「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a mask for vapor deposition and a method of manufacturing the same by which passage holes for passing a vapor deposition material are precisely formed.例文帳に追加

蒸着材料を通過させるための通過孔を精度良く形成することが可能な蒸着用マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a boat for metal vapor-deposition, capable of simultaneously vapor-depositing two or more low-melting metals.例文帳に追加

２種以上の低融点金属を同時に蒸着することのできる金属蒸発用ボートを提供すること。 - 特許庁

The substrate layer 12 is formed on the nonmagnetic substrate 2 by a vapor growth method such as sputtering and vapor deposition.例文帳に追加

この下地層１２は、非磁性基板２上に、スパッタリングや蒸着等の気相成長法により形成する。 - 特許庁

To provide a low-temperature thermochemical vapor phase vapor deposition apparatus and a low-temperature synthesis method for a carbon nanotube using the same.例文帳に追加

低温熱化学気相蒸着装置及びこれを用いたカーボンナノチューブの低温合成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for arc vapor deposition of materials on a substrate which can be operated at a high deposition rate.例文帳に追加

高堆積速度で作動可能な、材料を基体上へ陰極アーク蒸着するための方法が提供される。 - 特許庁

To provide a film deposition system where a vapor deposition material can be film-deposited into a uniform film thickness.例文帳に追加

この発明は、蒸着材の膜厚を均一に成膜できる成膜装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

DEPOSITION METHOD OF GRADING PRXCA1-XMNO3 THIN FILMS BY METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

有機金属化学的気相成長法によるグレーディングＰｒｘＣａ１−ｘＭｎＯ３薄膜の堆積方法 - 特許庁

PASSIVATION METHOD FOR IMPROVING UNIFORMITY AND REPRODUCIBILITY OF ATOMIC LAYER DEPOSITION AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

原子層堆積法および化学気相成長法の均一性および再現性を向上するパッシベーション方法 - 特許庁

The amorphous Al_2O_3 film can be deposited using a chemical vapor deposition, atomic layer deposition or sputtering process.例文帳に追加

上記アモルファスＡｌ_２Ｏ_３膜は、化学気相堆積法、原子層堆積法又はスパッタ法を用いて、堆積される。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for substrate treatment, which can improve vapor deposition uniformity and deposition rate.例文帳に追加

蒸着均一度及び蒸着率を向上させることができる基板処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

As a result, the deposition rate is improved and the efficiency of using the vapor deposition material can be enhanced.例文帳に追加

これにより、蒸着レートが向上するとともに、蒸着材料の利用効率を高めることが可能となる。 - 特許庁

The fluoride film is formed as follows by using the film deposition method by a vacuum vapor deposition method and the cluster beam.例文帳に追加

真空蒸着法による膜形成方法とクラスタビームを用いて、つぎのように弗化物膜を形成する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus in which a sublimable material set in a crucible used for vacuum vapor deposition is hard to bump.例文帳に追加

真空蒸着を行なうるつぼにセットした昇華性材料が、蒸着の際に突沸しにくくする。 - 特許庁

To prevent deterioration in accuracy due to adhesion of vapor when vapor concentration is measured by means of a laser beam in a vacuum vapor deposition device.例文帳に追加

真空蒸着装置において蒸気濃度計測をレーザ光を用いて行う場合に、蒸気の付着による精度低下を防止する。 - 特許庁

To provide a magnetic latch to fix a substrate to a planetary type rotary platform suspended above a coating source in a vacuum chamber of a vapor deposition system such as a chemical vapor deposition (CVD) system or a physical vapor deposition (PVD) system.例文帳に追加

本発明は、化学蒸着（ＣＶＤ）システムまたは物理蒸着（ＰＶＤ）システムなどの蒸着システムの真空チャンバ内で、コーティング源の上につり下げられた遊星式回転プラットホームに基板を固定する磁気ラッチに関する。 - 特許庁

In the ceramic vapor deposition film and its production method, at least a ceramic vapor deposition layer (A) is formed on at least one side of a polymer substrate, and a vapor deposition layer (B) as a protective layer is formed on the layer (A).例文帳に追加

高分子基材の片面もしくは両面に、少なくともセラミック蒸着層（Ａ）を設け、その上に保護層として蒸着層（Ｂ）を設けたことを特徴とするセラミック蒸着フィルム及びその製造方法である。 - 特許庁

The oblique vapor deposition film layer consists of a multilayer film formed by alternately depositing a first kind of oblique vapor deposition films 22 having steep inclination (at ≥60° inclination angle) and a second kind of oblique vapor deposition films having gentle inclination (at ≤25° inclination angle).例文帳に追加

前記斜め蒸着膜層は、急傾斜の第１種の斜め蒸着膜２２（傾斜角６０°以上）と緩傾斜の第２種の斜め蒸着膜２３（傾斜角２５°以下）とが交互に形成されてなる多層膜からなる。 - 特許庁

To provide a raw material for chemical vapor deposition which is efficiently convertible into an excellent silicon-containing thin film, and a method for depositing the silicon-containing thin film by a chemical vapor deposition method using the raw material for chemical vapor deposition.例文帳に追加

効率よく、良質なケイ素含有薄膜に転化できる化学気相成長用原料、及び該化学気相成長用原料を用いて、化学気相成長法により、ケイ素含有薄膜を形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method which can form a vapor deposition thin film while more precisely controlling temperatures of a wafer surface and a susceptor surface without increasing a cost more than necessary, and to provide a vapor deposition apparatus therefor.例文帳に追加

必要以上にコストをかけることなく、ウエーハ表面の温度やサセプタの表面の温度をより正確に制御して薄膜を気相成長させることができる気相成長法および気相成長装置を提供する。 - 特許庁

Arc discharge is induced between the anode electrode 6 and the vapor deposition material 7 by trigger discharge between the trigger electrode 9 and the vapor deposition material 7, and particles released from the vapor deposition material 7 are released from an anode release port 60.例文帳に追加

トリガ電極９と蒸着材料７の間のトリガ放電によりアノード電極６と蒸着材料７の間にアーク放電を誘起させ蒸着材料７から放出された粒子をアノード開放口６０から放出させる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition film excellent in effect for imparting acid resistance to a vapor deposition layer and capable of being also used for packaging acidic food, in particular an acid-resistant vapor deposition film markedly reduced in deterioration after heat sterilization treatment.例文帳に追加

蒸着層への耐酸性付与効果に優れ、酸性食品包装用としても使用できる蒸着フイルムの提供、特に、加熱殺菌処理後の劣化が著しく少ない耐酸性蒸着フイルムの提供を図る。 - 特許庁

In the surface treatment method for forming a vapor deposition film composed of the easily oxidizable vapor deposition material on the article to be treated, the vapor deposition material is vaporized in a state that a vapor deposition control gas is supplied at least to a melting and evaporating part and the vicinity of the article to be treated in a treating chamber.例文帳に追加

易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜を被処理物の表面に形成する表面処理方法であって、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給した状態で前記蒸着材料を蒸発させることを特徴とする。 - 特許庁

In the vapor deposition film having a base material film and the vapor deposition layer, a layer comprising an acid resistance imparting agent, which contains a polyester resin having an aromatic carboxylic acid residue and/or a polyester/polyurethane resin having an aromatic carboxylic acid residue, is arranged on the surface of the vapor deposition layer or between the base material film and the vapor deposition layer.例文帳に追加

基材フイルムと蒸着層とを有する蒸着フイルムにあって、芳香族カルボン酸残基を有するポリエステル樹脂および／または芳香族カルボン酸残基を有するポリエステルポリウレタン樹脂を含有する耐酸性付与剤からなる層を、蒸着層の表面、又は基材フイルムと蒸着層との間、に配位する。 - 特許庁

The vapor deposition mask 1 having a pattern forming area 4 where through holes 5 for vapor deposition are formed is mounted on one side of the substrate 30, at least the end part of the vapor deposition mask 1 is held, and a weight 20 is provided on the side opposite to the side where the vapor deposition mask 1 is mounted of the substrate 30 via pressing tool 50.例文帳に追加

蒸着通孔５が形成されたパターン形成領域４を備える蒸着マスク１を前記基板３０の片側に搭載し、少なくとも前記蒸着マスク１の端部が支持してあって、前記基板３０の蒸着マスク１が搭載される側とは反対側に押さえ治具５０を介しておもり２０を置く。 - 特許庁

By this method, as compared with the case where the discharge is done directly into a chamber 20 via an outlet hole 30b opening in the upper part of a crucible 30 of the conventional vapor deposition system, the uniformity of vapor deposition onto the vapor deposition surface can be maintained even if the distance L1 between the vapor deposition surface 200a and the outlet holes 62a is shortened.例文帳に追加

これにより、従来の蒸着装置による坩堝３０上部に開口する放出口３０ｂからそのままチャンバ２０内に放出させる場合に比べて、蒸着面２００ａと放出口６２ａとの間隔Ｌ１を小さくしても、蒸着面２００ａへの蒸着の均一性を保つことができる。 - 特許庁

By adding the vapor deposition process in which the composition containing the Ir element is utilized as the vapor deposition source to the vapor deposition process in which the inorganic composition is utilized as the vapor deposition source, the thin film type inorganic EL element in which the light-emitting brightness is improved can be provided without largely increasing manufacturing cost.例文帳に追加

本発明によれば、無機組成物を蒸着源とする蒸着工程に、Ｉｒ元素を含む組成物を蒸着源とする蒸着工程を追加することにより、発光輝度が向上した薄膜型無機ＥＬ素子を、製造コストを大幅に増大させることなく提供することができる。 - 特許庁

In the vapor deposition film 1, an inorganic oxide vapor deposition film by a physical vapor phase growth method, a first gas-barrier coating film by a gas-barrier composition, an inorganic oxide vapor deposition film by the physical vapor phase growth method or a chemical vapor phase growth method, and a second gas-barrier coating film by the gas-barrier composition are formed in turn on one side of a base material.例文帳に追加

蒸着フィルム１が、基材の一方の面に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜と、ガスバリア性組成物による第１のガスバリア性塗布膜と、物理気相成長法または化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜と、ガスバリア性組成物による第２のガスバリア性塗布膜と、が順次形成されてなる。 - 特許庁

A method includes a step of depositing a layer of a semiconductor material on a substrate 56 by using vapor deposition in a first vapor deposition chamber 24, and a subsequent step of evacuating the first deposition chamber 24 to reduce vapor deposition source gases remaining in the first deposition chamber after the deposition growth and prior to opening the chamber 24.例文帳に追加

第一気相堆積チャンバ２４において気相堆積を用いて基板５６上に半導体材料の層を堆積させる工程、次いで、堆積成長後及び前記チャンバ２４を開ける前に、前記第一堆積チャンバ中に残留している気相堆積原料ガスを減少させるために成長チャンバ２４から排気する工程を含む。 - 特許庁

In a method for manufacturing an inorganic oxide vapor-deposited film in which an inorganic oxide vapor-deposited layer is provided by using a vapor deposition mask on a substrate, vapor deposition is performed while no inorganic oxide is deposited on edge parts of the vapor deposition mask.例文帳に追加

基材上に蒸着マスクを用いて無機酸化物蒸着層を設ける無機酸化物蒸着フィルムの製造方法において、前記蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態で蒸着を行うことを特徴とする無機酸化物蒸着フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

A vapor deposition mask 12 is positioned between a vapor source 16 and a plastic substrate 10 and a vaporizing material from the vapor source 16 is selectively passed through an opening matching the pattern of a vapor deposition layer of an EL element formed on the mask 12, to form the vapor deposition layer on the plastic substrate 10.例文帳に追加

蒸着マスク１２を蒸発源１６とプラスチック基板１０との間に配置し、蒸着マスク１２に形成されているＥＬ素子の蒸着層のパターンに応じた開口部によって選択的に蒸発源１６からの蒸発物質を選択的に通過させてプラスチック基板１０上に蒸着層を形成する。 - 特許庁

In evaluating the deposition state of a vapor deposition film with respect to a transparent or translucent container having the vapor deposition film applied and formed to its inner wall, a liquid 2 is injected in a PET bottle 1 and the height (h) of a meniscus formed at the time of the injection of the liquid is measured to determine the deposition state of the vapor deposition film.例文帳に追加

内壁に蒸着膜を被覆形成した透明または半透明の容器につき、該蒸着膜の成膜状況を評価するに当たり、前記ペットボトル１に液体２を注入して、その際に形成されるメニスカスの高さｈを測定することによって蒸着膜の形成状態を判定する。 - 特許庁

The metal mask for vapor deposition having a plurality of vapor through holes for vapor-depositing a vapor deposition material on a glass substrate is formed of a stacked body obtained by stacking at least two or more kinds of metallic layers or alloy layers with different thermal expansion coefficients.例文帳に追加

蒸着材料をガラス基板に蒸着するための複数の蒸気通孔を有する蒸着用メタルマスクを、熱膨張係数の異なる少なくとも２種以上の金属層または合金層を積層した積層体とする。 - 特許庁

To provide a polyester film for transparent vapor deposition capable of imparting stably high gas barrier performance and moisture-proof performance at a thin vapor-deposited thickness, and capable of enhancing remarkably those, in the polyester film for the transparent vapor deposition, and the transparent vapor-deposited polyester film.例文帳に追加

透明蒸着用ポリエステルフイルムは、薄い蒸着膜厚さで高いガスバリア性能及び防湿性能を安定して付与し格段に向上させる透明蒸着用ポリエステルフイルム及びその透明蒸着ポリエステルフイルムを提供。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM SEMICONDUCTOR DEVICE AND VACUUM CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

薄膜半導体装置の製造方法及び減圧化学気相堆積装置 - 特許庁

To provide a new AP PECVD apparatus and a plasma thin film vapor deposition method.例文帳に追加

新しいＡＰ ＰＥＣＶＤ装置とプラズマ薄膜蒸着法を提供する。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE APPARATUS例文帳に追加

蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法ならびに有機エレクトロルミネッセンス装置 - 特許庁

A second aluminum layer 216 is formed on the layer 214 by using a physical vapor deposition method.例文帳に追加

その後、物理蒸着により、第２のアルミニウム層２１６が形成される。 - 特許庁

DESIGN OF GAS DIFFUSION SHOWER HEAD FOR LARGE-AREA PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

大面積プラズマ増強化学気相堆積のためのガス拡散シャワーヘッド設計 - 特許庁

To produce a vapor deposition material which prevents occurrence of splash during formation of a film.例文帳に追加

膜の成膜時にスプラッシュの発生を防止する蒸着材を製造する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition source for forming a high-purity organic compound layer.例文帳に追加

高純度な有機化合物層を形成するための蒸着源を提供する。 - 特許庁

The ITO thin film is laminated on the solid substrate by vacuum vapor deposition.例文帳に追加

ＩＴＯ薄膜は，真空蒸着法により，固体基板上に積層される。 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR PHASE DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF FORMING FILM ON SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

化学気相成長装置および該装置による半導体ウエハの成膜方法 - 特許庁

METHOD OF EVALUATING VAPOR DEPOSITION FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL MEMBER USING THE SAME例文帳に追加

蒸着膜評価方法およびそれを用いる光学部材の製造方法 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus capable of reliably removing impurities.例文帳に追加

不純物を確実に取り除くことが可能な蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

LAMINATED FILM, LAMINATED FILM WITH INORGANIC VAPOR DEPOSITION LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

積層フィルム、無機蒸着層を有する積層フィルムおよびその製造方法 - 特許庁