用および再使用のためスパッタターゲットを作る方法とスパッタ蒸着ターゲット - 特許庁
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