「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(265ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polyalkylene glycol-based copolymer which when used for detergent application, exhibits further improved performance to inhibit surfactant deposition as compared with a conventional one, and which can be preferably added to a detergent composition.例文帳に追加

洗剤用途に用いられた場合に従来より一層改善された界面活性剤の析出抑制能を示し、洗剤組成物に好ましく添加することができるポリアルキレングリコール系共重合体を提供することを目的とする。 - 特許庁

The resistance heating evaporation source 2 is used in a vacuum chamber 1 of a vacuum deposition device 10 by which a film of an evaporated metal Li is formed on an object 3, and the metal Li is evaporated by holding and heating a metal Li.例文帳に追加

蒸発させた金属Ｌｉを成膜対象３に成膜する真空蒸着装置１０の真空チャンバー１内で使用され、金属Ｌｉを保持・加熱することで金属Ｌｉを蒸発させる抵抗加熱蒸発源２である。 - 特許庁

To provide an article having a coating greatly reducing adhesion strength of ice to the surface of a coated component and showing high resistance to erosion by sand or coarse particles or deposition of dust (debris) of dirt or insects.例文帳に追加

被覆部品の表面への氷の接着強度を著しく低減するとともに、砂や粗粒子による浸食及び埃や昆虫などの塵（破片）の堆積などに対して高い耐性を示す皮膜が設けられた物品の提供。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing a silicon single crystal where the deposition and sticking of SiO_2 in a furnace is effectively suppressed when the silicon single crystal is produced by a floating zone method using a silicon raw material containing oxygen.例文帳に追加

酸素を含有するシリコン原料素材を用いてフローティングゾーン法でシリコン単結晶を製造する際に、炉内でのＳｉＯ_２の析出・付着を効果的に抑制することが可能なシリコン単結晶の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for suppressing fat deposition in a fat cell and useful for treatment of obesity and metabolic syndrome, an antiobesity agent, a food and drink containing the composition, a pet food and a pharmaceutical product.例文帳に追加

肥満、さらには、メタボリックシンドロームに有用な脂肪細胞への脂肪蓄積抑制を目的とした組成物、あるいは、抗肥満剤、並びに該組成物を含有してなる飲食品、ペットフード、又は医薬品を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a film deposition method by which the elution of Co is suppressed and a uniform Cu film having high adhesiveness is formed on a Co seed in the case when a Cu film is deposited by electrolytic plating using Co as a plating seed.例文帳に追加

Ｃｏをメッキシードとして電解メッキによるＣｕ膜を成膜する場合に、Ｃｏの溶出を抑制してＣｏシード上に均質でかつ密着性の高いＣｕ膜を形成することができる成膜方法を提供すること。 - 特許庁

The deposition substrate 1 is provided in which a thin film layer 3 having an uneven structure is deposited in a flat part on the surface of a depositing substrate 2, and the uneven structure is formed by depositing the thin film layer 3 including indium oxide.例文帳に追加

成膜基板１は、被成膜基板２表面の平坦部に、凹凸構造を有する薄膜層３が成膜された基板であって、凹凸構造は、酸化インジウムを含んだ薄膜層３が成膜されることで形成されたものとする。 - 特許庁

According to the present invention, especially, mass-production of the semiconductor device having large area and high image quality can be realized without increasing a process cost and decreasing yields, because it is not necessary to add any mask process and deposition process.例文帳に追加

特に、本発明によれば、別途のマスク工程や蒸着工程を追加する必要がないので、工程コストの上昇や収率減少をもたらすことなく、大面積・高画質の半導体装置を大量生産することができる。 - 特許庁

The irradiated light is made incident on a dextrorotatory circular polarizing plate 22 transmitting through a transparent base plate 28, a binder 26 and metal deposition film 24, and only the dextrorotatory circular polarization is emitted from a surface 22A of the dextrorotatory circular polarizing plate 22.例文帳に追加

照射された光は、透明基板２８、バインダー２６、及び金属蒸着膜２４を透過して右旋性円偏光板２２に入射し、右旋性円偏光のみが右旋性円偏光板２２の表面２２Ａから出射する。 - 特許庁

In order to grow the multielement metal oxide thin film epitaxially on the crystal nuclei, a plurality of thin film material gases (Pb, Zr, Ti) becoming the material of crystal are supplied from a second gas supply system to the film deposition system.例文帳に追加

結晶核上に多元系金属酸化物薄膜の結晶を成長させるために、結晶の原料となる複数の薄膜原料ガス（Ｐｂ，Ｚｒ，Ｔｉ）を第２のガス供給系により成膜装置に供給する。 - 特許庁

After formation of a sidewall 15, the dummy gate electrode 22 and the offset spacer 24 are removed, and a gate insulating film 13 made of a high dielectric constant material and a metal gate electrode 14 are formed using a highly anisotropic deposition method.例文帳に追加

そして、サイドウォール１５の形成後、ダミーゲート電極２２とオフセットスペーサ２４とを除去し、高誘電率材料からなるゲート絶縁膜１３とメタルゲート電極１４とを異方性の高い堆積方法を用いて形成する。 - 特許庁

The ion beam sputtering system performs deposition on a substrate 14 by the particles jumped out of a target 21 by irradiating the target 21 with the ion beam 17, in which the shape of the sputtered surface 21a of the target 21 is formed as a recessed surface shape.例文帳に追加

ターゲット２１にイオンビーム１７を照射し、ターゲット２１から飛び出した粒子によって基板１４上に成膜を行うイオンビームスパッタ装置において、ターゲット２１のスパッタリングされる表面２１ａの形状を凹面形状とする。 - 特許庁

Also, a cleaning effect is enhanced and the deposition of the reaction products is suppressed by providing the apparatus with an auxiliary heater for heating the portions where the reaction products deposit on the quartz parts only during the cleaning process.例文帳に追加

また、石英部品上に反応生成物が堆積する部分をクリーニングプロセス中にのみ加熱する補助加熱装置を備えることによりクリーニング効果を上げて反応生成物の堆積を抑制させることにより解決できる。 - 特許庁

To provide a sputtering target capable of prolonging the lifetime while maintaining a constant surface shape without supplementing any film material, and depositing a film without optical absorption with excellent reproducibility without any limitation in the film deposition direction during the sputtering.例文帳に追加

表面形状を一定として膜材料の継ぎ足し等がなく長寿命化するとともに、スパッタリング時の成膜方向の制約がなく、光吸収のない膜を再現性よく形成できるスパッタリングターゲットを提供すること。 - 特許庁

When this electromagnetic wave shielding material 20 is to be manufactured, first the transparent base 21 is prepared, many first linear metal layers 22A arranged in one direction are formed on this transparent base 21 through mask vapor deposition.例文帳に追加

この電磁波シールド材２０を製造する場合、まず透明基材２１を準備し、この透明基材２１上に、マスク蒸着により、一方向に並ぶ直線状の多数の第１直線状金属層２２Ａを形成する。 - 特許庁

Further, the antenna array is arranged in a space upper-stream in a gas flow direction of the oxidation gas supplied toward the substrate stage from a supply hole formed in a sidewall of the deposition container, than a position where the substrate is mounted on the substrate stage.例文帳に追加

また、アンテナアレイは、基板ステージ上に基板が載置される位置よりも、成膜容器の側壁に形成された供給孔から基板ステージに向けて供給される酸化ガスのガス流方向の上流側の空間に配設されている。 - 特許庁

The metal or metal compound coated optical fiber can be obtained by coating at least part of a coated optical fiber at a joining end with a coating material containing a metal or metal compound by using a vacuum arc vapor deposition process.例文帳に追加

真空アーク蒸着法を用いて、接合端部の光ファイバ芯線の少なくとも一部を金属または金属化合物を含む被覆材で被覆することによって得ることのできる金属または金属化合物被覆光ファイバ。 - 特許庁

The method for producing soybean protein comprises making transglutaminase act on the solution of soybean protein (soybean protein obtained through neutralizing defatted soy milk or acidic deposition curd corrected by subjecting the soy milk to isoelectric precipitation) followed by subjecting the thus acted soybean protein solution to protease treatment.例文帳に追加

大豆蛋白（脱脂豆乳または該豆乳を等電沈殿させて回収した酸沈殿カードを中和して得た大豆蛋白）の溶液にトランスグルタミナーゼを作用させた後、プロテアーゼ処理を施す大豆蛋白の製造法。 - 特許庁

A method for protecting an article from a high temperature, oxidative environment is presented, along with alloy compositions and ion plasma deposition targets (108) suitable for use in the method, and an article used in the environment.例文帳に追加

物品を高温酸化環境から保護する方法と共に、その方法において使用するのに適する合金組成及びイオンプラズマ蒸着ターゲット（１０８）、並びにそのような環境において使用するための物品が提示される。 - 特許庁

An aluminum oxide dielectric layer with high purity and having a volume specific resistivity of 108-1013 ohms cm or 1010-1013 ohm cm is formed on a substrate arranged electrodes thereon by an ultrafine particle beam deposition method.例文帳に追加

高純度でかつ体積固有抵抗値が１０^8〜１０^13Ω・ｃｍもしくは１０^10〜１０^13Ω・ｃｍである酸化アルミニウム誘電体層を超微粒子ビーム堆積法により電極を配置した基板上に形成した。 - 特許庁

To provide a composition for the oral cavity remarkably improving deposition of a mineral on dentinal tubules, effectively constricting and sealing the dentinal tubules, and having excellent relaxing and prophylactic effects on dentine hypersensivity, and a good feeling of use.例文帳に追加

ミネラルの象牙細管への沈着を飛躍的に向上させることができ、象牙細管が効果的に狭窄・封鎖されて、象牙質知覚過敏の緩和・予防効果に優れ、かつ良好な使用感を有する口腔用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode device for electrodialysis which can suppress deposition of a contaminant, such as coloring matter, and perform stable deionization treatment by electrodialysis for a long time even in the case of the deionization treatment of night soil of a domestic animal.例文帳に追加

色素などの汚染物質の沈着が抑制され、家畜の屎尿などの脱イオン処理にも長時間にわたって安定に電気透析による脱イオン処理を行うことが可能な電気透析用電極装置を提供する。 - 特許庁

The electron emitting source is an electron gun for an electron beam vapor deposition device, an electron beam welding device, or an electron beam machining device formed of carbide of one or more kinds of metal elements selected from a group composed of Ta, Hf, Nb, and Zr.例文帳に追加

本発明は、Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、及びＺｒからなる群の１種以上から選ばれた金属元素の炭化物からなる、電子ビーム蒸着装置、電子ビーム溶接装置、又は電子ビーム加工装置用の電子銃である。 - 特許庁

Fine holes 4 are formed in the flow channel 1 for introducing the inert gas, and the inert gas is allowed to flow into the inside of the flow channel 1 from the outside filled with the inert gas, thereby, the deposition of the arsenic compound on the flow channel 1 is inhibited.例文帳に追加

そのための手段として、フローチャネル１に微小孔４を形成することにより、不活性ガスで満たされた外部からフローチャネル１内に不活性ガスを流し、フローチャネルへのヒ素化合物の堆積を抑止することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a firing device of a plasma display panel in which deposition on and entrance to the panel structure of the wear powder generated by friction of a roller and a setter is reduced and excellent firing is possible.例文帳に追加

ローラーとセッターとの摩擦により発生する磨耗粉の、パネル構造物への付着や混入を低減し、良好な焼成が可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法および焼成装置を実現することを目的とする。 - 特許庁

Regarding the sludge deposition prevention method, in a square anaerobic or non-oxygen tank where a plurality of mechanical stirring machines are installed, the adjoining mechanical stirring machines are alternatively driven per prescribe time.例文帳に追加

上記課題は、複数の機械式攪拌機が設置された角形の嫌気槽または無酸素槽において、隣り合う機械式攪拌機を所定時間毎に交互に運転させることを特徴とする汚泥の堆積防止方法によって解決される。 - 特許庁

Also, it is preferable that the metal layer deposition treatment is the treatment of projecting metal powder of the metals or alloys to the surface of the steel material, and thus the metal layer is non-continuously deposited to the surface of the steel material.例文帳に追加

なお、金属層付着処理は、上記した金属または合金の金属粉末を鋼材の表面に投射する処理とすることが好ましく、これにより、鋼材の表面に金属層を非連続に、付着させることができる。 - 特許庁

To stably and securely deposit a thin film without generating substrate cracks as for a sputtering method and a device for a thin film deposition on a large glass substrate used for a plasma display panel or the like.例文帳に追加

本発明は、プラズマディスプレイパネル等に使用する大型のガラス基板に対して薄膜を形成するためのスパッタリング方法及び装置に関し、基板割れを生じることなく、安定且つ確実に薄膜形成することを目的としている。 - 特許庁

In order to form the hydrogenated amorphous silicon film on the substrate 10 when vapor-depositing silicon on the substrate 10, the production method further includes irradiating the substrate 10 with an ion beam containing hydrogen ions while the silicon film is deposited, by an ion-beam-assisted vapor-deposition method.例文帳に追加

さらに、基板１０にシリコンを蒸着する際に、基板１０上に水素化アモルファスシリコン膜を形成するために、シリコン膜の堆積と同時にイオンビームアシスト蒸着法によって水素イオンを含むイオンビームを照射する。 - 特許庁

Further, each film thickness of the antireflection film 50 is thin, therefore, the temperature rising of the base body upon film forming hardly occurs and, thereby, the antireflection film can be satisfactorily formed on the base body made of synthetic resin by using a vacuum vapor deposition method.例文帳に追加

また、反射防止膜５０の各膜厚が薄いため成膜時の基体の温度上昇が少く、真空蒸着法を用いて合成樹脂製の基体に反射防止膜を良好に成膜することが可能となる。 - 特許庁

Likewise, at a position without deposition of the urea aqueous solution, a third temperature sensor 12 detects the outer wall temperature of the exhaust pipe 2 and a fourth temperature sensor 13 detects the exhaust temperature, allowing the difference of these temperatures to be calculated.例文帳に追加

また、尿素水溶液が付着しない部位において、第３の温度センサ１２により排気管２の外壁温度を検出するとともに第４の温度センサ１３により排気温度を検出し、その温度差を演算する。 - 特許庁

Thereafter, an oxide film or a nitride film is deposited on the surface of the diamond substrate with the oxygen and/or nitrogen adsorbed by an atomic layer deposition process where an organic metal compound and an oxidizing agent or a nitriding agent are alternately fed.例文帳に追加

その後、この酸素及び／又は窒素を吸着させたダイヤモンド基板の表面上に、有機金属化合物と酸化剤又は窒素剤とを交互に供給する原子層堆積法により、酸化膜又は窒素膜を成膜する。 - 特許庁

A vapor deposition equipment 10 includes: a globe box 12 filled with the nitrogen gas; and a reactor vessel 14, disposed in the globe box 12, for forming a compound layer on a substrate 13 by an epitaxial growth method.例文帳に追加

気相成長装置１０は、窒素ガスが充填されたグローブボックス１２と、このグローブボックス１２内に配置された、エピタキシャル成長法により基板１３上に化合物層を形成するための反応容器１４を備えている。 - 特許庁

The supply destination of the gaseous ozone from the gaseous ozone generation chamber 104 can be switched to a deposition chamber 101 and the side reaction chamber 115 by a switching means including the opening and closing state of a valve 110 and that of the valve 117.例文帳に追加

バルブ１１０の開閉状態およびバルブ１１７の開閉状態を含む切り替え手段により、オゾンガス発生部１０４からのオゾンガスの供給先を、成膜室１０１と副反応室１１５とに切り替えることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electronic component for executing Cu plating of high film deposition rate even when a Cu-plated film is formed on the surface of an electrode of the electronic component without using any power source or without performing any catalyst treatment.例文帳に追加

電子部品の電極表面に対し、電源を用いず、かつ触媒処理も行わずＣｕめっき皮膜を形成する場合においても、成膜速度の高いＣｕめっきを可能とする電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the metal nobler than tin and the anode are separated by the anion exchange membrane which does not allow cations to permeate, the migration of the noble metal cations are blocked by the anion exchange membrane, and the substitutive deposition of the noble metal at the anode can be prevented.例文帳に追加

カチオンを透過しないアニオン交換膜によりスズより貴な金属と陽極を隔離するため、貴な金属カチオンはアニオン交換膜で移動を阻止され、貴な金属が陽極で置換析出することを防止できる。 - 特許庁

To provide a wiper blade rubber which can give good wiping performance and noise-preventing performances to both a glass rendered water- repellent and a clean glass and also prevents poor wiping due to ice-deposition in a cold district.例文帳に追加

撥水処理されたガラス及び清浄ガラスの両方に対して良好な払拭性および異音防止性能を満たし得ると共に、寒冷地における氷着による払拭不良を防止したワイパーブレードゴムを提供すること。 - 特許庁

A shield 46 in a PVD (physical vapor deposition) vacuum processing chamber 30 is constituted so that generation of particles due to peeling off from the shield 46 and from arcing between a biased target and surrounding grounded pieces is reduced or prevented.例文帳に追加

シールド４６からおよび、バイアスのかかったターゲットと周囲の接地部材との間のアークからの剥離による粒子の発生を低減または防止する構成を有する、ＰＶＤ真空プロセスチャンバ３０内のシールド４６を開示する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor light-emitting device includes the deposition of electrically conductive materials (11a, 11b, 11c) on one or more selected portions of the surfaces of a semiconductor wafer containing a substrate (1) and a layer structure (4).例文帳に追加

半導体発光デバイスを製造する方法は、基板（１）と層構造（４）を含む半導体ウエーハ表面の１つ以上の選択された部分の上に導電性材料（１１ａ、１１ｂ、１１ｃ）を堆積することを包含する。 - 特許庁

The portion at which the deposition is generated is a differential pressure level gage 5 equipped at a storing tank 5 to temporarily store the prepared crude titanium tetrachloride liquid or a shaft seal part of transferring pumps 8, 12 to transfer the crude titanium tetrachloride liquid.例文帳に追加

付着が生じる部分は、製造されたクルード四塩化チタン液を一時的に貯蔵する貯蔵タンク５に装備される差圧式の液面計５、或いはクルード四塩化チタン液を移送する移送ポンプ８，１２の軸シール部である。 - 特許庁

A mixing ratio of water or hydrogen gas added to a sputtering gas is changed according to a scanning position of a substrate, in a process for depositing by introducing the sputtering gas into a deposition chamber and relatively scanning against a target with rotating the substrate.例文帳に追加

成膜室内にスパッタガスを導入し、基板を回転させながらターゲットに対して相対的に走査させて成膜する工程で、基板の走査位置に応じて、スパッタガスに添加する水又は水素ガスの混合比を変化させる。 - 特許庁

To provide a deposition method, liquid discharge head and method for manufacturing the liquid discharge head capable of forming tantalum aluminum films etc., by desired composition ratios in a simple manner by applying these to a printer by, for example, an ink jet method.例文帳に追加

本発明は、成膜方法、液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法に関し、例えばインクジェット方式によるプリンタに適用して、所望の組成比によるタンタルアルミ膜等を簡易に作成することができるようにする。 - 特許庁

The intervals between the processes for deposition of the respective layers can be omitted and the boundaries between the layers are no more definite and therefore the lens provided with the multiple layers of the antireflection films 16 having excellent adhesion and durability can be manufactured.例文帳に追加

各層を成膜する工程の間のインターバルを省略できると共に、層間の界面が明確でなくなるので、密着性および耐久性の優れた多層の反射防止膜１６を備えたレンズを製造できる。 - 特許庁

To provide a film forming material (vapor deposition material), from which a protective film of a plasma display panel is successfully formed to achieve a plasma display panel performing a satisfactory image display.例文帳に追加

本発明は、プラズマディスプレイパネルの保護層を良好に形成することを可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルを実現することを可能とする成膜材料（蒸着材料）の提供を目的とするものである。 - 特許庁

The silicon needle-shaped cones having micromasks as vertexes, are formed by high selective ratio anisotropic etching of a silicon substrate or a silicon layer while using an impurity deposition area formed in the silicon substrate or the silicon layer as the micromasks.例文帳に追加

シリコン針状錘体は、シリコン基板又はシリコン層中に形成された不純物析出領域をマイクロマスクとして、シリコン基板またはシリコン層を高選択比異方性エッチングすることにより、マイクロマスクを頂点として形成される。 - 特許庁