Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
To provide a high density plasma chemical vapor deposition apparatus in which a PID phenomenon is suppressed while maintaining gap fill capability at a forming process for an HDP CVD, and to provide a method for manufacturing a semiconductor element using the apparatus.例文帳に追加
HDP CVDの形成工程時にギャップフィル能力を維持しながらも、PID現象を抑制できる高密度プラズマ化学気相蒸着装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
In this pattern correcting device, a collector 40 to collect drops of correction liquid 20 in the middle of a tube 41 to send the misty particles of the correcting liquid 20 produced in the spray part 15 of a particulate deposition device 5.例文帳に追加
このパターン修正装置では、微粒子堆積装置5の噴霧部15で生成した修正液20の霧粒子を減圧部16に送るチューブ41の途中に、修正液20の滴を捕集する捕集器40を設ける。 - 特許庁
To provide a method and a device for producing a board obtained by laminating metal films on both the sides of a long-length resin film which is produced through a process by vacuum film deposition, in which the narrow pitch wiring of a both side flexible wiring board is possible.例文帳に追加
両面フレキシブル配線基板の狭ピッチ配線が可能な、真空成膜による工程を経て製造される長尺樹脂フィルムの両面に金属膜を積層した基板の製造方法と製造装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide a dampening water composition for lithographic printing by which isopropyl alcohol can be completely substituted and stable printing can be carried out without generating the problems such as the stain, blinding and emulsification of a printing plate and failure in ink deposition to the plate.例文帳に追加
イソプロピルアルコールを完全に代替し、印刷版の汚れ、ブラインディング及び水負けといった問題や、版へのインキ着肉不良を発生させずに安定に印刷できる平版印刷用の湿し水組成物を提供する。 - 特許庁
Since a plurality of housing parts 5d, 5e are provided in one crucible 5 so as to house different evaporation materials, it is not necessary to provide the two or more crucibles 5 even in the case of using of a plurality of kinds of deposition materials.例文帳に追加
1つの坩堝5に蒸発材料を収容可能な複数の収容部5d、5eが設けられているので、複数種類の蒸着材料を用いる場合であっても坩堝5を2つ以上設ける必要は無い。 - 特許庁
In a processing chamber 1 of a deposition apparatus 100, a wafer W on which a polyimide film 81 is formed is heated at a temperature of 110°C or more to 400°C or less with a CO gas being introduced to the processing chamber 1 and heat treatment is performed on the polyimide film 81.例文帳に追加
成膜装置100の処理容器1内で、処理容器1内にCOガスを導入しながら、ポリイミド膜81が形成されたウエハWを110℃以上400℃以下の温度で加熱し、ポリイミド膜81を熱処理する。 - 特許庁
To provide a TFT substrate manufacturable at a low cost; and to provide a light emitting device having a large screen by the use of a deposition device capable of providing uniform film thickness on the entire substrate surface even for a large-area substrate.例文帳に追加
本発明は、低コストで製造できるTFT基板を提供し、且つ、大面積基板に対しても基板全面において均一な膜厚が得られる蒸着装置により、大画面を有する発光装置を提供するものである。 - 特許庁
To exactly hold planar objects, such as two disk substrates, superposed on each other across, for example, a UV curing composition held therebetween, to a plane state without exerting damage, such as flaws and foreign matter deposition, to the front surface.例文帳に追加
例えば紫外線硬化性組成物を挟んで重ね合わされた2枚のディスク基板などの板状物体を、その表面に傷や異物付着等の損傷を与えることなく、正確に平面状に保持できるようにする。 - 特許庁
A film deposition apparatus 1 has a vacuum vessel 2 to which a predetermined reaction gas can be introduced, and an electric field generating means 6 to generate an AC electric field in a predetermined direction is provided in the vacuum vessel 2.例文帳に追加
本発明の成膜装置1は、所定の反応ガスを導入可能に構成された真空槽2を有し、この真空槽2内に、所定の方向の交流電界を発生するように構成された電界発生手段6を備える。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device for adjusting such a deposited state as the deposition quantity or distribution of reaction products, and for adjusting the dimension of line width or in-wafer surface uniformity, and to provide a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加
反応生成物の堆積量や分布などの堆積状態を調整することで、ライン幅の寸法やウェーハ面内均一性などの調整をすることができる半導体装置の製造方法と半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
As a specific method of electrically connecting the main substrate and the auxiliary substrate to each other, a conductive material is formed on in a step part for regulating a sliding width by using a thin film forming technology such as a sputtering method, a deposition method.例文帳に追加
主基板と補助基板を電気的に接続する具体的な手法として、摺動幅を規制する段差部にスパッタリング法や蒸着法或いはめっき法等の薄膜形成技術を用いて導電性材料を形成する。 - 特許庁
The retardation compensating element 10 comprises one birefringence laminated body 10A or a plurality of birefringence laminated bodies 10A constituted by laminating (a) layers (a≥2) of inorganic oblique vapor deposition films 13A to 13D having different oblique vapor deposition directions on a surface of a translucent base material 11.例文帳に追加
位相差補償素子10は、透光性基材11の表面に斜方蒸着方向の異なるa層(a≧2)の無機斜方蒸着膜13A〜13Dが積層された複屈折性積層体10Aを、単数又は複数備えたものであり、複屈折性積層体1は、第i番目(1≦i≦a)に成膜された無機斜方蒸着膜13A〜13Dのレターデーション値d・Δn(dは膜厚、Δnは複屈折率)をRe(i)としたとき、下記式(i)及び(i i)を充足するものである。 - 特許庁
After performing the film deposition of the metal on the plastic film, foreign matters deposited on a surface opposite to a metallic film deposition surface of the plastic film are removed, and the metallized plastic film base material is coiled.例文帳に追加
真空容器内に、プラスチックフィルムの巻出し手段、前処理装置および隔壁で隔てられた成膜室および隔壁で隔てられた巻取り手段を有する真空成膜装置を用いてプラスチックフィルムに金属を成膜加工して金属化プラスチックフィルム基材を製造する方法において、プラスチックフィルムへの金属の成膜加工後、前記プラスチックフィルムの金属成膜加工面の反対面に付着した異物を除去してから、金属化プラスチックフィルム基材を巻取ることを特徴とする金属化プラスチックフィルム基材の製造方法。 - 特許庁
The method for manufacturing the glass preform comprising manufacturing a glass particulate deposit within the glass particulate deposition apparatus in the manufacturing chamber and sintering the glass particulate deposit within the sintering apparatus, in which the manufacturing chamber is internally provided with an isolating chamber for isolating the glass particulate deposition apparatus or the sintering apparatus from the apparatus handling the gas to oxidize and corrode the metal installed in the manufacturing chamber and the apparatus for the same.例文帳に追加
製造室内のガラス微粒子堆積装置内でガラス微粒子堆積体を製造し、このガラス微粒子堆積体を焼結装置内で焼結してガラス母材を製造する方法において、前記製造室内に前記ガラス微粒子堆積装置又は焼結装置を、同製造室内に設置されている金属を酸化・腐食させるガスを扱う装置から隔離する隔離室を設けることを特徴とするガラス母材の製造方法及びそのための装置。 - 特許庁
The reactive species which react cathodically at the potential nobler than the cathodic deposition potential of the metal to be recovered in a solution having the reactive species reacting cathodically at the potential nobler than the cathodic deposition potential of the metal to be recovered are changed to the form that the reactive species do not react electrochemically as a hydroxide or chelate matter, by which the metal to be recovered is cathodically deposited in the form of maintaining ionicity and reacting electrochemically.例文帳に追加
回収しようとする金属の陰極析出電位より貴な電位で陰極反応をする反応種を有する溶液中で、前記回収しようとする金属の陰極析出電位より貴な電位で陰極反応する反応種を水酸化物またはキレート物として電気化学反応しない形態に変えることにより、前記回収しようとする金属はイオン性を保持し電気化学反応する形態で前記回収しようとする金属を陰極析出させる。 - 特許庁
To provide a sintered compact target for producing a transparent electrically conductive film which can deposit a low resistance electrically conductive film at a room temperature without heating a substrate, and enables stable high speed sputter film deposition even when high electric power is supplied.例文帳に追加
本発明は、基板を加熱せず室温にて低抵抗透明導電膜を形成でき、かつ高投入電力を投入しても安定して高速スパッタ成膜が可能な透明導電膜作製用燒結体ターゲットの提供を課題とする。 - 特許庁
To provide an effective production method for a vapor-depositing material of silicon monoxide from powder of metallic silicon and powder of silicon dioxide as raw materials by vacuum vapor-deposition method, wherein the particle distribution of both the powder and their mixing ratio are respectively controlled to constant ranges.例文帳に追加
真空蒸着法により、粒度や混合割合を一定範囲に規制した金属けい素粉末と二酸化けい素粉末を原料として、一酸化けい素蒸着材料を効率よく製造し得る製造方法を提供するものである。 - 特許庁
The ingot 10 for ceramic coating forms a raw vapor deposition material to be applied when a ceramic-coated member of a multi-layered structure is deposited by the plasma thermal spraying, and has a multi-layered structure having a composition corresponding to the ceramic-coated member.例文帳に追加
多層構造のセラミックス被覆部材をプラズマ溶射によって形成する場合に適用する蒸着原料となるセラミックス被覆用インゴット10であって、セラミックス被覆部材に対応する組成からなる多層構造を有する構成とする。 - 特許庁
To provide a polyester film for a magnetic recording medium with which the trouble by deposition of an oligomer on the surface of the polyester film can be averted even if the polyester film undergoes severe preservation conditions, such as the storage under a high-temperature environment and the storage for a long period.例文帳に追加
高温環境下での保管や長期間の保管のような過酷な保存条件を経た後でも、ポリエステルフィルム表面へのオリゴマー析出によるトラブルを回避することが可能な磁気記録媒体用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
The seals of this process are applicable to any application or industry where a large quantity of high vacuum/high purity seals are required and where traditional electro-deposition processes would not yield a sufficient quantity of finished parts or would not produce them at an acceptable cost.例文帳に追加
この方法のシールは、多数の高真空/高清浄シールが必要とされ、従来の電着方法十分な数の完成品を生産できない、あるいは許容できるコストで生産できないあらゆる用途や産業に適用可能である。 - 特許庁
A first split mask part forming means 52, a first end mask part forming means 54, and a first metal vapor deposition electrode forming means 56 are arranged in the circumferential direction and installed around the first rotary drum 44 in the vacuum tank 26.例文帳に追加
また、真空槽26内の第一の回転ドラム44の周囲に、第一の分割マスク部形成手段52と第一の端部マスク部形成手段54と第一の金属蒸着電極形成手段56とを周方向に並べて設置した。 - 特許庁
When an organic layer is formed, the metal bumps 13 serve as a deposition mask to prevent the contact of the mask with an existing film face, and the metal bumps 13 are connected to mounted parts 30 on the back face of the organic EL element together with metal electrodes 15.例文帳に追加
これにより、この金属バンプ13が有機層等の成膜時には、蒸着マスクとなって既成膜面へのマスクの接触を防止し、金属電極15と共に導出する有機EL素子の背面で実装部品30等と接続させる。 - 特許庁
The partition plate 104 has a configuration which is detachable from the reaction vessel, wherein the shape of the partition plate 104 when a deposition film is formed is different from the shape of the partition plate 104 when the partition plate 104 is detached from the reaction vessel.例文帳に追加
仕切板104は反応容器より取り外し可能な構成であり、堆積膜形成時における仕切板104の形状と、仕切板104が反応容器から取り外された状態における仕切板104の形状とが異なる。 - 特許庁
A disk identification area 4a, on which identification information to uniquely recognize the optical disk is recorded and reproduced only by reproduction beam, is provided on an inner peripheral portion of the film deposition area 12a being the main information area of the substrate 11a.例文帳に追加
基板11aの主情報領域である成膜領域12aより内周側部分に該光ディスクを一意に認識する識別情報を記録して再生ビームによる再生専用とするディスク個別認識領域4aを備えている。 - 特許庁
To provide a thin-film magnetic head device capable of obtaining sufficient durability and preventing a complex deposition step, an HGA equipped with the same, magnetic disk device equipped with the HGA, and a method for manufacturing the thin-film magnetic head device.例文帳に追加
充分な耐久性を得ることができ、しかも成膜工程が複雑とはならない薄膜磁気ヘッド装置、この薄膜磁気ヘッド装置を備えたHGA、このHGAを備えた磁気ディスク装置及び薄膜磁気ヘッド装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
Substrates 8a and 8b which are arranged to face each other across a plurality of the catalyst lines 9 erected approximately perpendicularly within a deposition chamber are arranged in an approximately V shape where the distance between the bottom ends of the substrates is smaller than the distance between the top ends of them.例文帳に追加
成膜室3内で略鉛直に立設する複数の触媒線9に対して該触媒線を挟んで対向配置した基板8a、8bを、上端部同士より下端部同士の距離が小さくなる略V字状に配置する。 - 特許庁
The surface temperature of the starting member 1 is controlled to ≥600°C by heating in the heating process and the surface temperature of the porous layer 2 in the deposition of the glass fine particles is controlled to 800-1150°C in the process for forming the porous layer 2.例文帳に追加
加熱工程において出発部材1の表面を加熱して表面温度を600℃以上とし、かつ多孔質層2を形成する工程において、ガラス微粒子を堆積する際の多孔質層2の表面温度を800〜1150℃とする。 - 特許庁
Even if the magnetization is not carried out after deposition by such impressing of the magnetic fields, not only the residual magnetization of a soft magnetic ground surface layer may be aligned in a prescribed direction but the axis of easy magnetization may be surely aligned in the prescribed direction as well without a heat treatment.例文帳に追加
このような磁界の印加によって、成膜後に着磁を行わなくても軟磁性下地層の残留磁化を所定の方向にそろえられるだけでなく、熱処理なしで磁化容易軸をも確実に所定の方向にそろえることができる。 - 特許庁
To provide a production method of radiation image conversion panel of stable thickness of phosphor film using aerosol deposition coating technique, a radiation image conversion panel produced by the production method, and a radiation detector using the radiation image conversion panel.例文帳に追加
エアロゾル・デポジション成膜法による蛍光体膜の膜厚が安定した放射線像変換パネルの製造方法と、この製造方法により製造した放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルを用いた放射線検出装置の提供。 - 特許庁
To provide a film-forming apparatus which inhibits formation of floc in an aerosol deposition method, forms and stably supplies an aerosol containing primary particles at a high ratio, and has a simple structure, and to provide a film-forming method therefor.例文帳に追加
エアロゾルデポジション法において凝集粒子が生成されるのを抑制して高い割合で1次粒子を含むエアロゾルを生成すると共に安定的に供給することができ、且つ、構成の簡単な成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁
To provide a stacked electronic part that can sufficiently suppress plating deposition on the surface of a porous green body when a terminal electrode is formed on an external electrode by plating, thereby enabling a decrease in the reliability of a product to be prevented, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加
外部電極に端子電極がめっき形成されるときに、多孔質素体の表面へのめっき付着を十分に抑止でき、製品の信頼性低下を防止することが可能な積層電子部品およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
The deposition and processing of the layer is carried out under thermal condition in which one or a plurality of layers deposited and processed underneath, particularly an organic material, is not subjected to a static temperature or a dynamic temperature excessively exceeding limitation for stability.例文帳に追加
層の蒸着及び処理は、すでに蒸着されて処理された下にある単数又は複数の層、特に有機材料を、安定のための限界を超える過度な静的又は動的温度に晒さないような熱的条件下で行われる。 - 特許庁
To provide an Fe-Co alloy sputtering target material by which machinability of an Fe-Co alloy sputtering target material for deposition of soft magnetic films used for a perpendicular magnetic recording medium can be improved and sputtering of the soft magnetic films can be stably done.例文帳に追加
垂直磁気記録媒体に用いられる軟磁性膜形成用のFe−Co系合金スパッタリングターゲット材の機械加工性を向上させるとともに、軟磁性膜を安定してスパッタリング可能なFe−Co系合金スパッタリングターゲット材を提供する。 - 特許庁
To manufacture a plastic container coated with a thin film having adequate gas barrier properties, coloring properties and adhesiveness, while suppressing the deposition of foreign matters such as a carbon powder without using an external electrode having a special shape.例文帳に追加
本発明の目的は、特別な形状の外部電極を用いることなく、炭素粉等の異物の堆積を抑制し、ガスバリア性、膜の呈色性及び膜の密着性が良好な薄膜をコーティングしたプラスチック容器を製造することである。 - 特許庁
An aqueous solution containing a cathode water (having alkaline property) in which an oxidation-reduction potential measured value is within the range of -150 mV to 0 mV is used as a washing rinse for neutralizing an acid of a dental plaque after taking between-meal snack containing saccharide to strength re-deposition of calcium of teeth.例文帳に追加
酸化還元電位実測値が−150mV〜0mVの範囲内にある陰極水(アルカリ性)を含む水溶液を、糖質を含んだ間食摂取後の、歯垢の酸を中和する洗滌水として用い、歯のカルシウム再沈着を強化する。 - 特許庁
The thickness of the phosphore layer is measured using laser displacement gauges 20a-20f or the like during film forming, heat generation of crucibles 50a-50f is adjusted by a heating control means 24 in response to the measurement result, and the deposition rate every crucible is controlled.例文帳に追加
成膜中にレーザ変位計20a〜20f等を用いて蛍光体層の膜厚を測定し、その測定結果に応じて、加熱制御手段24によりルツボ50a〜50fの発熱を調整して、ルツボ毎の蒸着レートを制御する。 - 特許庁
To provide an electrostatic atomization apparatus which suppresses the deposition-adhesion of impurities at the end of a transport part constituted with a ceramic material, avoids the clogging of minute air gaps, realizes the long life of the transport part and improves the usability.例文帳に追加
セラミック材料で構成した搬送部の先端での不純物の析出付着を抑制してセラミック材料の微少空隙の目詰まりを回避し、搬送部の長寿命化を図って使い勝手を向上させた静電霧化装置を提供する。 - 特許庁
In this method, spacer material (31) is deposited on the horizontal surface and the vertical side wall face (14, 16) of a substrate and deposition is continued until the thickness of the spacer material (31) reaches a predetermined thickness (tH, tV) less than the minimum structure size (λ).例文帳に追加
本方法では、基板の水平な面および垂直な側壁面(14、16)上にスペーサ材料(31)を堆積し、前記スペーサ材料(31)が前記最小の構造サイズ(λ)未満の所定の厚み(t_H、t_V)になるまで堆積を行なう。 - 特許庁
In the plate body 2 used for the deposition of a cathode electrodeposited material in an electrode plate 1, the region exposable on the surface of the solution face E in an electrolytic solution is covered with a protective layer 4 composed of an engineering plastic resin having acid resistance and heat resistance.例文帳に追加
電極板1においてカソード電着物の析出に供される板本体2のうち、電解液の液面E上に露出され得る領域を、耐酸性及び耐熱性を有するエンジニアリングプラスチック樹脂からなる保護層4によって被覆する。 - 特許庁
Since corrosion of the metal material of the wiring layer 20 and deposition of the corrosion material onto the surface of the plating layer 30 are inhibited, lowering of solder wettability, etc. is inhibit to improve connection reliability of the electronic component.例文帳に追加
腐食抑制層60の腐食抑制剤により配線層20の金属材料の腐食およびめっき層30表面への腐食物の析出が抑制されるので、はんだ濡れ性などの低下が抑制されて電子部品の接続信頼性が向上する。 - 特許庁
After having passed through vapor deposition processes (c) to (f) to vapor-deposit the organic layer and electrode, a test process (g) to perform a predetermined test to the vapor-deposited organic layer and electrode is equipped, and a sealing process (h) is performed after the test process.例文帳に追加
基板に有機層及び電極を蒸着する蒸着工程(c)〜(f)を経た後に、この蒸着された有機層及び電極に対して所定の検査を行う検査工程(g)を備え、該検査工程の後に封止工程(h)を行う。 - 特許庁
When a layer having an optical film thickness k×(λ_0/4) is formed for a target wavelength λ_0, the wavelength of monitor light is set to λ_0/2 and the deposition of the layer is ended at the point when the quantity of monitor light exceeds a (2×k)th extreme value.例文帳に追加
目的の波長λ_0に対して、光学膜厚がk×(λ_0/4)の層を成膜する場合、モニター光の波長をλ_0/2とし、モニター光量が2×k番目の極値を迎えた時点でその層の成膜を終了するようにする。 - 特許庁
To inhibit deposition of litter and dust and secondary disaster caused by static electricity by adding the function of discharging the static electricity generated while using a cleaning implement which is employed at most of homes for removing the litter and dust in a room or a car.例文帳に追加
おおよその家庭で使用されている室内や車内などのゴミや埃を除去する為に用いられる清掃具に使用中に発生する静電気を除電できる機能を付加し、静電気によるゴミや埃の付着や2次災害を防止すること - 特許庁
To provide a method of manufacturing a partial SOI wafer that suppresses occurrence of a defect in a region of an embedded oxide film when converting amorphous or polycrystalline silicon under deposition in a hole part reaching a bulk layer from an active layer to a single crystal.例文帳に追加
活性層からバルク層に達した孔部で堆積中のアモルファスもしくは多結晶シリコンを単結晶化させる際に埋め込み酸化膜の領域での欠陥発生を抑制させる部分SOIウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a high-quality pneumatic radial tire excellent in flexibility of a carcass cord and adhesiveness of the carcass cord and rubber, while being excellent in light weight property, durability, and passing processes, even if a deposition amount of composition of adhesion treating agent.例文帳に追加
接着処理剤組成物の付着量を減少させても、カーカスコードの柔軟性と、カーカスコードとゴムとの接着性がすぐれ、しかも軽量性、耐久性および工程通過性がすぐれた高品位の空気入りラジアルタイヤを提供する。 - 特許庁
The prevention of the deposition of a contaminant or the removal of a deposited contaminant is performed by intermittently heating the passage constituent by using a heating means 2 formed on the outside wall of the passage constituent during the transfer of the reaction product fluid W.例文帳に追加
反応生成物流体Wの移送を行う最中に、流路形成部の外壁面に設けた加熱手段2を用いて、流路形成部を断続的に加熱することにより、汚れの付着の予防又は付着した汚れの除去を行う。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an EL element that is capable of forming an organic EL layer in high precision by a photolithography method or the like and also capable of patterning in high precision the second electrode layer that is formed on the organic EL layer by a vapor deposition method.例文帳に追加
有機EL層をフォトリソグラフィー法等により高精細に形成し、かつ有機EL層上に蒸着法で形成する第2電極層も高精細にパターニングすることが可能なEL素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The vapor deposition material 15 for forming the irregularities 17b of the protective film 17 on the surface of the base is placed in 2, 3, or more second hearths 12 spacedly surrounding the first hearth and spaced from each other at a specified distance.例文帳に追加
第1ハースを所定の間隔をあけて囲むとともに互いに所定の間隔をあけて配設された2又は3以上の第2ハース12に、ベース部表面に保護膜の凹凸部17bを形成するための保護膜用蒸着材15が入れられる。 - 特許庁
To provide a thin film deposition method which can stably form thin films having performance, such as gas barrier properties, without variations and can impart flexibility to the thin films even when the thin films are formed on a number of substrates.例文帳に追加
多数の基材に対して薄膜を成する場合であっても、ガスバリア性などの性能を有する薄膜をばらつきなく安定に形成でき、さらには薄膜に柔軟性を付与することも可能な薄膜成膜方法および成膜装置を提供する。 - 特許庁
The packaging material for soybean paste in which a base material film, a resin film having a vapor-deposition film of an inorganic oxide, and a heat-sealing resin layer are laminated in turn and the soybean paste package with the use of it are disclosed.例文帳に追加
基材フィルム、無機酸化物の蒸着膜を設けた樹脂のフィルム、および、ヒ−トシ−ル性樹脂層を順次に積層したことを特徴とする味噌充填包装用包材およびそれを使用した味噌包装体に関するものである。 - 特許庁
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