「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(264ページ目) - Weblio英語例文検索

The optical waveguide is manufactured by a self-cloning method, in which the ratio of the deposition to that of the etching is optimized, when the core or a part of the core formed with a dielectric multilayer type photonic crystal is sputter etched simultaneously or alternately sputter deposited.例文帳に追加

誘電体多層膜型のフォトニック結晶で構成されるコアあるいはコアの一部を、スパッタデポジションと同時あるいは交互にスパッタエッチングを行う際、デポジションとエッチングの比率を適正化する自己クローニング法により作製する。 - 特許庁

Accordingly, the substance generation apparatus which can cleanly maintain the interior of the apparatus disposed with the deposition-preventive cover and forms the uniform and homogeneous product of the high purity and the uniform and homogeneous treated object of the high purity can be provided.例文帳に追加

従って、防着カバーが配設される装置内を清浄に保持することができ、高純度で均一且つ均質な生成物を生成する物質生成装置、及び高純度で均一且つ均質な被処理物を提供することができる。 - 特許庁

In this case, an aerosol deposition method which is a depositing method using a room-temperature impact solidification phenomenon for forming a thin film having the nano-metal fine particles dispersed in an oxide type electro-optic material having the high working speed is suitably used.例文帳に追加

その際、動作速度の速い酸化物系電気光学材料中にナノ金属微粒子が分散されている薄膜の形成には、常温衝撃固化現象を利用した成膜法である、エアロゾルデポジション法が好適に利用される。 - 特許庁

A processing apparatus 1 as the vapor deposition apparatus comprises a susceptor 5, a reaction tube 3, a cooling member (a gap between an outer periphery member 6 and an inner periphery member 8 of an upper wall 4 of the reaction tube, and a cooling material 10), and a heater 9.例文帳に追加

気相成長装置としての処理装置１は、サセプタ５と反応管３と冷却部材（反応管上壁４の外周部材６と内周部材８との間の間隙および冷却材１０）とヒータ９とを備える。 - 特許庁

To provide a process for producing non-scattering plastic microballoons which solves problems as to handleability in use, for example, in the charging operation, the deposition on a device used, the trouble in a metering device, the contamination of a device used and the manufacturing environment, and the like.例文帳に追加

使用時の取扱い性、例えば、仕込み作業、使用装置への付着、計量装置でのトラブル、使用装置や製造環境の汚染等の問題が解決された非飛散性プラスチックマイクロバルーンの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a die by electric discharge machining, eliminating an inconvenience of defective shaping of the die due to deposition of machined chips wherein the die for use in shaping an item such as a cylinder block of an engine has a plurality of slender ribs protruding at predetermined intervals via deep grooves.例文帳に追加

エンジンのシリンダブロックのように複数の細長いリブが深い溝を介して所定間隔置きに突設される金型を放電加工で製造する際、加工粉が溜まることによる形状不良等の不具合を防止する。 - 特許庁

In the step of the vapor-depositing operation with the use of the vapor-deposition mask 8, the buffer layer 7 contacts with the substrate to be vapor-deposited, to prevent a damaging of an element such as an organic semiconductor film provided on the substrate to be vapor-deposited.例文帳に追加

蒸着マスク８を用いて蒸着作業を行うときには、緩衝層７が被蒸着基板に接触することにより、被蒸着基板上に設けられている有機半導体膜などの素子の破損が防止される。 - 特許庁

The cash depositor/dispenser 1 has customer reception sections 1a, 1b each having a cash depositing mechanism and a change dispensing mechanism, on both sides facing the lanes A, B, and therefore the customers each carry out deposition of cash and reception of change and receipt at each of the customer reception sections 1a, 1b.例文帳に追加

入出金装置１はレーンＡ側とＢ側に、それぞれ入金機構及び釣り銭出金機構をもつ接客部１ａ、１ｂを有し、この接客部１ａ、１ｂにおいて入金と釣り銭及びレシートの受け取りを行う。 - 特許庁

The graphite-particle deposition layer 7 shows the I_D/I_G of 1 or less, which is a ratio of an integrated intensity I_D in a peak that represents a band (D) obtained by separating a peak of a Raman spectrum obtained from Raman spectroscopy, to an integrated intensity I_G in a peak that shows a band (G).例文帳に追加

グラファイト粒子堆積層７は、ラマン分光分析によるラマンスペクトルをピーク分離して得られる、Ｄバンドを表すピークの面積強度Ｉ_D とＧバンドを表すピークの面積強度Ｉ_G の比たる、Ｉ_D ／Ｉ_G が１以下である。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a deposited film forming apparatus capable of efficiently removing by-product adhered in a reaction vessel and an exhaust pipe when depositing a film, shortening the cleaning time, and realizing mass production of the functional deposition film having excellent characteristics at a low cost.例文帳に追加

堆積膜形成の際に反応容器内及び排気管内に付着した副生成物を効率よく除去してクリーニング処理時間を短くし、良好な特性をもつ機能性堆積膜を安価に量産する。 - 特許庁

To provide a method of preventing deposition of abrasive particles in a spinning type cutting machine cover container which prevents abrasive particles from being deposited in a cover container of a spinning type cutting machine for cutting a steel material, and also to provide a cutting machine cover container.例文帳に追加

鉄鋼材料を切断するための回転式切断機のカバー容器内に砥粒が堆積するのを防止する回転式切断機カバー容器内砥粒堆積防止方法および切断機カバー容器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a multilayer thin film capable of easily making its quality to the high one by stabilizing the flow rate of 2nd gas in a chemical vapor deposition method in which the 2nd gas is intermittently mixed at the time of film formation by a 1st gas.例文帳に追加

第１ガスによる成膜時に第２ガスを間欠的に混合する化学蒸着法において、第２ガスの流量を安定化させて容易に高品質化できる多層薄膜の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a state that the evaporation source 2 moves outside the vacuum chamber 1 to make a space, one of the mobile chamber sections horizontally moves into the fixed chamber section 6 and is connected to it, and then vacuum deposition treatment is carried out.例文帳に追加

前記蒸発源２が前記真空チャンバ１外に上昇して退避した状態で、前記固定チャンバ部６に対していずれか一方の移動チャンバ部が水平移動して連結され、真空蒸着処理が行われる。 - 特許庁

Crushing operation is continued by returning the supernatant water 2 generated in the transfer tank T2 to the storage tank T1, allowing the supernatant water 2 to be spurted by way of a supernatant water spurter 6 and blowing the supernatant water 2 hard over a sludge deposition layer 11.例文帳に追加

移送タンクにおいて生じた上澄み水２を貯蔵タンクに返還し、上澄み水噴出装置６を通じて噴出させ、スラッジ堆積層１１に向かって勢いよく吹き当てることにより破砕する操作を継続する。 - 特許庁

To provide a method for evaluating a crystal defect of a silicon single-crystal wafer, evaluating a minute DSOD (Direct Surface Oxide Defect) or the like accurately and easily, without incurring wasteful cost, which is once evaluated only by a Cu deposition method.例文帳に追加

従来Cuデポジション法でしか評価できなかった微小なＤＳＯＤ等を簡便でかつ無駄なコストをかけることもなく、更に精度良く評価可能なシリコン単結晶ウエーハの結晶欠陥の評価方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that glass particles are liable to be deposited on the peripheral part of the outlet end of the burner hole 16 by the reaction of invaded air with the recycled furnace gas, and to prevent deposition of glass on the peripheral part of a burner hole 16 in a furnace for high purity molten silica glass.例文帳に追加

浸入した空気が再循環された炉ガスと反応して、バーナ孔16の出口端の周りにガラス粒子が堆積する傾向にある、高純度溶融シリカガラスの炉中でバーナ孔16の周りにガラスが蓄積するのを防ぐ。 - 特許庁

To obtain an anode deposition type electrocoating composition excellent in concealing properties for microstructures of metal substrates called die marks, capable of forming a coating film having high class of appearance with brightness and used for coating metal products such as aluminum, iron and the like.例文帳に追加

アルミニウムや鉄等の金属製品の塗装に用い、ダイスマークと呼ばれる金属素地の微細形状の隠蔽に優れ、光輝感のある高級外観の塗膜を形成できる陽極析出型電着塗料組成物の提供。 - 特許庁

In a method of manufacturing a piezoelectric film 17 as the dielectric film, a first piezoelectric film 15 to be preferentially oriented to (002) is first formed on a lower electrode layer 14 preferentially oriented to (002) using a sputtering method or an MOCVD (metal organic chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

圧電体膜１７の製造方法は、まず、（００２）に優先配向された下部電極層１４上に、同じ（００２）に優先配向する第１圧電体膜１５をスパッタ法又はＭＯＣＶＤ法を用いて形成する。 - 特許庁

To provide a vent method and a substrate processing device for a vacuum preliminary chamber capable of certainly preventing a pressure application of a vacuum preliminary chamber at the time of venting even if a relief valve is not used and a particle deposition to the substrate.例文帳に追加

リリーフ弁を用いなくてもベント時の真空予備室の加圧を確実に防止することができ、しかも基板へのパーティクル付着を防止することができる真空予備室のベント方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In opening/closing operation of a shutter member 60, a deposition attached on the surface of each dust-proof glass 48Y, C, M, K is removed by each first cleaning member 67Y, C, M, K made of a nonwoven fabric provided on the end portion of each shield member 66Y, C, M, K.例文帳に追加

シャッター部材６０の開閉動作のときは、各遮蔽部材６６Y，C，M，Kの先端に設けられた不織布からなる第１清掃部材６７Y，C，M，Kにより各防塵ガラス４８Y，C，M，Kの表面に付着した付着物を除去する。 - 特許庁

To provide a carbon nanotube thin film deposition ECR plasma CVD system using a slot antenna which requires little labor, has high capacity of producing a carbon nanotube, low electric power consumption, and low production cost and to provide a method for depositing the same thin film.例文帳に追加

手間がかからず、カーボンナノチューブの生産能力が高く、電力の消費量が低く、製造コストの安い、スロットアンテナを用いたカーボンナノチューブ薄膜形成ＥＣＲプラズマＣＶＤ装置及び該薄膜の形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a magnetron cathode in which the deposition efficiency of a target material is high even when a ferromagnetic target is used, and the discharge at a low pressure is stable, and a sputtering apparatus.例文帳に追加

本発明は、特に強磁性体ターゲットを用いた場合であっても、ターゲット材料の付着効率が高く、さらには低圧での安定した放電を可能とするマグネトロンカソード及びスパッタリング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The thin film deposition system is provided with: a supporting electrode for supporting a base material; and a bar electrode for forming a discharge space oppositely to the supporting electrode and generating a high frequency electric field inside the discharge space together with the supporting electrode.例文帳に追加

薄膜形成装置には、基材を支持する支持電極と、支持電極に対向して放電空間を形成し、支持電極とともに放電空間内に高周波電界を発生させる棒電極とが備えられている。 - 特許庁

The hard material is produced by using a plasma-enhanced chemical vapor deposition method by pulse discharge, and subjecting the oxide of at least one of elements selected from B, Ti, W, and Si to hydrogen reduction, then to nitriding, carbonizing or carbonitriding.例文帳に追加

硬質物質は、パルス放電によるプラズマ化学気相成長法を用いて、Ｂ、Ｔｉ、ＷおよびＳｉから選択される少なくとも１種の元素の酸化物を水素還元し、窒化、炭化または炭窒化させることにより製造される。 - 特許庁

To provide a method for depositing a deposited film of high quality having excellent uniformity, higher in reproducibility and small in defects at the time of depositing a deposited film on a substrate by a plasma CVD method and to provide a deposited film deposition system.例文帳に追加

基体上にプラズマＣＶＤ法により堆積膜を形成するに際して、高品質で優れた均一性を有し、より再現性が高く欠陥の少ない堆積膜形成方法および堆積膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV (extreme ultraviolet) radiation source which has a contamination barrier to reduce a deposition rate of such as ion, atom, molecule or particle debris on a light collecting mirror and to minimize an amount of EUV radiation to be absorbed, scattered, or deflected.例文帳に追加

集光ミラー上へのイオン、原子、分子及び粒状デブリなどの堆積率を減少させ、吸収、散乱又は偏向されるＥＵＶ放射の量を最小限にするための汚染バリアを有するＥＵＶ放射源を提供する。 - 特許庁

Argon gas and gas containing carbon is mixed with each other and introduced from a gas inlet 11, the bias voltage is applied to the rotary shaft 10, the voltage of a sputter power source 17 is applied to the vapor deposition source 15 to generate plasma in the vacuum tank 13.例文帳に追加

ガス導入口１１からアルゴンガスと炭素を含むガスを混合し導入し、その後、回転軸１０にバイアス電圧を印加し、蒸発源１５にはスパッタ電源１７を印可し、真空槽内１３にプラズマを発生させる。 - 特許庁

It is advantageous that remote plasma of oxygen (O2) as a reactive gas exposed to microwaves in a gas feed pipe (3) is used in the reactor (1) to generate free radicals of gas enough in amount to induce a deposition reaction.例文帳に追加

有利なこととして、蒸着反応を起こすのに十分なガスの自由基を発生させるために反応器（１）にガス供給管（３）内部でマイクロ波にさらされた反応ガスである酸素（Ｏ_2）の遠隔プラズマが用いられる。 - 特許庁

To improve powder transport capacity, by preventing sticking-deposition of powder on a bypass pipe, when pneumatically transporting fine powder such as carbon black, by using a double damper type continuous-suction pneumatic transport device having the bypass pipe.例文帳に追加

バイパス管路を備えたダブル・ダンパー型連続吸引式空気輸送装置を用いて、カーボンブラックのような微細な粉体を空気輸送するにあたり、バイパス管路への粉体の付着・堆積を防止し、粉体輸送能力を向上させる。 - 特許庁

The gas-barrier substrate has a base, a flattening layer formed on the base and the gas-barrier layer of a vapor deposition film formed on the flattening layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成された平坦化層と、前記平坦化層上に形成された蒸着膜からなるガスバリア層とを有することを特徴とするガスバリア性基板を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion type pH-measuring instrument capable of immersing a pH measuring electrode into a measured liquid to accurately measure precisely the pH, and capable of reducing deposition of contaminants in the measured liquid onto the pH-measuring electrode.例文帳に追加

被測定液中にＰＨ測定電極を浸漬してＰＨを精度良く測定することができると共に、ＰＨ測定電極への被測定液中の汚れの付着を低減することができる浸漬型ＰＨ測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus having a mask pattern forming machine which facilitates the pressure adjustment of a print roller and a backup roller and improves the productivity by increasing the operational speed with less unclear pattern or less wear/breakage of projecting parts.例文帳に追加

印刷ローラとバックアップローラの押し圧調整を容易にし、パターンの不鮮明や凸部の磨耗破損の少ない、かつ、高速化により生産性向上が可能なマスクパターン形成機を設けた真空蒸着機を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the hard carbon film sliding member comprises forming the hard carbon film of ≤0.5at% in the content of the hydrogen atoms in the sliding area of the sliding member composed of steel as the base material by a PVD (Physical Vapor Deposition) method.例文帳に追加

硬質炭素被膜摺動部材の製造方法では、鋼材を基材とする摺動部材の摺動部位に、水素原子の含有量が０．５原子％以下の硬質炭素被膜をＰＶＤ法（物理気相堆積法）により形成する。 - 特許庁

A plurality of guide passages 4a, 4b, 4c are provided, and the film thickness distribution on the film deposition surface 9 of a substrate is improved by controlling the flow rate of the molecular vapor and the directionality of molecular vapor.例文帳に追加

複数の案内路４ａ、４ｂ、４ｃを設け、この案内路４ａ、４ｂ、４ｃにより分子蒸気の流量と分子蒸気の方向性を制御することで基板８の成膜面９上の膜厚分布を改善するものである。 - 特許庁

To provide a resin composition for undercoat for metal deposition which is a thermosetting or active energy ray curing type, is excellent in adhesion with a substrate, such as a plastic and a metal, and does not lose external appearance of metal under high temperature and high humidity.例文帳に追加

熱硬化型または活性エネルギー線硬化型でプラスチック等の基材及び金属との密着性に優れ、高温高湿下においても金属外観を損なわない金属蒸着向けアンダーコート用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The deposition preventing structure 10 includes a screen body 11 installed extending from the water bottom G close to the water surface S to face the flow direction A of water on upstream side of the sedimentation area 3 of the reservoir 2.例文帳に追加

この堆積防止構造物１０は、貯水池２の堆砂域３の上流部において水の流れ方向Ａに正対するように水底Ｇから水面Ｓ近傍まで延びて設置される衝立体１１から構成される。 - 特許庁

A first raw material gas refining device 3 generates a zinc raw material gas introduced into a film deposition chamber from diethylzinc, and is mainly composed of liquid raw material vaporization vessels 21a, 21b in which pressure can be reduced and heaters 22a, 22b.例文帳に追加

第一原料ガス精製装置３は、成膜チャンバーに導入される亜鉛原料ガスをジエチル亜鉛から生成させるものであり、減圧可能な液体原料気化容器２１ａ，２１ｂとヒータ２２ａ，２２ｂを主要構成としている。 - 特許庁

Parameters include capacity maintenance rates of each electrode that is shown by formulas (I) and (II) below and varies in accordance with deterioration due to abrasion and variations in battery capacity that is shown by formula (III) below and varies in accordance with deterioration due to abrasion and lithium deposition.例文帳に追加

パラメータは下記式（I）及び（II）で示され、摩耗による劣化に応じて変化する単極の容量維持率と、下記式（III）で示され、摩耗およびリチウム析出による劣化に応じて変化する電池容量の変動量とを含む。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus that ensures that a light source is cooled and does not cause a problem of a negative effect on human body while preventing the deposition of soils due to sulfides and sublimates created on a substrate surface.例文帳に追加

露光装置において、硫化物や基板表面から発生する昇華物を起因とする汚れの付着を防止する場合に、光源の冷却は確実に行われ、かつ、人体への影響が問題とならないようにする。 - 特許庁

Gas of organosilicon compound is introduced into a vacuum vessel 20, at the same time, vapor of SiO_2 is released from a vapor deposition source 21 and a protective film made of silicon oxide thin film containing carbon is formed on the surface of a PC substrate 25.例文帳に追加

真空槽２０内に有機ケイ素化合物の気体を導入しながら蒸着源２１からＳｉＯ_2の蒸気を放出させ、ＰＣ基板２５表面に炭素を含有するシリコン酸化物薄膜から成る保護膜を形成する。 - 特許庁

The inkjet recording apparatus acquires position information of a defective discharge nozzle and, based on the position information, determines whether the defective discharge has been caused by a bubble or a dust particle deposition, and selects an ink circulation mode or a wiping mode.例文帳に追加

吐出不良ノズルの位置情報を取得し、その位置情報に応じて、気泡が原因の吐出不良であるか、ゴミの付着が原因の吐出不良であるかを判断し、インク循環モードもしくはワイピングモードを選択する。 - 特許庁

To prevent a reduction in a production yield due to deposition of a flake of a reaction product to a substrate or to a compound semiconductor layer on the substrate in manufacturing of a compound semiconductor using a metal organic vapor phase epitaxy.例文帳に追加

有機金属気相成長法を用いた化合物半導体の製造において、剥がれた反応生成物が基板または基板上の化合物半導体層上に付着することに起因する歩留まりの低下を抑制する。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device includes a step of depositing a hole forming agent-containing film having a plurality of regions differing in carbon concentration, hole forming agent concentration, and oxygen concentration, on a semiconductor substrate by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

半導体基板の上に、化学気相成長法により、炭素濃度、空孔形成剤濃度及び酸素濃度がそれぞれ異なる複数の領域を有する空孔形成剤含有膜を形成する工程を備えている。 - 特許庁

To provide a metal deposition film used for manufacture of a film capacitor used for various electric apparatuses of a defibrillator, and very small in impact sound in self-recovery by dielectric breakdown, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

外部除細動器の各種電気機器用に使用される絶縁破壊による自己回復時の衝撃音が非常に小さいフィルムコンデンサの製造に使用される金属蒸着フィルム、及び、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet recorder equipped with ink receiving parts which can prevent ink smear in the recorder and of a recording medium by preventing generation of ink mist and deposition of ink while suppressing complexity or cost increase of the recorder.例文帳に追加

装置の複雑化やコストアップを抑えながら、インクミストの発生およびインクの堆積を防止し、装置内部および記録媒体のインク汚れを防止することができるインク受け部を備えたインクジェット記録装置を提供する。 - 特許庁