「D region」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A package X for housing an electronic component has an insulating base body 10 with a mounting surface 11a for mounting an electronic component D and a tilting surface 11b positioned at a periphery of the mounting surface 11a, and tilts away with respect to the mounting region of the electronic component D in the mounting surface 11a.例文帳に追加

電子部品収納用パッケージＸは、電子部品Ｄを搭載するための搭載面１１ａと、搭載面１１ａの周囲に位置し且つ搭載面１１ａにおける電子部品Ｄの搭載領域に対して外方に傾斜する傾斜面１１ｂと、を有する絶縁基体１０を備える。 - 特許庁

In this manner, an influence distance (d) from an image region affecting the read of a white ground section is calculated, and the density information on the patch image is corrected based on the density information of the white ground section separated as compared with the influence distance (d) at the periphery of the patch image to the density information of the patch image.例文帳に追加

このように、白地部の読み取りに影響する画像領域からの影響距離ｄを算出し、パッチ画像の濃度情報に対して、当該パッチ画像周辺部で影響距離ｄよりも離れた白地部の濃度情報に基づいてパッチ画像の濃度情報を補正する。 - 特許庁

A suction valve body 34 always energized to the upstream side is pressure-contacted with a suction valve seat 24 at the tip of a cylindrical body D fitted and fixed to a rear side of the injection cylinder 12 to form a suction valve 35, and a communicating passage 23 communicating with the inside of a cylinder and the pressurized region is formed between the cylindrical body D and the injection cylinder 12.例文帳に追加

射出筒12後部に嵌着固定した筒体Ｄ先端の吸込み弁座24に、常時上流側へ付勢させた吸込み弁体34を圧接させて吸込み弁24を形成し、筒体Ｄと射出筒12との間にシリンダ内と加圧領域とを連通する連通路23を形成した。 - 特許庁

In the planar light emitting device 20, rectangular lighting regions a, b, c, d which emit light emitted by a blue organic EL element 24, a green organic EL element 26, and a red organic EL element 28 from the whole face are arranged in a plurality of stages, and each lighting region a, b, c, d is constituted to be lighted or turned off independently.例文帳に追加

平面発光装置２０を、青色有機ＥＬ２４、緑色有機ＥＬ２６及び赤色有機ＥＬ２８が発した光を全面から出射する矩形の点灯領域ａ、ｂ、ｃ、ｄを複数段配列し、各点灯領域ａ、ｂ、ｃ、ｄが独立して点灯・消灯する構成とした。 - 特許庁

This method comprises a first exposing process for exposing the substrate 12 via the mask 10 under the condition that a part of region including a defect D of the mask 10 is shielded from the light, and a second exposing process for drawing in direct a pattern with the exposure to the region on the substrate 12 corresponding to a part of region shielded in the first exposing process.例文帳に追加

この方法は、マスク１０の欠陥Ｄを含む一部領域を遮光した状態で、マスク１０を介して基板１２に対して露光を行う第１の露光工程と、第１の露光工程において遮光された一部領域に対応する基板１２上の領域に、直接露光により描画を行う第２の露光工程と、を備える。 - 特許庁

A central position of the coil pipe 32 is located on each wall side 29a of an UP side sector within the region from a symbol C to a symbol D, or a DOWN side sector within the region from a symbol E to a symbol F respectively, when an area within a spiral pipe 29 is split into four as a dashed line shows.例文帳に追加

コイルパイプ３２の中心位置は、螺旋管２９内を破線で示すように４分割したとき、記号Ｃから記号Ｄまでの範囲内のＵＰ側領域、または記号Ｅから記号Ｆまでの範囲内のＤＯＷＮ側領域のそれぞれ壁面側２９ａに配置される。 - 特許庁

A conductive film 112 as a pixel electrode is formed (Fig. (C)) and subjected to patterning operation using the same photomask to form a pixel electrode 119, source wiring 117, a drain electrode 118, a source region 115, a drain region 116 and an amorphous semiconductor film 114 for channel formation (Fig. (D)).例文帳に追加

画素電極となる導電膜１１２を形成し（図（Ｃ））、同一のフォトマスクにてパターニングすることにより、画素電極１１９、ソース配線１１７及びドレイン電極１１８、ソース領域１１５及びドレイン領域１１６、チャネルが形成される非晶質半導体膜１１４を形成する（図（Ｄ））。 - 特許庁

The mold matching surfaces 7a and 8a of the lower and upper molds 7 and 8 are brought into contact with each other in the inner region in the diametric direction of the annular stepped part D and the mold matching surfaces 7b and 8b of the upper and lower molds 7 and 8 are constituted so as to form a slight gap in the outer region in the diametric direction.例文帳に追加

環状段差部Ｄの径方向内側領域において、下型７と上型８の型合わせ面７ａ，８ａを当接させ、径方向外側領域において下型７と上型８の型合わせ面７ｂ，８ｂは若干の隙間が生じるように構成される。 - 特許庁

A conductive film 118 formed as a pixel electrode is formed (Fig. (C)) and subjected to patterning operation using the same photomask to form a pixel electrode 127, source wiring 125, a drain electrode 126, a source region 123, a drain region 124 and an amorphous semiconductor film 122 for channel formation (Fig. (D)).例文帳に追加

画素電極となる導電膜１１８を形成し（図（Ｃ））、同一のフォトマスクにてパターニングすることにより、画素電極１２７、ソース配線１２５及びドレイン電極１２６、ソース領域１２３及びドレイン領域１２４、チャネルが形成される非晶質半導体膜１２２を形成する（図（Ｄ））。 - 特許庁

When the selected SF is the leading SF, the ID of the current DF is written in the file X corresponding region of the table D, and otherwise, the ID of the current DF is written in the next file ID region of the DF in which the SF selected just in advance of the table T is written of the table T.例文帳に追加

前記選択したＳＦが先頭ＳＦである場合、テーブルＤのファイルＸ対応領域にカレントＤＦのＩＤを書き込み、そうでない場合、テーブルＴの、１つ前に選択したＳＦを書き込んだＤＦの次ファイルＩＤ領域に、カレントＤＦのＩＤを書き込む。 - 特許庁

At the time of transition from one of the pre-mix combustion region (H) and the diffusion combustion region (D) of the engine 1 to the other, an opening of an EGR valve 35 is changed, and after the actual EGR rate EGR reaches a designated switching EGR rate (a designated EGR 1), the injection mode of fuel is switched.例文帳に追加

エンジン１が予混合燃焼領域（Ｈ）又は拡散燃焼領域（Ｄ）の一方から他方に移行するとき、ＥＧＲ弁３５の開度を変更して、実ＥＧＲ率ＥＧＲが所定の切換ＥＧＲ率（所定値ＥＧＲ１）になった後に、燃料の噴射態様を切換える。 - 特許庁

At the time of making a cleaning gas to flow in a cleaning step performed for removing deposited films deposited in a treating step, the temperature of a cleaning gas supplying-side region A is set to a low value and, conversely, the temperatures of the successive regions B, C, and D are set to high values toward the exhausting-side relatively to the temperature of the region A.例文帳に追加

処理工程で堆積した堆積膜を除去するためのクリーニング工程で、クリーニングガスを流す際、クリーニングガス供給側の領域Ａの温度を低く設定し、逆に、順次領域Ｂ、領域Ｃ、領域Ｄでは、排気側に向かって、相対的に温度を高く設定する。 - 特許庁

The product of the refractive index (n) and the layer thickness(d) of the second dielectric layer 16 satisfies (nd)>130 nm so that the reflectance Ra of the amorphous phase region and the reflectance Rc in the crystal phase region in the recording layer 14 always have the relation of Ra>Rc.例文帳に追加

ここでは、第２誘電体層１６の屈折率ｎとその層厚ｄとの積ｎｄが ｎｄ＞１３０ｎｍ を満足するため、記録層１４のアモルファス相領域の反射率Ｒａと結晶相領域の反射率Ｒｃとの間には、 Ｒａ＞Ｒｃ が常に成立している。 - 特許庁

As a result, a sagging resin is suppressed from sticking to a connection terminal arranged close to the border of the coating region D on the substrate 5, to suppress failure such as defective connection to the external part.例文帳に追加

その結果、基板５上の塗布領域Ｄの境界付近に近接配置された接続端子にダレた樹脂が付着することが抑制され、外部部品との接続不良などの不具合が抑制される。 - 特許庁

When the stepping load is generated by a wheel R, the thickness of the tag 1 is reduced by elastic deformation of the holding part 3, and the RFID communication part 2 is located in a non-communicable region D.例文帳に追加

そして、車輪Ｒにより踏み付け負荷が発生した時に、保持部３の弾性変形によりタグ１の厚みが薄くなると共に、ＲＦＩＤ通信部２を通信不可領域Ｄに位置させる。 - 特許庁

A subject-side focus stroke region L1 of a main guide part 201a of the first lens holding member 201 is set to overlap an opening/closing operation plane D of the barrier members 6 and 7 along an optical axis.例文帳に追加

第１レンズ保持部材２０１の主ガイド部２０１ａの被写体側のフォーカスストローク領域Ｌ１を、バリア部材６、７の開閉動作面Ｄと光軸方向に重なるように設定する。 - 特許庁

When the vehicle comes in front of an ascending road RD, the display region D is moved in a direction indicated by an arrow in Fig.5(A) to make the present horizon line H1 and a reference horizon line H0 coincident.例文帳に追加

この車両が上り坂の道路ＲＤの手前にさしかかると、図５（Ａ）の矢印で示す方向に表示領域Ｄを移動させて、現在地平線Ｈ１と基準地平線Ｈ０とを一致させる。 - 特許庁

Then, when the driver D tilts the operation knob 7 right and left while it is pulled down, the switches 21a to 21c, 22a to 22d in either the region 18 or 19 are made selectable (switch selection mode).例文帳に追加

そして、運転者Ｄが操作ノブ７を押し下げた状態で左右に傾動すると、いずれか一方の領域１８，１９におけるスイッチ２１ａ〜２１ｃ，２２ａ〜２２ｄを選択できる（スイッチ選択モード）。 - 特許庁

The color filter 21 is formed on an opposite substrate 20 not only in the display region D but also in the outer peripheral part E at the same time to form colored layers 21R', 21G', 21B'.例文帳に追加

対向基板２０上のカラーフィルタ２１の形成は、表示領域Ｄのみでなく、外周部Ｅにおいても上述の工程と同時に行われ、着色層２１Ｒ’，２１Ｇ’，２１Ｂ’が形成される。 - 特許庁

The spacing between the substrate and S 1 may be selected to make the capacitance between S 1 and the substrate approximately equal to the capacitance between S 2 and the substrate to substantially reduce interference pickup in the high frequency region.例文帳に追加

基板とS1との間のスペースdをS1と基板の間の電気容量とS2と基板の間の電気容量をほぼ等しくして、高周波数領域内での干渉ピックアップをかなり低減することができる。 - 特許庁

V_region variable region of immunoglobulin light and heavy chains, and T-cell receptor alpha, beta, and gammachains; codes for the variable amino terminal portion; can be made up from V_segments, D_segments, N_regions, and J_segments 例文帳に追加

V_region免疫グロブリン軽鎖及び重鎖，並びにT-細胞受容体アルファ鎖，ベータ鎖及びガンマ鎖の変異性領域。変異性アミノ末端部分についてのコード。V-segments，D-segments，N-regions，及び J-segmentsから構成可能。 - 特許庁

It is furnished with a (d) driving means to drive the stepping motor by one-phase excitation by the pulse number equivalent to the total driving region so as to reduce the generated sound from the (a)(b) stepping motors in starting them.例文帳に追加

起動時に（ａ）（ｂ）、ステッピングモータからの発生音が低減するように、全駆動範囲に相当するパルス数分、１相励磁によりステッピングモータを駆動する（ｄ）駆動手段を備えている。 - 特許庁

In a scanning aligner, the moving zone of the stage during the scanning exposure of each exposure region on a wafer is composed of an acceleration zone (A, B, C), a constant speed zone (D), and a deceleration zone (E, F, G).例文帳に追加

走査露光装置において、ウエハ上の各露光領域の走査露光におけるステージの移動区間は、加速区間（Ａ，Ｂ，Ｃ）、等速区間（Ｄ）及び減速区間（Ｅ，Ｆ，Ｇ）で構成される。 - 特許庁

In manufacturing the printed wiring board Z1, the shield sheet d is temporarily thermo-compression-bonded (temporarily pasted) by a heating and pressing means to the non-wiring region as a temporary pasting area K, and then is pasted full-fledgedly.例文帳に追加

プリント配線板Ｚ１の製造方法は、上記無配線領域を仮貼りエリアＫとして上記シールドシートｄを加熱・加圧手段により仮熱圧着（仮貼り付け）した後、本熱圧着する。 - 特許庁

A protective sheath 10 attached via an opening of a split portion 11 to the outer periphery of a power cord C as a protection target is disposed at a region where the power cord C is pinched in a door D, and is subjected to shear force.例文帳に追加

保護対象となる電源コードＣの外周に切割り部１１の開口を通して装着された保護シース１０は、電源コードＣがドアＤに挟まれて剪断力を受ける部位に置かれる。 - 特許庁

Subsequently, the mold release agent S is supplied from a process liquid supply section 120 to the clearance 116, and the mold release agent S is diffused only onto the pattern region D_1 by capillary phenomenon (Figs. 12(b)-(d)).例文帳に追加

その後、処理液供給部１２０から隙間１１６に離型剤Ｓを供給し、当該離型剤Ｓを毛細管現象によってパターン領域Ｄ_１上にのみ拡散させる（図１２（ｂ）〜（ｄ））。 - 特許庁

A wettability adjusting layer 5 using a material that is changed in wettability with irradiation of light is formed within an exposed surface region of a circuit board 1 including a disconnection point D of the wiring 3 formed on the circuit board 1.例文帳に追加

基板１上に形成された配線３の断線箇所Ｄを含む基板１の露出面領域に、光照射によって濡れ性が変化する物質を用いた濡れ性調整層５を成膜する。 - 特許庁

The value d is a maximum value of the length of "a region included in the fuel electrode on a normal line" when the normal line is drawn from "a part corresponding to an outside surface of the fuel electrode among the contour of the cross-sectional shape".例文帳に追加

値ｄは、「前記断面形状の輪郭のうち燃料極の外側面に対応する部分」から法線を引いたときの「法線における燃料極に含まれる範囲」の長さの最大値である。 - 特許庁

When the dicing blade 1 has a thickness d, 80% or more of the micro capsules 13 are arranged in a region covering 1/4d from a side surface of the dicing blade 1 in a section of a thickness direction.例文帳に追加

ダイシングブレード１の厚みをｄとした場合、厚み方向の断面において、ダイシングブレード１の側面から、１／４ｄまでの領域にマイクロカプセル１３の８０％以上が配置されている。 - 特許庁

Even if the source electrode S and drain electrode D are formed of the light shielding metal, therefore, the amount of light entering the channel region of the photoelectric conversion semiconductor thin film is increased.例文帳に追加

したがって、ソース電極Ｓおよびドレイン電極Ｄを遮光性金属によって形成しても、光電変換半導体薄膜のチャネル領域への光入射量を多くすることができる。 - 特許庁

Each of the cables 54, 54 thereby makes a detour around a region inside a rear side door D in a form of being pulled out toward the front side of a vehicle body in a position kept away from a wheel mount part H of a rear wheel.例文帳に追加

これにより、各ケーブル５４，５６が、後輪のホイールマウント部Ｈから遠ざかる位置にあって車両本体の前側に向かって引き出される態様でリアサイドドアＤ内の領域を迂回する。 - 特許庁

The scanning means has a means to moving a position which moves a position of multislice ne within an image region D set by a device in a fixed manner according to the movements of the subject.例文帳に追加

このスキャン手段は、マルチスライスｎｅの位置を、装置側から固定的に設定されている撮像範囲Ｄ内において、被検体の移動に応じて移動させる位置移動手段とを備える。 - 特許庁

In each of TN on a route, the address stored in Slot 1 is written in the destination address storage region, and data after Slot 2 are shifted forwards for the size of Slot 1 (Fig (b1)-(d)).例文帳に追加

経路上のそれぞれのＴＮでは、宛先アドレス格納領域にＳｌｏｔ１に格納されたアドレスを書き込んで、Ｓｌｏｔ２以降のデータをＳＬｏｔ１のサイズ分前方へシフトする（図４（ｂ１）〜（ｄ））。 - 特許庁

The spacer 5 is provided with slots 51 corresponding to respective toner passing holes 41 and since the long side of each slot 51 is set longer than the width d of the touching region CR in the carrying direction D of the toner layer TL, toner being carried directly above the toner passing hole 41 does not touch the spacer 5.例文帳に追加

スペーサ５には各トナー通過孔４１に対応するスロット５１が設けられており、しかも、各スロット５１の長辺は、トナー層ＴＬの搬送方向Ｄにおける当接領域ＣＲの幅ｄより大きく形成されているので、トナー通過孔４１の直上に搬送されてくるトナーはスペーサ５に接触しない。 - 特許庁

In the boundary between a gate oxide film 112 formed on a silicon substrate 101 of an element forming region 10 and an element separating film 110 contacted with the gate oxide film 112, the thickness D' of a gate electrode 114 is made larger than the uniform thickness D of the gate electrode 114 present on the gate oxide film 112.例文帳に追加

素子形成領域１０のシリコン基板１０１上に形成したゲート酸化膜１１２と、このゲート酸化膜１１２に接する素子分離膜１１０との境界において、ゲート電極１１４の厚みＤ’を、ゲート酸化膜１１２上のゲート電極１１４均一な厚みＤよりも大きくする。 - 特許庁

The ion implantation apparatus is provided with an infrared camera 36 for measuring a temperature distribution of a region including a slit 26 of an analytic slit plate 24 to output temperature data D representing the temperature distribution and a data processing unit 38 for processing the temperature data D from the infrared camera 36 to measure the size of the slit 26 of the analytic slit plate 24.例文帳に追加

分析スリット板２４のスリット２６を含む領域の温度分布を測定して当該温度分布を表す温度データＤを出力する赤外線カメラ３６と、この赤外線カメラ３６からの温度データＤを処理して、分析スリット板２４のスリット２６の寸法を測定するデータ処理装置３８とを設けた。 - 特許庁

Since the resistance of a flow passage is increased by the filter 8 provided in front of the discharge orifice 2 of the coating nozzle when the coating material D supplied from a supply port 5 is discharged from the discharge orifice 2 through a liquid sump part 6, the coating material D is dispersed to the entire region of the discharge orifice 2 to be adjusted to uniform pressure.例文帳に追加

供給口５から供給された塗布材料Ｄが液溜め部６を通して吐出口２より吐出される際、塗布ノズル１内の吐出口２の前に設けたフィルター８により流路抵抗が増すので、塗布材料Ｄが吐出口全域に分散され均一な圧力に整圧される。 - 特許庁

By forming a modification region P inside a wafer W at a part other than a dicing street S and near the semiconductor element E inside the semiconductor device D, gettering effect is obtained and the traverse rupture strength of the chip C is improved, without imparting distortions to the periphery of the individual chip C, where the semiconductor device D is formed.例文帳に追加

改質領域ＰをダイシングストリートＳ以外の箇所であって半導体装置Ｄ内の半導体素子Ｅの近傍であるウェーハＷ内部へ形成することにより、ゲッタリング効果を得ると共に半導体装置Ｄが形成された個々のチップＣの周囲に歪みを与えずチップＣの抗折強度向上が可能となる。 - 特許庁

Further, aligning a division-predetermined-line S formed on the glass wafer W and a compartment-line 101 formed on the supporting tool 100 aligns the liquid crystal device D and a suction-holding-region 102 to perform dicing by cutting the division-predetermined-line S in this condition into liquid crystal devices D.例文帳に追加

そして、ガラスウェーハＷに形成された分割予定ラインＳと支持治具１００に形成された区画線１０１とのアライメントを行うことにより液晶デバイスＤと吸引保持領域１０２との位置合わせを行い、その状態で分割予定ラインＳを切削してダイシングすることにより個々の液晶デバイスＤに分割する。 - 特許庁

When the data quantity d of the data output is larger than a predetermined value D, an addition fee n1 is increased to a basic fee N0, and when the data output mode is not a high quality mode, data is compressed so that the data occupancy region in a data copying machine 108 can be reduced, and the addition fee n1 is reduced.例文帳に追加

データ出力のデータ量ｄが所定の値Ｄより大きいときは、基本料金Ｎ０に加算料金ｎ１を増額し、データ出力モードが高品質モードでないときは、データ圧縮を行うことにより、デジタル複写機１０８のデータ占有領域を低減し、加算料金ｎ１を減額する。 - 特許庁

This is probably due to the fact that Japanese companies’ entry into the Asian region has traditionally been focused on the region’s role as an export base rather than on the sales in the local markets, and therefore the companies did not implement proactive R&D activities pertinent to design and development of products that match the local needs.例文帳に追加

これは、主にアジア地域における日　本企業の海外事業活動の中心が、これまで輸出拠点　型の進出が主体であったことから、現地販売のための市場ニーズに対応した製品設計・開発等に係る　R&Dに日本企業が積極的に取り組んでこなかったためと考えられる。 - 経済産業省

This appreciation support system identifies a guidance terminal 20 carried by the user and existing within a detectable region for each sensor terminal 10 placed near each exhibit D for each exhibit D and each guidance terminal 20, and distributes by radio the guidance information GV on the exhibit D nearest to the user to each identified guidance terminal 20 from a content server 40 via a distribution terminal 30.例文帳に追加

各展示物Ｄの近傍に設置されている各センサ端末１０毎の検出可能領域内に存在する利用者が携行するガイダンス端末２０を、展示物Ｄ毎且つガイダンス端末２０毎に識別し、当該利用者の位置に最も近い展示物Ｄについてのガイダンス情報ＧＶを、配信端末３０を介してコンテンツサーバ４０からその識別されたガイダンス端末２０夫々に無線配信する。 - 特許庁

Each trench 5 extends in the column direction Y and a plurality of arcuate parts 11 are connected to meander such that a fixed clearance D is provided between adjoining trenches 5 and between the trench 5 and the body contact region 9.例文帳に追加

各トレンチ５は、列方向Ｙに延び、隣り合うトレンチ５間およびボディコンタクト領域９との間にそれぞれ一定間隔Ｄが生じるように、複数の弧状部１１を連結した蛇行状をなしている。 - 特許庁

When the vehicle comes in front of the ascending road RD, the display region D is moved in a direction indicated by an arrow in Fig.(A) to make a present infinite distance P1 and the reference infinite distance P0 coincident.例文帳に追加

この車両が上り坂の道路ＲＤの手前にさしかかると、図４（Ａ）の矢印で示す方向に表示領域Ｄを移動させて、現在無限遠点Ｐ１と基準無限遠点Ｐ０とを一致させる。 - 特許庁

In the plane view from the side of the object F, the light shielding layer BM overlaps with the separation region between the second and third electrodes 24, and the light receiving surface of the light receiving element D is positioned inside the opening of the light shielding layer BM.例文帳に追加

対象物Ｆ側から平面視した場合に、遮光層ＢＭは第２，第３電極２４間の離間領域と重なり、受光素子Ｄの受光面は遮光層ＢＭの開口部内に位置する。 - 特許庁