Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
To provide a film-forming composition affording a film that is uniform, causes no deposition of impurities, achieves a low dielectric constant and high metal diffusion barrier property and is therefore suitably used for producing an interlayer insulation film in an electronic device or the like.例文帳に追加
形成された膜が均一であり、不純物の析出がなく、低い誘電率や高い金属拡散バリア性が得られるため、電子デバイスなとにおける層間絶縁膜として適する膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a gas-barrier material which is excellent in the strength of adhesion between a plastic film as a base and a vapor deposition film and in the gas barrier properties against oxygen gas, water vapor and the like, moistureproofness, etc., and is useful mainly as a material for packaging.例文帳に追加
基材としてのプラスチックフィルムと蒸着膜との密着強度に優れ、かつ、酸素ガス、水蒸気等に対するガスバリア性、防湿性等に優れ、主に、包装用材料として有用なバリア性材料を提供することである。 - 特許庁
A protective film 7 is formed on the TFT element at the deposition temperature of 200°C or lower by a metal oxide film, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon carbide film or an organic-matter film or the laminated film of the organic-matter film and a metallic film.例文帳に追加
そのTFT素子上に金属酸化物膜、シリコン酸化物膜、シリコン窒化物膜、シリコン炭化物膜、有機物膜あるいは有機物膜と金属膜の積層膜により保護膜7を200℃以下の成膜温度で形成する。 - 特許庁
To provide an article depositary machine which achieves safe deposit of regular-size articles having inherent identification information items stored therein, respectively, such as bankbooks and securities, and allows a user to easily carry out procedures for deposition/delivery.例文帳に追加
預貯金の通帳や証券など、固有の識別情報を備えた定型物品を安全に預託できるとともに、預託や排出の手続を利用者自らが簡単に行うことのできる物品預かり機を提供する。 - 特許庁
In the method of treating the aluminum nitride thin film for the purpose of improving surface and bonding characteristics, microwave plasma treatment is carried out, after the vapor deposition of the aluminum nitride thin film, as a step of aftertreatment for the thin film.例文帳に追加
表面及び結合特性の向上を目的とする窒化アルミニウム薄膜の処理方法において、窒化アルミニウム薄膜蒸着後に前記薄膜の後処理工程としてマイクロ波プラズマ処理をすることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an image forming method and apparatus, in which the image deletion due to deposition of a discharge product or the like and voids or uneven density such as image blur are prevented, thereby achieving high durability, high image quality and stabilization of the image quality.例文帳に追加
放電生成物などの付着による画像流れ、画像ボケなどの白抜けや濃度ムラを抑制し、高耐久性と高画質化、さらに画質安定化を実現した画像形成方法および画像形成装置の提供。 - 特許庁
To provide an ITO (Indium Tin Oxide) sputtering target in which the amount of generated nodules can be decreased even if the sheet thickness of a sintered compact used for target becomes larger than that of the conventional one and film deposition can be stably continued to the end of life of the target.例文帳に追加
ターゲットに用いられる焼結体の板厚が従来より厚くなった場合においても、ノジュールの発生量が少なく、ライフエンドまで安定して成膜することが可能なITOスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁
To maintain the function of a ground water purification layer packed with a metallic reducing body for a long period of time by preventing the scale trouble by deposition of a hardness component in ground water in purifying the contaminated ground water by disposing the ground water purification layer under the ground.例文帳に追加
金属還元体を充填した地下水浄化層を地中に設けて汚染地下水を浄化するに当たり、地下水中の硬度成分の析出によるスケール障害を防止して、浄化層の機能を長期に亘り維持する。 - 特許庁
Thus, e.g., in the case the insulating film is vapor-deposited on a substrate 6 arranged in the vacuum vessel 7, the deposition of the insulating film evaporated in the vacuum vessel 7 on the surface of the anode 5 can be suppressed.例文帳に追加
それにより、例えば真空容器7内に配置された基板6に絶縁膜が蒸着される場合に、真空容器7内で蒸発せしめられた絶縁膜が陽極5の表面に堆積してしまうのを抑制することができる。 - 特許庁
A pattern of spacer pedestals is created by deposition and etch back, or by a surface etch process to precisely reference surface information from a master surface to a carrier wafer 12 to a thin optically transmissive wafer 14.例文帳に追加
マスタ表面からキャリヤ・ウェーハ12への表面情報を薄い光透過型ウェーハ14に正確に引用するために、付着およびエッチ・バックによって、あるいは表面エッチ・プロセスによってスペーサ・ペデスタルのパターンが生成される。 - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing apparatus in which the adhesion and deposition of reaction products on the internal surface of an exhaust pipeline can be suppressed and the maintenance work of the pipeline can be performed easily and efficiently, and to provide the exhaust pipeline and maintenance method of the device.例文帳に追加
排気配管の内壁への反応生成物の付着、堆積を抑え、かつ容易で効率的な排気配管のメンテナンス作業が実現される半導体製造装置及びその排気配管及びメンテナンス方法を提供する。 - 特許庁
The film thickness correction mechanism is composed of a first film thickness distribution correction plate and a second film thickness distribution correction plate, and the second film thickness distribution correction plate goes in and out from the particle shielding region of the first film thickness distribution correction plate in the process of film deposition.例文帳に追加
膜厚補正機構は第一の膜厚分布補正板と第二の膜厚分布補正板からなり、製膜中に第一の膜厚分布補正板の粒子遮蔽領域から第二の膜厚分布補正板が出入りする。 - 特許庁
In this method for producing a gold coloring material, the surface of a copper base material having metallic luster is coated with a film deposition substance, and simultaneously or next, heating treatment is executed, and the gold coloring material is obtained by the same method.例文帳に追加
金属光沢を有する銅基材表面を皮膜形成物質で被覆し、同時に又は次いで加熱処理することを特徴とする金色発色材料の製造方法及びこの方法で得られる金色発色材料。 - 特許庁
To provide an elastic roller capable of realizing the adequate friction coefficient in the forward rotation and the reverse rotation, respectively, excellent in the wear resistance and the printing durability, and free from any occurrence of a problem of generation of roller dent, deposition of paper powder or the like.例文帳に追加
正転時と逆転時とで夫々適切な摩擦係数を発現することができ、耐摩耗性や印刷耐久性に優れるとともに、ローラ痕の発生や紙粉付着等の問題の発生もない弾性ローラを提供する。 - 特許庁
To provide a process design suitable for mass production without requiring heat treatment after deposition for the purpose of obtaining a sufficient exchange bond of an antiferromagnetic film and a soft magnetic lining layer in manufacturing of a perpendicular magnetic recording medium.例文帳に追加
垂直磁気記録媒体の製造において、反強磁性膜と軟磁性裏打ち層との十分な交換結合を得るための成膜後の加熱処理を必要とせず、大量生産に適した工程設計を提供すること。 - 特許庁
This LED device is excellent in a reflection factor and the light condensing, and is capable of achieving a high luminance, and is characterized in that an interior side of a cup portion made of resin is covered by a metallic deposition layer while being separated from a bottom face and maintaining an electrical insulation.例文帳に追加
樹脂製カップ部の内側面を、底面から離して、電気的絶縁を保って、金属蒸着層によって被覆していることを特徴とする、反射率や集光性に優れた高輝度化が可能なLEDデバイスである。 - 特許庁
This vapor deposition apparatus has a flow-rate control device 6 for individually controlling amounts of a spouted gas to a plurality of sectioned regions by which a plurality of gas-spouting holes in a shower head 14 are concentrically sectioned from the center part toward the outer perimeter.例文帳に追加
シャワーヘッド14における複数のガス噴出孔を中心部から外周に向かって同心に区画した複数の領域に対して、ガスの噴出量を個別に制御する流量制御装置6が設けられている。 - 特許庁
The metallic luster thermal transfer recording medium keeps at least a release layer, an anchor layer, a metal vapor deposition layer, and an adhesion layer laid overlying a base, with a transfer control layer interposed between the base and the release layer.例文帳に追加
基材上に少なくとも離型層、アンカー層、金属蒸着層、接着層を積層した金属光沢熱転写記録媒体において、基材と離型層の間に転写制御層を設ける金属光沢転写記録媒体である。 - 特許庁
For example, the whole additional circuit 148 is disposed outside the deposition area of the auxiliary wiring 515, and at least the portion above the channel region of the thin-film transistor is covered by a lateral extension wiring 515b1 extending from the auxiliary wiring 515.例文帳に追加
たとえば、付加回路148の全体を補助配線515の成膜領域外に配置しつつ、薄膜トランジスタの少なくともチャネル領域の上層側を補助配線515から延在した横延長配線515b1で覆う。 - 特許庁
To provide a treatment equipment and a treatment method capable of preventing the deposition of an undesirable deposit at the side end section of the rear of a semiconductor wafer W without causing much complication of equipment constitution and much lowering of throughput.例文帳に追加
装置構成の大幅な複雑化や、スループットの大幅な低下を招くことなく、半導体ウエハWの裏面側端部における不所望な堆積物の堆積を防止することのできる処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a light-emitting device and a substrate for deposition capable of improving an EL layer pattern forming accuracy of each color in case of producing full-color flat panel display using red, green and blue luminescent colors.例文帳に追加
赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、各色のEL層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び成膜用基板を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid drop discharge apparatus capable of obtaining the stable discharge state hardly receiving an influence of a deposition substance by preliminary discharging even if frequency of the preliminary discharge is increased, a discharge method for a liquid-like substance and a manufacturing method for a secondary battery.例文帳に追加
予備吐出の頻度を上げても予備吐出による堆積物の影響を受け難い安定した吐出状態が得られる液滴吐出装置、液状体の吐出方法、二次電池の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an attachment/detachment device whereby a substrate with a backboard stacked thereon is attached without stains gathering on front and rear surfaces of the substrate, to provide an attachment/detachment system comprising the device, and to provide a deposition apparatus having the attachment/detachment system.例文帳に追加
基板の表面や裏面を汚さず、基板と背板とを積み重ねたまま装着可能な着脱装置、当該着脱装置を備えて構成される着脱システム、並びに、当該着脱システムを備えた成膜装置の提供。 - 特許庁
The deposition of the over sprayed powder on the external surface of the gun top nozzle of the electrostatic powder coating gun 1 is prevented by providing a shielding panel 10 for shielding the over sprayed powder to be returned in the backward side to the discharge direction on the tip of the gun top nozzle of the electrostatic powder coating gun 1.例文帳に追加
静電粉体塗装ガン1のガン先ノズルの先端に、吐出方向に対して後方側へ戻るオーバースプレー粉を遮蔽する遮蔽パネル10を設け、ガン先ノズルの外面へのオーバースプレー粉の付着を防止した。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus in which the stability of the production system is improved and the rate of operation of the apparatus is enhanced by improving the durability of a vacuum seal of a rotary shaft to rotatably support a holder to hold a substrate.例文帳に追加
堆積膜形成装置において、基板を保持するホルダーを回転可能に支持する回転軸シャフトの真空シール耐久性を向上させ、それによって生産システムの安定性向上、装置稼働率向上を図る。 - 特許庁
The vapor deposition part 3 is formed by a sputtering method, and the part where it is not formed is set to be one or more regions selected from an IH part B, an infrared heating part A, a liquid crystal display part D, and a light emitting element display part C.例文帳に追加
そして、蒸着膜3は、スパッタ法により形成し、また非形成部は、IH部B、赤外線加熱部A、液晶表示部D、及び発光素子表示部Cの中から選択した一またはニ以上の領域とする。 - 特許庁
In the light transmissive plastic molding with a vapor deposited film mainly consisting of metal deposited on the surface thereof, the light transmittance is set to be in a range of 98-50% of that before the vapor deposition film is deposited.例文帳に追加
表面に蒸着による金属を主体とする蒸着膜が形成された、光透過性のプラスチック成形品あって、光線透過率を蒸着膜形成前の光線透過率の98〜50%の範囲としたこと、にある。 - 特許庁
To provide a process gas transfer piping capable of uniformly controlling the heating of process gas flowing through the inner part of piping to a prescribed temperature and also capable of easily changing a piping system as well as facilitating maintenance, and a film deposition system.例文帳に追加
配管の内部を流れるプロセスガスを所定の温度に均一に加熱制御でき、しかもメンテナンスが容易であるばかりでなく、配管系を容易に変更できるようにしたプロセスガス搬送用配管及び成膜装置を提供する。 - 特許庁
An apparatus for forming the deposition film has a plurality of cylindrical substrates 107 arranged on the same circumference in a reaction vessel 100 and a discharge electrode 101 installed so as to surround a plurality of the cylindrical substrates 107.例文帳に追加
堆積膜形成装置において、反応容器100の内部に複数の円筒状基体107が同一円周上に配置され、複数の円筒状基体107を取り囲むように放電電極101が設置されている。 - 特許庁
To reduce the variance of the plating deposition, and to reduce the number of workers and the installation area of a barrel plating apparatus by intermittently moving barrel units successively from an end in a plating tank, and implementing the plating while the barrel units are stopped.例文帳に追加
メッキ浴槽内をバレルユニットが端から順に間欠移動し、バレルユニットの停止期間中にメッキする構成とし、メッキ析出量のばらつきを低減し、あわせて作業員の人数や装置設置面積を削減する。 - 特許庁
After the film deposition, the substrate is carried away from a chamber 100, the voltage applied to the current-operated electrostatic attraction member is cut off to release the particles 111 and the released particles 111 are discharged to the outside of the chamber.例文帳に追加
成膜終了後、基板Sをチャンバ100から搬出したならば、通電型静電吸着部材109への印加電圧をオフしてパーティクル111を離脱させ、離脱したパーティクル111をチャンバ外へと排出する。 - 特許庁
To provide a substrate which simultaneously satisfies the formation of a seed crystal for crystal growth and the formation of random recesses in the interface of a substrate and a crystal layer, when a crystal for an LED (Light Emitting Diode) is grown on the substrate by CVD (Chemical Vapor Deposition).例文帳に追加
基板の上にCVDでLEDのための結晶成長させるとき、結晶成長の種結晶を形成することと、基板と結晶層の界面にランダムな凹みを設けることを同時に満たす基板を提供する。 - 特許庁
This enables minimizing the increase of sheet resistance of the high-meting metal below the silicon nitride film without changing the film quality of the silicon nitride film, and while inhibiting the occurrence of the particles during film deposition in the same way as a conventional method.例文帳に追加
これにより、シリコン窒化膜の膜質を変化させることなく、また成膜時のパーティクルの発生を従来方法と同等としたまま、シリコン窒化膜下の高融点金属のシート抵抗の上昇を最小限に抑えることができる。 - 特許庁
To provide a cleaning liquid composition and a cleaning method capable of removing various organic materials attached to a mask in the vacuum deposition for the production of a low-molecular organic EL element with a single cleaning liquid.例文帳に追加
低分子型有機EL素子製造の真空蒸着工程においてマスクに付着する種々の有機材料を、1種類の洗浄液で除去することができる、洗浄液組成物および洗浄方法を提供すること。 - 特許庁
Lithium metal is deposited on the negative electrode 22 on the way of charging, and the capacity of the negative electrode 22 is expressed by the sum of the capacity component by absorption/desorption and the capacity component by deposition/desolution.例文帳に追加
負極22には充電の途中においてリチウム金属が析出するようになっており、負極22の容量はリチウムの吸蔵・離脱による容量成分とリチウム金属の析出・溶解による容量成分との和により表される。 - 特許庁
To provide lead-free borosilicate glass having a low dielectric constant and a low dielectric loss which yields a green sheet excellent in shelf stability, inhibits deposition of crystals, even when baked at ≤900°C and yields an electronic circuit board excellent in dimensional accuracy.例文帳に追加
保存安定性に優れたクリーンシートが得られ、900℃以下で焼成しても結晶が析出せず、寸法精度に優れた電子回路基板を作製できる低誘電率、低誘電損失の無鉛ホウケイ酸ガラスの提供。 - 特許庁
To provide a source solution for bismuth compound that can reduce the use of the solvent in the formation of bismuth-containing thin film through the chemical vaporization deposition (CVD) process and can give the thin film of good flatness over a wide range of the substrate temperature.例文帳に追加
溶液気化CVD法によるビスマス含有薄膜の作製において溶媒の使用量を少なくすることができ、かつ広い基板温度範囲で平坦性の良い膜が得られる、ビスマス化合物の原料溶液を提供する。 - 特許庁
Further, the vapor deposition pot is provided with heaters for the evaporation chamber and heaters for the pressure-controlling chamber in which temperature can be set mutually independently so as to hold the temperature of the pressure-controlling chamber to the one higher than that of the evaporation chamber.例文帳に追加
更に、前記蒸着坩堝には、前記圧力制御室の温度を、前記蒸発室の温度より高く保つように、互いに独立して温度設定が可能な蒸発室用ヒータと圧力制御室用ヒータとを設けた。 - 特許庁
The culture vessel is placed on a first slider for keeping cleanliness and, accordingly, the culture vessel is contacted only at the lower part of the vessel to prevent the falling down of dust and dirt from the slider and the deposition of the dust, etc., to the culture vessel.例文帳に追加
また、クリーン度を保つために、第1スライダの上部に培養容器を載せて移動することで、培養容器の下しか触れず、スライダから出た埃やごみが落ちずに、培養容器への付着を妨げる構成を可能とする。 - 特許庁
A material layer of the target thickness is correctly deposited on the substrate by adjusting the deposition speed by controlling the moving speed of a crucible 18, the heating state of a heater 20 or the like according to the calculated thickness of the film thickness monitoring unit 52.例文帳に追加
算出された膜厚モニタ部52の厚さに応じて、るつぼ18の移動速度やヒータ20の加熱状態などを制御して堆積速度を調整することで、目的とする厚さの材料層を基板上に正確に形成する。 - 特許庁
A laminated film 5 is made by gluing a film 2 to be repeeled to a transparent thin film 4, and a moisture-resistant film 7 is made, by placing a moisture-resistant layer 6 on the side of the transparent thin film 4 of the laminated film 5 by a vacuum deposition method.例文帳に追加
再剥離フィルム2を透明薄膜フィルム4に貼り合わせて貼合せフィルム5とし、この貼合せフィルム5の透明薄膜フィルム4側に真空堆積法により防湿層6を設けて耐湿性フィルム7とする。 - 特許庁
Then the magnetic matter in the treated water receives the magnetic force, is separated from the treated water, introduced in a magnetic matter deposition chamber 4 through a flow passage 10 defined by the barrier rib 2 and a member 9, and deposited.例文帳に追加
すると、前記処理水内の、前記磁性物質は前記磁気力を受けて前記処理水より分離され、隔壁2及び部材9によって画定される流路10を通って磁性物質堆積室4内に導入されて堆積される。 - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing apparatus capable of achieving homogeneous filming over the entire surface of a wafer or the whole cylinder by controlling flows of gas by steps and improving coating property of a high-aspect structure in an atom layer deposition (ALD) method.例文帳に追加
原子層成長(ALD)法において、各ステップ毎にガスの流れを制御し高アスペクト構造での被覆性を向上させ、均質な成膜をウエハ全面及びシリンダー全体で得ることができる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
When the spatter S is deposited on the gas nozzle 5 during the welding, the deposited portion is carbonized by the heat of the spatter S, the carbonized portion thereof is dropped together with the spatter S, thereby reliably reducing the deposition of the spatter S on the gas nozzle 5.例文帳に追加
溶接中に、スパッタSがガスノズル5に付着すると、その付着部分はスパッタSの熱によって炭化してスパッタSとともに炭化部分が落ちるので、スパッタSのガスノズル5への付着堆積を確実に低減することができる。 - 特許庁
This electrophotographic photosensitive body is constituted in such a manner that a film is formed by a vapor deposition method using the metallic complex in which nitrogen atom, oxygen atom and metallic ion have a specified coordination environment and, thereupon, a charge generation layer and a charge transport layer are successively formed.例文帳に追加
本発明は、窒素原子と酸素原子と金属イオンが特定の配位環境を有する金属錯体を蒸着法により形成した膜とし、その上に順次、電荷発生層、電荷輸送層を形成する構成である。 - 特許庁
In this throttle opening control device, in the case where the deposited substance is deposited near a throttle valve 22 provided on an intake passage 21 of the internal combustion engine 10, 'deposited substance correction item TTAGDP' is set corresponding to the deposition amount.例文帳に追加
このスロットル開度制御装置では、内燃機関10の吸気通路21に設けられたスロットルバルブ22近傍に堆積物が付着した場合は、その付着量に応じて「堆積物補正項TTAGDP」を設定する。 - 特許庁
The deposition prevention layer 6 is made from a mixed composition of: thermoplastic resin fine particles composed of an olefin-based resin such as a polyethylene, a polypropylene or an ethylene-unsaturated ester copolymer, or a resin composition containing an olefin-based resin as a major component; and hydrophobic fine particles.例文帳に追加
該付着防止層6はポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−不飽和エステル共重合体等のオレフィン系樹脂またはオレフィン系樹脂を主成分とする熱可塑性樹脂微粒子と疎水性微粒子との混合組成物で構成する。 - 特許庁
Since a plurality of housing parts 5d, 5e are provided in one crucible 5 so as to house different evaporation materials, it is not necessary to provide two or more crucibles 5 even in the case of using of a plurality of kinds of deposition materials.例文帳に追加
1つの坩堝5に異なる蒸発材料を収容可能な複数の収容部5d、5eが設けられているので、複数種類の蒸着材料を用いる場合であっても坩堝5を2つ以上設ける必要は無い。 - 特許庁
To provide a drying apparatus for water-containing articles to be processed wherein there are eliminated the problems that heating efficiency is lower, drying speed is longer, and there are baking and adhesion of the articles to a processing container, deposition of an article to be dried and partial discharge of the article to fresh air.例文帳に追加
本発明は含水性処理物の乾燥装置において、加熱効率が低く、乾燥速度が長い、処理容器への焦げ付きやこびり付き、乾燥処理物の付着や一部外気への排出等を課題とするものである。 - 特許庁
To provide a hair dye composition which effectively controls the deposition of uric acid over time by stably solubilizing uric acid, and does not drip, and spreads well, and has an excellent hair dyeing ability, when applied to the hair.例文帳に追加
尿酸を安定的に可溶化させて経時的な尿酸の析出を効果的に抑制することができ、毛髪に適用した際には、垂れ落ちがなく、延展性に優れ、しかも染毛性に優れる染毛剤組成物を提供すること。 - 特許庁
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