「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

A vapor deposition material containing a silicon oxide as a main component is arranged at a vapor deposition material arrangement section provided at a film deposition chamber, and a substrate is placed at a place opposed to the vapor deposition material arrangement section (arranging process).例文帳に追加

成膜室に設けられた蒸着材料配置部に珪素酸化物を主成分とする蒸着材料を配置するとともに、蒸着材料配置部に対向する位置に基板を配置する（配置工程）。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system and a vapor deposition method by which the contact strength between a substrate and a vapor deposition mask can be increased to improve the precision of a vapor deposition pattern deposited on the substrate even when the size of the substrate and the vapor deposition mask is enlarged, and to provide an electro-optical device and an electronic device.例文帳に追加

基板および蒸着マスクが大型化した場合においても、基板と蒸着マスクの密着性を向上させて、基板上に形成する蒸着パターンの精度を向上させることが可能な蒸着装置、蒸着方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁

The thin film type inorganic EL element is provided which has a light emitter layer formed by at least two vapor deposition processes of the vapor deposition process in which an inorganic composition is utilized as a vapor deposition source and the vapor deposition process in which a composition containing Ir element is utilized as the vapor deposition source.例文帳に追加

本発明によれば、無機組成物を蒸着源とする蒸着工程と、Ｉｒ元素を含む組成物を蒸着源とする蒸着工程との少なくとも二つの蒸着工程により形成される発光体層を有することを特徴とする薄膜型無機ＥＬ素子が提供される。 - 特許庁

To easily and reliably adjust only the thickness of a thin film to be deposited in a specified vapor deposition area in an in-line type vapor deposition apparatus for successively performing the vapor deposition in a plurality of vapor deposition areas on a substrate to be processed, and a film deposition method.例文帳に追加

被処理基板に対して複数の蒸着エリアで順次、蒸着を行うインライン式蒸着装置、および成膜方法において、特定の蒸着エリアで成膜される薄膜の膜厚のみを容易かつ確実に調整することのできる構成を提供すること。 - 特許庁

Then, a silicon compound layer is formed by supplying plasma beams toward the vapor deposition material arrangement section so as to vaporize a vapor deposition substance from the vapor deposition material, at the same time, introducing a reaction gas into the film deposition chamber, and sticking the vapor deposition substance onto the surface of the substrate (sticking process).例文帳に追加

ついで、蒸着材料配置部に向けてプラズマビームを供給して蒸着材料から蒸着物質を蒸発させるとともに、反応ガスを成膜室に導入し、蒸着物質を該基板の表面に付着させて珪素化合物層を形成する（付着工程）。 - 特許庁

To provide a vapor stream ejecting device for vapor deposition capable of switching the starting time and the ending time of vapor stream ejection in a short period of time, also capable of suppressing useless consumption of vapor deposition materials, and also to provide a vapor deposition apparatus.例文帳に追加

蒸気流の放出の開始時および終了時の切り換えを短時間に行なうことができ、かつ、蒸着材料の無駄な消費を抑えることができる蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

A vapor deposition source 10 for producing the vapor of a vapor deposition material to be deposited on a substrate 31, the film thickness sensor 20 for control which uses a crystal oscillator to control the temperature of the vapor deposition source 10 by monitoring the vapor of the vapor deposition material and a film thickness sensor 40 for correction which uses a crystal oscillator are provided.例文帳に追加

基板３１に蒸着させる蒸着材料の蒸気を発生させる蒸着源１０と、蒸着材料の蒸気をモニターして蒸着源１０を温度制御するための、水晶振動子を用いた制御用膜厚センサー２０と、水晶振動子を用いた補正用膜厚センサー４０と、を設ける。 - 特許庁

In the method and system for vacuum deposition by which the vapor deposition material is evaporated in a vacuum chamber 10 to form a deposit film of the vapor deposition material on a substrate 40 for vapor deposition, pressure in the vacuum chamber 10 is controlled to control the deposition rate of the vapor deposition material.例文帳に追加

真空槽１０内部において蒸着物質を蒸発させて被蒸着物４０に蒸着物質の蒸着膜を成膜する真空蒸着法及び真空蒸着装置において、真空槽１０内部の圧力を制御することによって、蒸着物質の蒸着速度を制御することを特徴とする。 - 特許庁

In depositing five layers of the antireflection films, the respective layers are continuously deposited by opening a shutter 24 for starting the vapor deposition of a material for vapor deposition (ZrO_2) 12a for deposition of the second layer before closing a shutter 23 for stopping the vapor deposition of a material for vapor deposition (SiO_2) 11a for deposition of the first layer.例文帳に追加

蒸着により５層の反射防止膜１６を成膜する際に、第１の層を成膜する蒸着材料（ＳｉＯ_2）１１ａの蒸着を停止するシャッター２３を閉じる前に、第２の層を成膜する蒸着材料（ＺｒＯ_2）１２ａの蒸着を開始させるシャッター２４を開けて、各層を連続で成膜する。 - 特許庁

Therefore, even when the vapor deposition material of the same volume is deposited, the thickness of a deposition layer 17 of the vapor deposition material on the blocking surface 154 is small, and the deposition layer 17 is hardly separated.例文帳に追加

従って、同一体積の蒸着材料が堆積した場合でも、遮断面１５４への蒸着材料の堆積層１７の厚さが薄く、堆積層１７が剥離しにくい。 - 特許庁

The film deposition time is shortened and a vacuum vapor deposition apparatus is miniaturized by performing the film deposition by simultaneously emitting vapors from the vapor deposition source 10 on a plurality of objects on different planes.例文帳に追加

異なる平面上の複数の被成膜物に蒸着源１０からの蒸気を同時に放出し、成膜することで、成膜時間の短縮および装置の小型化を促進する。 - 特許庁

VAPOR PHASE DEPOSITION DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF FILM-FORMED SUBSTRATE例文帳に追加

気相成長装置および成膜済基板の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DEGASSING FILM FORMING MATERIAL IN VACUUM VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

真空蒸着装置における成膜材料の脱ガス方法 - 特許庁

METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION WITH SHOWER HEAD AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

シャワーヘッドを用いた化学気相蒸着方法及びその装置 - 特許庁

SUBSTRATE TRAY AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS EQUIPPED WITH THE SAME例文帳に追加

基板トレイ及びその基板トレイを備えた気相成長装置 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

化学気相成長装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

TEMPERATURE-CONTROLLED PURGE GATE VALVE FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION CHAMBER例文帳に追加

化学気相成長チャンバ用の温度制御されたパージゲート弁 - 特許庁

VAPOR-DEPOSITION BIODEGRADABLE FILM MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

蒸着生分解性フィルム材料及びその製造方法 - 特許庁

To prevent unnecessary vapor deposition to a tip of a temperature measuring apparatus.例文帳に追加

温度測定装置の先端への不要な蒸着を妨げる。 - 特許庁

Next, a metal vapor deposition film 18 is formed on the rear side surface.例文帳に追加

次に、この表面に金属蒸着膜１８を形成する。 - 特許庁

METHOD OF LAYER VAPOR DEPOSITION ONTO SUBSTRATE HAVING PLURAL OPENINGS例文帳に追加

複数の開口部を備える基板上への層の蒸着方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE APPARATUS例文帳に追加

蒸着装置および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING IRIDIUM THIN FILM USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

化学気相成長法を用いたイリジウム薄膜の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR SUPPLYING GASEOUS HYDROGEN INTO PROCESS CHAMBER OF VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

蒸着装置の処理室内への水素ガス供給方法 - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体製造用高密度プラズマ化学気相蒸着装置 - 特許庁

MANUFACTURE OF RARE-EARTH MAGNET OF HIGH PERFORMANCE BY METAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

金属蒸気収着による高性能希土類磁石の製造 - 特許庁

OPTICAL FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FILTER, AND VAPOR DEPOSITION MASK例文帳に追加

光学フィルタ、光学フィルタの製造方法および蒸着マスク - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND METHOD FOR GROWING SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加

化学気相成長装置および半導体膜の成長方法 - 特許庁

VACUUM VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL DEVICE例文帳に追加

真空蒸着装置及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION TYPE MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING DEVICE例文帳に追加

蒸着型磁気記録媒体および磁気記録再生装置 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION SOURCE, METHOD FOR FORMING THIN FILM, AND IMPLANTING METHOD例文帳に追加

蒸着源並びに薄膜形成方法及び注入方法 - 特許庁

POLYPROPYLENE FILM FOR METAL VAPOR DEPOSITION AND METALLIZED POLYPROPYLENE FILM例文帳に追加

金属蒸着用ポリプロピレンフイルムおよび金属化ポリプロピレンフィルム - 特許庁

FLOW RATE CONTROL DEVICE FOR EVAPORATION MATERIAL, AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

蒸発材料の流量制御装置および蒸着装置 - 特許庁

REACTION CHAMBER FOR VAPOR PHASE AXIAL DEPOSITION AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

気相軸付成長用反応容器及びその製造方法 - 特許庁

RAW MATERIAL GAS JETTING NOZZLE, AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

原料ガス噴出用ノズル及び化学的気相成膜装置 - 特許庁

ALIGNMENT APPARATUS AND ORGANIC VAPOR DEPOSITION SYSTEM USING THE APPARATUS例文帳に追加

位置合わせ装置、及びその装置を用いた有機蒸着装置 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION SOURCE, PATTERNING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

蒸着源、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁

OXIDE VAPOR DEPOSITION MATERIAL, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND SOLAR CELL例文帳に追加

酸化物蒸着材と透明導電膜および太陽電池 - 特許庁

The acrylic film (11) might be subject to the vapor deposition processing.例文帳に追加

アクリルフィルム（１１）には蒸着加工が施してあっても良い。 - 特許庁

HYDROGEN PERMEABLE FILM MANUFACTURING APPARATUS USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

化学気相析出法を用いた水素透過膜製造装置 - 特許庁

The metal film can be formed by vapor deposition etc.例文帳に追加

また蒸着法等により、金属膜を形成することができる。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ELECTROLUMINESCENT DISPLAY PANEL, AND VAPOR DEPOSITION MASK例文帳に追加

エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法及び蒸着マスク - 特許庁

ORGANIC MATERIAL EVAPORATION SOURCE AND VAPOR DEPOSITION SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

有機材料蒸発源及びこれを用いた蒸着装置 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION MATERIAL FOR PLASMA DISPLAY PANEL PROTECTIVE FILM EXCELLENT IN HUMIDITY-PROOFING例文帳に追加

耐湿性に優れたプラズマディスプレイパネル保護膜用蒸着材 - 特許庁

LIDDED HEARTH LINER AND VAPOR DEPOSITION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

蓋付ハースライナーおよび蓋付ハースライナーを用いた蒸着方法 - 特許庁