「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(276ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a sputtering apparatus and a method for sputtering a material from a target onto a substrate via the sputtering apparatus, which achieve high target utilization and more even distribution of the region of the target utilized for deposition on the substrate.例文帳に追加

スパッタリング装置、およびスパッタリング装置を介してターゲットから基板上へ材料をスパッタリングする方法に関し、ターゲットの利用性を高くし、基板上へのデポジットに利用される領域のより均一な分布を実現することを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing an electronic device according to another aspect includes determining a deposition condition for the thin film by using the above method for simulating the shape of the formed film, and then depositing the thin film according to the determined condition.例文帳に追加

また、本発明の他の一態様によれば、上記の成膜形状シミュレーション方法により薄膜の堆積条件を求め、前記求められた条件により薄膜を堆積することを特徴とする電子デバイスの製造方法が提供される。 - 特許庁

To provide a mono(perfluoroalkyl) phosphate ester without reducing effects such as plaque formation inhibition, acid resistance improvement, pigment deposition inhibition, etc., even on blending with tooth paste, mouth wash, etc., and an oral cavity composition by using the same.例文帳に追加

本発明の課題は、練歯磨、マウスウォッシュ等に配合しても、歯垢形成阻害、耐酸性向上、色素沈着阻害等の効果が低減しない、モノ（パーフルオロアルキル）リン酸エステルの提供、及びそれを用いた口腔用組成物を提供することである。 - 特許庁

A polyimide film 35 is formed as an insulating resin layer at least on the opposing surface 31 of the end plate 3 for electrically insulating the end plate 3 and terminal plate 1 by being interlaid between both of them by an electro-deposition coating method.例文帳に追加

エンドプレート３の少なくとも対向面３１には、エンドプレート３とターミナルプレート１との間に介在して両者を電気的に絶縁するための絶縁樹脂層としてのポリイミド皮膜３５が電着塗装法によって被覆形成されている。 - 特許庁

Also, the distance between an evaporation source and the substrate can be set large without requiring a huge exhaust plant and therefore, the uniformity of an incident angle of an evaporation substance on the substrate at the time of diagonal vapor deposition is made possible.例文帳に追加

また、巨大な排気設備を必要とすることなく蒸発源と基板との間の距離を大きく設定することができるので、斜方蒸着の際において基板に対する蒸発物質の入射角の均一化を図ることができる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for vacuum treatment, which can manufacture products with reduced image defects, consequent high quality, and adequate durability, in high reproducibility, when forming the deposition film with plasma generated by a high-frequency power.例文帳に追加

高周波電力によって生起されたプラズマを用いて堆積膜を作製する際に、画像欠陥を低減した高品質で耐久性のよい製品が再現性よく作製でき、歩留まりを改善できる真空処理装置および方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter, a semiconductor material such as silicon which has a conductivity type opposite from that of a semiconductor layer 11 is grown by epitaxial deposition by CVD method using a silane-based gas to form a semiconductor layer 15 on the side face 13a and the bottom face 13b of the trenches 13.例文帳に追加

続いて、シラン系ガスを用いたＣＶＤ法により、半導体層１１とは反対の導電型のシリコン等の半導体材料をトレンチ１３の側面１３ａおよび底面１３ｂにエピタキシャル成長させ、半導体層１５を形成する。 - 特許庁

To provide vertical hot-wall CVD(chemical vapor deposition) epitaxial equipment which uses a susceptor which controls the development of peeling and crack, an SiC epitaxial growth method which uses the equipment, and an SiC epitaxial growth film formed by using the equipment and method.例文帳に追加

剥離やクラックの発生が抑制されるサセプタを用いた縦型ホットウォールＣＶＤエピタキシャル装置、この装置を用いたＳｉＣエピタキシャル成長方法及びこれらの装置と方法とを用いて形成されるＳｉＣエピタキシャル成長膜を提供する。 - 特許庁

To provide an exhaust gas treatment system for cement firing equipment which can securely prevent the deposition and solidification of dust accompanied by an extraction gas inside a gas extraction duct without stopping an operation, thus can attain a maintenance-free stable operation.例文帳に追加

運転を停止させることなく抽気ダクト内に抽気ガスに同伴したダストが堆積・固化することを確実に防止することができ、よってメンテナンスフリーの安定的な操業を実現することができるセメント焼成設備の排ガス処理システムを提供する。 - 特許庁

To obtain a combustion control device for achieving prevention of degradation of combustion characteristics due to deposition of carbon deposits in a fuel injection hole and the surrounding thereof by simple control processing without causing an increase of product cost due to an increase of design man-hours.例文帳に追加

燃料噴射孔およびその周辺へのカーボンデポジットの堆積に伴う燃焼特性悪化の防止を設計工数の増大による製品コスト増加を招くことのないより簡素な制御処理で実現する燃焼制御装置を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for suppressing the deposition of Si when introducing Si to wiring or via, and for suppressing migration inside the wiring or via, especially, under the wiring or via in order to improve the reliability of connection.例文帳に追加

配線やビアにＳｉを導入する際にＳｉの析出を抑制すると共に、配線やビア内部、特に配線やビア下部でもマイグレーションを抑制し、接続の信頼性を向上させることができる半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

In the first electrodeposition step, a coil end portion 32 is immersed in low volatility electrodeposition liquid 41A and 41B accumulated in a fist and a second electrodeposition bathes 40A and 40B to perform electrodeposition so that a first deposition film SA1 and SB1 is formed in the coil end portion 32.例文帳に追加

第１電着工程では、コイルエンド部３２を第１，第２電着槽４０Ａ，４０Ｂに貯留された低揮発性電着液４１Ａ，４１Ｂに浸漬して電着を行うことにより、コイルエンド部３２に第１析出被膜ＳＡ１，ＳＢ１を形成する。 - 特許庁

A mother liquor similar to the mother liquor formed in a salt production deposition apparatus or a mother liquor saturated with sodium chloride, to which impurities such as magnesium chloride, calcium chloride or the like are optionally impregnated, is prepared in a bath having the inner capacity of 500 l and a stirrer 2.例文帳に追加

製塩晶析装置内の母液と類似、あるいは任意に塩化マグネシウム、塩化カルシウム等の不純物を含ませた塩化ナトリウムで飽和した母液を撹拌機２を設置した内容量５００ｌ（リットル）の槽１で調製する。 - 特許庁

Afterwards, on a light emitting layer composed of the positive hole transportation layer 103 and the organic EL layer 104, a silver-magnesium alloy is film-formed by a vapor deposition method so that the film-thickness is 100 nm, and the upper electrode 105 which is a negative electrode is formed.例文帳に追加

その後、正孔輸送層１０３及び有機ＥＬ層１０４からなる発光層の上に、蒸着法により銀−マグネシウム合金を膜厚が１００ｎｍになるように成膜して、負極である上電極１０５を形成する。 - 特許庁

To obtain an electro-chemical deposition system which is designed with a flexible structure which is expandable so as to meet future design rules and gap filling requirements and which provides satisfactory throughput to meet the needs of other processing systems.例文帳に追加

将来の設計上の規則やギャップを充填する要求に適合するように拡張することが出来る柔軟性ある構造で設計され、また他の処理システムの要求に合う満足なスループットを供給する電気化学堆積システム。 - 特許庁

The total film thickness of the silicon nitride films 5a, 5b is smaller than half a distance between a sidewall spacer SW1 and a sidewall spacer SW2, and tensile stresses of the silicon nitride films 5a, 5b are increased by performing an ultraviolet irradiation treatment after deposition.例文帳に追加

窒化シリコン膜５ａ，５ｂの膜厚の合計は、サイドウォールスペーサＳＷ１とサイドウォールスペーサＳＷ２との間の間隔の半分よりも小さく、窒化シリコン膜５ａ，５ｂは、成膜後に紫外線照射処理を行って引張応力を増大させる。 - 特許庁

A groove 31 with thin and thick resist layers is formed on a photoresist 3, and then a deposition component is supplied from a resist by increasing a surface area of the resist on a wafer to enable the aluminum alloy to be etched with the stable wiring width and configuration.例文帳に追加

フォトレジスト３にレジストが薄い部分と厚い部分からなるレジストの溝３１を形成し、ウエハ上のレジスト表面積を増やすことで、デポジション成分をレジストから供給し、配線幅や形状が安定したアルミ合金のエッチングを提供する。 - 特許庁

The production process of a silicon wafer comprises a contaminant activation step for bringing the charged state of contaminants in the silicon wafer into activated state where the contaminants react easily on an oxygen deposition nucleus by irradiating the contaminants with a laser beam.例文帳に追加

シリコンウェーハ中の汚染物にレーザー光を照射することにより、前記汚染物の電荷状態を酸素析出核と反応しやすい活性化された状態とする汚染物活性化工程を備えるシリコンウェーハの製造方法とする。 - 特許庁

In the second condition, the deposition gas including silicon or germanium and hydrogen are supplied to the process chamber while periodically increasing or decreasing the flow rate ratio therebetween, and the pressure in the process chamber is set to 1333 Pa or more and 13332 Pa or less.例文帳に追加

第２の条件は、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体と、水素との流量比を周期的に増減させながら処理室に供給し、且つ処理室内の圧力を１３３３Ｐａ以上１３３３２Ｐａ以下とする条件である。 - 特許庁

To directly deposit a metallic film on a base material composed of a hardly adhesive resin by vacuum deposition without applying a primer or the like, and to provide an electromagnetic wave shielding molded body or a brightened molded body at a low cost with high productivity.例文帳に追加

難接着性樹脂からなる基材に、プライマーなどを塗布しないで、真空蒸着により、金属膜を直接成膜することを可能とし、電磁波シールド成型体および光輝化成型体を、低コストかつ生産性よく提供する。 - 特許庁

To avoid the influence of the thickness ununiformity of an additional function layer on that of a laminated semiconductor thin layer, by forming a peeling ion-implanted layer by twice ion implanting steps before and after a deposition process of the additional function layer.例文帳に追加

剥離用イオン注入層を付加機能層の堆積工程を挟む２回のイオン注入で形成することにより、付加機能層の膜厚不均一が貼り合わせ半導体薄層の膜厚均一性に影響を及ぼさないようにする。 - 特許庁

To provide a laminated polyester film that has superior adhesiveness even under a humid and hot environment, and superior hard coating, metal deposition, and adhesiveness with ink, and suited for decoration as a polyester film for molding used especially for shallow drawing to middle drawing.例文帳に追加

特に浅絞りから中絞り用に使用される成形用ポリエステルフィルムとして、湿熱環境下においても接着性に優れ、ハードコートや金属蒸着やインクとの接着性に優れる、加飾性に適した積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the platinum film comprises the steps of forming a seed film in the groove by sputtering metal platinum as a target material, and then decomposing vapor of an organic platinum compound, such as dimethyl platinum cyclooctadiene or the like on the sheet film, through organic metal chemical vapor deposition method.例文帳に追加

この白金膜は金属白金をターゲット材にしてスパッタリングにより溝にシード膜を形成した後、シード膜上に有機金属化学蒸着法によりジメチル白金シクロオクタジエン等の有機白金化合物の蒸気の分解により製造する。 - 特許庁

By this method, the main coating is formed by the interaction between a main aqueous solution and an aqueous solution for deposition for gel cross-linking in the microscopic sphere and the additional lipophilic coating is formed by the interaction between the obtained microcapsule and an organic solvent component.例文帳に追加

この方法では、微小球内の主水溶液とゲル架橋用の沈殿用水溶液との相互作用により主被膜が形成され、得られたマイクロカプセルと有機溶媒成分との相互作用により追加の親油性被膜が形成される。 - 特許庁

To provide a sleeve for fitting to a tundish pot, which prevents the deposition of a molten metal onto the inner hole surface 51 of the tundish pot and is easily removed after finishing a casting process to reuse the tundish pot 50, and to provide a tundish pot provided with the sleeve.例文帳に追加

タンディッシュポット内孔面５１への地金の付着を防止すると共に、鋳造終了後に容易に除去でき、タンディッシュポット５０の再使用を可能とするタンディッシュポット嵌着用スリーブおよびそれを備えたタンディッシュポットを提供する。 - 特許庁

To provide a laser ablation film deposition apparatus capable of forming a thin film with a good film quality, by suppressing evaporation of a liquefied material when using an arbitrary solid material and suppressing production of particulates in solid target ablation.例文帳に追加

任意の固体材料に関して、液体化した材料の蒸発による成分および固体ターゲットアブレーションにおける微粒子の発生を抑えることにより、良好な膜質の薄膜を形成することができるレーザアブレーション成膜装置の提供。 - 特許庁

The container is made of a layered structure comprising a base layer composed of a paper layer, an intermediate layer composed of a plastic layer having an aluminum vapor deposition layer, and an inner layer composed of an ethylene-α-olefin copolymeric layer formed by polymerization using a single site catalyst.例文帳に追加

紙層からなる基材層と、アルミ蒸着層を備えたプラスチック層からなる中間層と、シングルサイト触媒を用いて重合したエチレン−αオレフイン共重合体層からなる内層と、を備えた積層体からなる液体用紙容器。 - 特許庁

The plastic film laminate includes an outer polyethylene terephthalate film layer (F1), a dry coating layer of coating resin (C), a solventless adhesive layer (A), the metal vapor deposition layer or metal foil (M), and an inner plastic film layer (F2) in this order.例文帳に追加

外装のポリエチレンテレフタレートフィルム層（Ｆ１）、コート樹脂の乾燥皮膜層（Ｃ）、無溶剤型接着剤層（Ａ）、金属蒸着層又は金属箔（Ｍ）、内装プラスチックフィルム層（Ｆ２）をこの順に有することを特徴とするプラスチックフィルム積層体。 - 特許庁

Also, the white colored crystal consisting of calcium apatite as the main component is produced by treating the scales of the fishes, the bones of the fishes or the domestic animals with a dilute acid, adjusting the dissolved solution at a pH of ≥5 with an alkaline solution, separating the precipitated deposition and washing with water.例文帳に追加

また、魚類鱗又は魚類若しくは家畜類の骨を希酸処理し、溶解した溶液をアルカリ溶液によりｐＨ５以上とし、析出する沈殿を分離、水洗し、カルシウムアパタイトを主成分とする白色結晶を製造する。 - 特許庁

A thin film conductor is formed on at least one out of a surface and a back of the core substrate 9a by using any one out of a vapor deposition method, an ion plating method, an ion beam method, a vapor growth method and a sputtering method and patterned, and conductor patterns 19-22 are formed by patterning.例文帳に追加

コア基板９ａの表裏面の少なくともいずれかに蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、気相成長法、スパッタリング法のいずれかによって薄膜導体を形成した後にパターニングして導体パターン１９〜２２を形成する。 - 特許庁

To provide a steel for a machine structure which has excellent cold workability, in which, adjustment such as the limitation of components is not difficult, and further, the deposition of cementite is suppressed, to provide a method for producing the same, and to provide a method for producing a worked component using the steel for a machine structure.例文帳に追加

成分の制限等の調整が難しくなく、また、セメンタイトの析出を抑制して、冷間加工性に優れた機械構造用鋼、その製造方法、並びに、機械構造用鋼を用いた加工部品製造方法を提供する。 - 特許庁

When the supply pressure is within the reference range, and the displacement amount of the sealing member displaced by the supply of the purge gas is within the reference range, the rotary drive of a rotary shaft by a motor is permitted, and the operation of the vapor deposition device is permitted.例文帳に追加

供給圧が基準範囲内であり、かつ、パージガスの供給により変位したシール部材の変位量が基準範囲内である場合に、モータによる回転軸の回転駆動が許可され、気相成長装置の稼働が許可される。 - 特許庁

To provide a method of controlling an internal diameter of a runner in a groove type induction heating device capable of stably operating an induction furnace provided with the groove type induction heating device by stabilizing the internal diameter of the runner by controlling the deposition of alumina to an inner face of the runner.例文帳に追加

湯道内面へのアルミナの析出量を制御して、湯道内径の安定化を図り、溝型誘導加熱装置が設けられた誘導炉の安定操業を可能にする溝型誘導加熱装置の湯道内径制御方法を提供する。 - 特許庁

This carbon vapor deposition apparatus is characterized by one carbon rod 20 having a larger diameter D_1 than a diameter D_2 of the other carbon rod 22, and the tip of the carbon rod 20 with the larger diameter, which has such a surface 20A as to be inclined with an angle θ of 20-70 degrees against the longitudinal direction.例文帳に追加

一方のカーボン棒２０を、その直径Ｄ_1が他方のカーボン棒２２の直径Ｄ_2よりも太いカーボン棒とし、該太いカーボン棒２０の先端を、その長手方向と２０〜７０度の角度θをなす傾斜面２０Ａとする。 - 特許庁

To provide a biodegradable gas barrier film having an inorganic oxide vapor deposition layer and a protective layer not deteriorated in gas barrier properties, water vapor barrier properties and adhesion even if post-processing such as printing or the like is applied and reduced in environmental load, and a packaging material using it.例文帳に追加

印刷等の後加工を施してもガスバリア性、水蒸気バリア性、密着性の劣化がなく、環境負荷の少ない無機酸化物蒸着層及び保護層を有する生分解性ガスバリアフィルムとそれを用いた包装材料を提供すること。 - 特許庁

A magnetic layer 2 including a plurality of columns which are aggregates made of ferromagnetic particles is formed by oblique vapor deposition, continuously changing the incident angle of metallic vapor from a high incident angle to a low incident angle with respective to a traveling non-magnetic support 1.例文帳に追加

走行する非磁性支持体１に対し、金属蒸気の入射角を高入射角から低入射角に連続的に変化させながら、強磁性粒子の集合体である複数のカラムを含む磁性層２を斜方蒸着により形成する。 - 特許庁

To provide data concealing printed matter capable of enhancing concealing effect without using a sheet having shading properties such as aluminum sandwich sheet or vapor deposition sheet or appling the printing of a camouflage pattern or black solid printing to the rear surface of sheet.例文帳に追加

本発明は、アルミサンド紙、蒸着紙等の遮光性を有する用紙を使用したり、用紙裏面に迷彩パターン、墨ベタ印刷をすることなく隠蔽効果を向上させることを可能とした情報隠蔽印刷物を提供することにある。 - 特許庁

A shielding plate 61 is arranged between a supply device 40 and a heating member 25, so that the radiant heat radiated from the heating member 25 and the vapor of a vapor deposition material 39 produced on the heating member 25 do not reach the supply device 40.例文帳に追加

供給装置４０と加熱部材２５の間には遮蔽板６１が配置されているため、加熱部材２５からの輻射熱や加熱部材２５上で発生した蒸着材料３９の蒸気が供給装置４０へ到達しない。 - 特許庁

A heater 10 is installed on a flange part 4a of a quartz bell jar 4, and the wall surface of the side of the opening of the bell jar is heated, thus suppressing adhesion and deposition of the receive product of a material to be etched, such as an Al-family deposit onto the wall surface.例文帳に追加

石英ベルジャ４のフランジ部分４ａ上にヒータ１０を設置し、ベルジャ開口部側の壁面の温度を加熱することにより、当該壁面へのAl系堆積物等の被エッチング材料の反応生成物の付着、堆積を抑制する。 - 特許庁

To provide a new manufacturing method and a new manufacturing device manufacturable with arbitrary materials and crystallinity while controlling a position and a size freely in the fine structure of the same size (nanometer order) with an object manufactured by a gas deposition method using an electron ray.例文帳に追加

電子線によるガスデポジション法で作製したものと同サイズ（ナノメートルオーダー）の微細構造を、位置とサイズを自由に制御しつつ、任意の材料、結晶性にて作製することができる新規な作製方法及び作製装置を提供する。 - 特許庁

To provide a room-temperature-curable organopolysiloxane composition which is used for coating an underwater structure, is suitable for preventing the deposition and growth of aquatic organisms on the surface of the underwater structure, and gives an antifouling coating film retaining its effects well.例文帳に追加

水中構造物に塗装され、水中構造物の表面への水生生物の付着・生育を防止するために好適であり、その効果の持続性が良好な防汚塗膜を与える室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供すること。 - 特許庁

As a result, there can be realized a semiconductor device manufacturing method and apparatus in which the amount of deposition on a film in the processing chamber and the condition thereof can be measured from outside of the chamber while not hindering the vacuum condition of the chamber.例文帳に追加

これにより、処理室内における堆積膜の付着量や状態を処理室の真空状態を阻害することなく処理室の外から測定することが可能な、半導体デバイスの製造方法及び製造装置を実現することができる。 - 特許庁

By making the pixel arrangement direction of a wider side of spacings of the pixels on the substrate 1 coincident with the X direction into which the vapor-deposition source 20 is moved, eclipse due to an edge of an opening part 11 of the shadow mask is reduced to uniformize the film thickness distributions in the pixels.例文帳に追加

基板１上の画素の間隔が広い側の画素配列方向と、蒸着源２０を移動させるＸ方向を一致させることで、シャドウマスク１０の開口部１１の端縁によるケラレを低減し、画素内の膜厚分布を均一化する。 - 特許庁

The controller 60 detects improper ignition and ignition delay of plasma by the signal from the optical sensor 63 in an early stage to avoid repetition of the ignition state with the most unstable plasma state and to ensure the situation capable of ensuring the stable film deposition.例文帳に追加

コントローラ６０は光センサ６３からの信号でプラズマの着火ミスや着火遅延を早期に検出して、プラズマ状態が最も不安定な着火状態が繰り返されるのを回避し、安定な成膜を確保できる状況を確保する。 - 特許庁

The additional circuit 148 including the thin-film transistor is disposed outside the deposition area of an upper electrode 508, further, the auxiliary wiring 515 does not exist in at least a portion above a part (repair position) of the wiring pulled out from the thin-film transistor.例文帳に追加

薄膜トランジスタを含む付加回路１４８を上部電極５０８の成膜領域外に配置し、さらに、薄膜トランジスタから引き出された配線の少なくとも一部（リペア箇所）の上層側は補助配線５１５が存在しないようにする。 - 特許庁