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Vapor Depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5223件
VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD, AND ELECTRONIC ELEMENT AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT HAVING PATTERN-FORMED LAYER USING THE METHOD例文帳に追加
蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子 - 特許庁
LIQUID RAW MATERIAL FOR CHEMICAL VAPOR GROWTH METHOD, FILM DEPOSITION METHOD BY CHEMICAL VAPOR GROWTH METHOD AND CHEMICAL VAPOR GROWTH DEVICE例文帳に追加
化学気相成長法用液体原料、化学気相成長法による膜形成方法、および、化学気相成長装置 - 特許庁
Fine particles for a conductive carrier are vapor-deposited onto a substrate W in vapor-deposition chambers 3a, 3c, and fine particles for a catalytic metal are vapor-deposited onto the substrate W in vapor-deposition chambers 3b, 3d.例文帳に追加
蒸着室3a及び3c内で導電性担持体の微粒子を基板Wに蒸着させ、蒸着室3b及び3d内で触媒金属の微粒子を基板Wに蒸着させる。 - 特許庁
To provide a rotary drum in a film deposition apparatus for an atomic layer chemical vapor deposition, which is capable of depositing a multi-layered film, wherein the size of the entire apparatus can be reduced, and to provide the film deposition apparatus for the atomic layer chemical vapor deposition.例文帳に追加
装置全体を小型化可能として、多層の成膜を形成できる原子層堆積法成膜装置における回転ドラムおよび原子層堆積法成膜装置を提供する。 - 特許庁
When carrying out the proximity vapor deposition, base material temperature from start of the film deposition and an end of the film deposition is controlled to be 80°C or less.例文帳に追加
近接蒸着を実施する際、成膜開始から成膜終了までの基材温度を80℃以下に制御する。 - 特許庁
MULTI-STEP DEP-ETCH-DEP (DEPOSITION-ETCHING-DEPOSITION) HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS FOR FILLING DIELECTRIC GAP例文帳に追加
誘電ギャップ充填用のマルチステップ堆積・エッチング・堆積(DEP−ETCH−DEP)高密度プラズマ化学気相堆積プロセス - 特許庁
In the vapor deposition process, vapor deposition material gas is generated from an evaporation source including a crucible for storing the vapor deposition material, a heating unit for heating the crucible, a nozzle for emitting the vapor deposition material vaporized in the crucible toward an object to be processed, and a reflector 15 arranged around the crucible, and a vapor deposition film is formed on the object to be processed.例文帳に追加
蒸着工程では、蒸着材料を収納する坩堝、坩堝を加熱する加熱部、坩堝内で気体化した前記蒸着材料を前記被処理物に向かって放出するノズル、および坩堝の周囲に配置されるリフレクタ15を備える蒸発源から、蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。 - 特許庁
A vapor deposition material is vapor-deposited through an aperture 112 on a vapor deposition surface side of a glass substrate 130 within a vacuum chamber while a vapor deposition mask 111 having the aperture 112 therein is closely attached and a plurality of adjacent vapor deposition sources 10, 11 are moved over the entire glass substrate 130.例文帳に追加
真空チャンバー内でガラス基板130の蒸着面側に、開口部112が設けられた蒸着マスク111を密着させて、隣接する複数の蒸着源10,11をガラス基板130の全体に渡って移動させながら、開口部112を通して蒸着材料を蒸着させる。 - 特許庁
The second vapor deposition film 4b aligns the liquid crystal molecules 6 parallel to the orientation direction of the vapor deposited molecules 4, and the film is formed by oblique vapor deposition by supplying the vapor deposition molecules 4 at an angle of about 85° (vapor deposition angle θ2) with respect to the normal line Lv of the substrate W.例文帳に追加
また第2の蒸着膜4bは、蒸着分子4の配向方向に対して液晶分子6が平行に配向される膜で、基板W表面の法線Lvに対して85°程度の角度(蒸着角度θ2)からから蒸着分子4を供給する斜方蒸着によって得られる。 - 特許庁
To provide a vapor deposition apparatus which allows to remove a vapor deposition material stuck and deposited on a shutter without returning the material to a crucible while maintaining a vacuum atmosphere without returning the interior of a chamber (vapor deposition chamber) to an atmospheric pressure, and to provide an apparatus for manufacturing an organic electroluminescence device equipped with the vapor deposition apparatus.例文帳に追加
シャッターに付着し堆積した蒸着材料を、チャンバー(蒸着室)内を大気圧に戻すことなく真空雰囲気を維持したままで、坩堝に戻すことなく除去するようにした、蒸着装置とこれを備えた有機EL装置の製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a unit of raw materials for vacuum vapor deposition, which can stably preserve an organic compound, inhibit the raw materials from causing bumping during a vacuum vapor deposition process, and stably form a thin film; an evaporation source for vacuum vapor deposition; and a vacuum vapor deposition apparatus.例文帳に追加
有機化合物を安定して保存できると共に、真空蒸着時に突沸現象の発生を抑えることができ、安定して薄膜を形成することができる真空蒸着用原料ユニット、真空蒸着用蒸発源および真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The wavelength plate is formed by laminating three layers of oblique vapor deposition films on the surface of a transparent substrate 11 made of glass or the like, wherein a first oblique vapor deposition film 12, a second oblique vapor deposition film 13 and a third oblique vapor deposition film 14 are laminated in the order from the side of the transparent substrate 11.例文帳に追加
ガラスなどからなる透明基板11の表面上に、斜め蒸着膜を3層積層したものであり、透明基板11側から順に第一の斜め蒸着膜12と、第二の斜め蒸着膜13と、第三の斜め蒸着膜14とを積層するようにした。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method for manufacturing a thin film, wherein the frequency of changing a vapor deposition vessel is reduced and the vapor deposition cost is reduced by preventing any crack or breakage of the vapor deposition vessel while securing a passage for executing the volumetric change in thermal expansion of a vapor deposition material.例文帳に追加
蒸着材料の熱膨張における体積変化を行う通路を確保し、蒸着容器割れや破損を防止することにより、蒸着容器交換頻度を減らし、蒸着コストを低減する薄膜の製造装置および薄膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The vapor deposition device is equipped with: a vapor deposition crucible to heat and vaporize a vapor deposition material; a first heater disposed around the vapor deposition crucible; and a second heater disposed from the bottom of the crucible to the opening of the crucible.例文帳に追加
そのための蒸着装置は、蒸着材料を加熱及び蒸発させる蒸着用るつぼと、当該蒸着用るつぼの周囲に設けられた第1のヒータと、当該蒸着用るつぼの底部から当該蒸着用るつぼの開口部に向けて設けられた第2のヒータとを備えている。 - 特許庁
To provide a vapor deposition material storage vessel in which the staying of a vapor deposition material evaporated by the heating of a crucible in the opening part of the crucible can be suppressed, e.g., as for a vapor deposition system where the vapor deposition material is evaporated to deposit a thin film on a translucent substrate.例文帳に追加
例えば蒸着材料を蒸発させて透光性基板に薄膜を形成する蒸着装置に関するものであり、ルツボの加熱により蒸発した蒸着材料がルツボの開口部に滞留するのを抑制することが可能な蒸着材料収納容器を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method for removing vapor deposition material, by which apparatus and method, sintered pellets composed of the vapor deposition material stuck on the inside wall of a vapor deposition crucible can be easily and surely removed without deforming and breaking the vapor deposition crucible.例文帳に追加
蒸着用るつぼの内壁に固着している蒸着材料からなる焼結ペレットを蒸着用るつぼが変形したり破損したりすることなく容易かつ確実に除去することができる蒸着材料除去装置および蒸着材料除去方法を提供する。 - 特許庁
The method of evaluating the vapor deposition film measures a phase change by scanning vibratingly a probe of an atomic force microscope on a vapor deposition film surface of an optical member having the vapor deposition film on a base material, and evaluates the vapor deposition film, based on the measured phase change.例文帳に追加
基材上に蒸着膜を有する光学部材の該蒸着膜表面上で、原子間力顕微鏡の探針を振動させながら走査して位相変化を測定し、測定された位相変化に基づいて前記蒸着膜を評価する蒸着膜評価方法。 - 特許庁
The thin film pattern is formed by arranging a magnet 17 on the rear of a vapor deposition substrate 14, locating the first aperture 7 side of the vapor deposition mask 20 in a manner to be opposed to the surface of the vapor deposition substrate 14, and vacuum-depositing a thin film on the surface of the vapor deposition substrate 14.例文帳に追加
薄膜パターンは、蒸着用基板14の裏面に磁石17を配置し、蒸着用マスク20の第1の開口窓7側を蒸着用基板14の表面に対向配置して、薄膜を蒸着用基板14の表面に真空蒸着して形成する。 - 特許庁
To provide a film deposition system and a film deposition method where a film deposition rate and the thickness of a deposited film can be extremely satisfactorily controlled while holding the film deposition rate by vapor deposition.例文帳に追加
蒸着による成膜速度を保ちながらも極めて良好に成膜速度および成膜膜厚を制御することが可能な成膜装置、および成膜方法を提供する。 - 特許庁
To provide a laminated film for metal vapor deposition having gas barrier capacity excellent even after secondary processing while improving the adhesiveness of a metal vapor deposition film and a film substrate at the time of metal vapor deposition, and a metal vapor-deposited laminated film.例文帳に追加
金属蒸着した際の金属蒸着膜とフィルム基材との接着性を改善しながら、二次加工後においても優れたガスバリア性能を有する金属蒸着用積層フィルムおよび金属蒸着積層フィルムを提供すること。 - 特許庁
The second heating mechanism heats a vapor deposition material housed in the vapor source belonging to the preheating position.例文帳に追加
第2の加熱機構は、予備加熱位置に属する蒸発源に収容された蒸着材料を加熱する。 - 特許庁
The organic material is vapor-deposited through a through hole 2a for vapor deposition provided on the shadow mask 2.例文帳に追加
該有機材料は、シャドーマスク2に設けられた蒸着用貫通穴2aを透過して蒸着される。 - 特許庁
The first heating mechanism heats a vapor deposition material housed in the vapor source belonging to the film forming position.例文帳に追加
第1の加熱機構は、成膜位置に属する蒸発源に収容された蒸着材料を加熱する。 - 特許庁
To provide an apparatus and a vacuum system for collecting condensed vapor during physical vapor deposition.例文帳に追加
物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置および真空システムを提供する。 - 特許庁
The opening 5 for vapor deposition is placed so as to face a quartz glass substrate which is a substrate to be vapor-deposited.例文帳に追加
蒸着用開口部5は、被蒸着基板である石英ガラス基板に向かって配置される。 - 特許庁
Further, it is possible that a vapor deposition with the vapor generated from the molten solution is performed simultaneously with the ion implantation.例文帳に追加
また、融液から発する蒸気による蒸着をイオン注入と同時に行うこともできる。 - 特許庁
To provide a vapor deposition apparatus capable of preventing separation of deposits on a shutter and ingress in a vapor deposition source as much as possible, a vapor deposition method, an organic EL apparatus, and electronic equipment.例文帳に追加
シャッターに付着した付着物が剥離して蒸着源に入るのを可及的に防止することが可能な蒸着装置、蒸着方法、有機EL装置、および電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING COMPOUND COMPOSITION GRADIENT FILM USING COMPOUND VAPOR DEPOSITION MATERIAL例文帳に追加
複合蒸着材を用いた複合組成傾斜膜の製造方法 - 特許庁
IONIZED METAL PLASMA COPPER VAPOR DEPOSITION IMPROVED IN CAPACITY OF GRAIN IN THIN FILM例文帳に追加
薄膜内粒子性能を改善したイオン化金属プラズマ銅蒸着 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING CARBON FIBER BY ORGANIC METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
有機金属化学気相蒸着法によるカーボンファイバの製造方法 - 特許庁
Thereafter, a titanium layer 214 is formed on the layer 204 and the hole 213 by a physical vapor deposition method.例文帳に追加
その後、物理蒸着によりチタン層214が蒸着される。 - 特許庁
VACUUM MEASURING DEVICE, VAPOR DEPOSITION DEVICE, AND VACUUM MEASURING METHOD例文帳に追加
真空度測定装置、気相成長装置および真空度測定方法 - 特許庁
IONIZED PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS USING HELICAL MAGNETIC-RESONANT COIL例文帳に追加
ヘリカル磁気共振コイルを利用したイオン化物理的気相蒸着装置 - 特許庁
COMPOSITE MATERIAL FOR VAPOR DEPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING COLOR CATHODE RAY TUBE例文帳に追加
蒸着用複合材料およびカラー陰極線管の製造方法 - 特許庁
Such a complex is particularly suitable for use as a vapor deposition precursor.例文帳に追加
かかる錯体は蒸着前駆体としての使用に特に適している。 - 特許庁
The vapor deposition mask is scanned by focusing energy beam in the film forming chamber which carries out the vapor deposition of the organic EL element, and by carrying out local heating, the deposit accumulated on the vapor deposition mask is sublimated and removed.例文帳に追加
有機EL素子の蒸着を行う成膜室中において、蒸着マスクを集束エネルギビームにより走査し、局所的な加熱を行うことにより、蒸着マスク上に堆積した堆積物を昇華・除去する。 - 特許庁
The organic EL vapor deposition material evaporated from the vapor deposition source 202 is deposited on the glass substrate 201 and a desired vapor deposition pattern is formed on the whole face of the glass substrate 201.例文帳に追加
蒸着源202から蒸発された有機EL蒸着材料は、シャドウマスク200の開口部203を通して、ガラス基板201上に蒸着され、ガラス基板201の全面に所望の蒸着パターンが形成される。 - 特許庁
EQUIPMENT AND METHOD OF DEPOSITING FILM THROUGH CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
化学気相成長法による膜堆積装置および膜堆積方法 - 特許庁
To provide a transfer sheet in which no vapor deposition defect is generated in a metallic vapor deposition layer and in which no cracks are generated in the metallic vapor deposition layer even in the case of application to a complicated or deep three-dimensional shape.例文帳に追加
金属蒸着層に蒸着欠陥が発生せず、しかも複雑又は深みがある立体形状に適用した場合でも金属蒸着層にクラックが発生しない転写シートを提供すること。 - 特許庁
To provide a vapor deposition and inspection device for an organic light-emitting display panel.例文帳に追加
有機発光ディスプレイパネルの蒸着及び検査装置を提供する。 - 特許庁
NANO-STRUCTURE MAKING CONTROL METHOD USING ELECTRON BEAM-INDUCTIVE VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
電子ビーム誘起蒸着法を用いたナノ構造作成制御方法 - 特許庁
ZnO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND METHOD FOR FORMING ZnO FILM USING THE SAME例文帳に追加
ZnO蒸着材及びこれを用いたZnO膜の形成方法 - 特許庁
This film is of 2 to 10 micron and made by a chemical vapor deposition.例文帳に追加
この被膜は2〜10ミクロンで化学蒸着法によって形成される。 - 特許庁
To provide a vapor deposition apparatus capable of preventing separation of deposits on a shutter and coverage of an upper portion of a vapor deposition source, a vapor deposition method, an organic EL apparatus, and electronic equipment.例文帳に追加
シャッターに付着した付着物が剥離して蒸着源の上部を覆うことを防止することが可能な蒸着装置、蒸着方法、有機EL装置、および電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁
ZnO VAPOR DEPOSITION MATERIAL, ZnO FILM, AND MANUFACTURING METHODS THEREOF例文帳に追加
ZnO蒸着材及びZnO膜並びにそれらの製造方法 - 特許庁
The protective film 12 can be deposited by ion-plating, expansive thermal plasma, the plasma-excited chemical vapor deposition method, the organic metal vapor deposition method, the organic metal vapor deposition epitaxy, sputtering, electronic beams, plasma spray or the like.例文帳に追加
保護膜12は、イオンプレーティング、膨張性熱プラズマ、プラズマ励起化学気相成長法、有機金属化学気相成長法、有機金属気相エピタキシー、スパッタリング、電子ビーム、プラズマスプレーなどにより成膜することができる。 - 特許庁
IONIZED PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS USING HELICAL MAGNETIC RESONANCE COIL例文帳に追加
ヘリカル磁気共振コイルを利用したイオン化物理的気相蒸着装置 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING MATERIAL WITH LARGE DIELECTRIC CONSTANT FROM VAPOR DEPOSITION CHAMBER例文帳に追加
蒸着チェンバーから誘電率が大きな材料を除去する方法 - 特許庁
A MOCVD (metal organic chemical vapor deposition) apparatus 1 is furnished with a susceptor 5 and a passage 11.例文帳に追加
MOCVD装置1は、サセプタ5と、通路11とを備えている。 - 特許庁
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF FET AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
化学蒸着装置、並びにFET及び半導体デバイスの製造法 - 特許庁
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