「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(287ページ目) - Weblio英語例文検索

A region in an active state on the surface of a vacuum material is selectively coated with silicon dioxide or the like by deposition and the coating rate is adjusted to <100% in a stage just before film formation 15 to lower the sticking probability of H2O.例文帳に追加

真空材料の表面における活性状態にある領域を酸化シリコン等で選択的に付着させて被覆し、かつその被覆率を膜形成に至る手前の段階の１００％未満とすることにより、Ｈ_2 Ｏ付着確率を低減させる。 - 特許庁

A ZnO polycrystal layer 13 having a surface (0001) is formed on the surface of an Si wafer substrate 10 having a surface (100) coated with an Au layer 12 having a surface (111) as a light emitting layer by performing electrolytic deposition in a zinc nitrate solution.例文帳に追加

（１１１）面を有するＡｕ層１２でコートされた（１００）面を有するＳｉウエハー基板１０上に、硝酸亜鉛水溶液中で電解析出を行うことにより（０００１）面を有するＺｎＯ多結晶層１３を発光層として形成する。 - 特許庁

The semiconductor element comprises a III-V nitride semiconductor obtained by a chemical vapor deposition method, using a material gas containing a carrier gas in which an oxygen, is removed by using an oxygen gas removal means provided at a carrier gas supply passage, in which hydrogen is supplied as the carrier gas.例文帳に追加

水素がキャリアガスとして供給されるキャリアガス供給路に設けられた酸素除去手段を用いて酸素が除去された前記キャリアガスを含む原料ガスを使用した気相成長法により得られたＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体を備えてなる。 - 特許庁

A first process gas admixture equipped with a silicon source gas and a first dilution gas mixture equipped with H_2 gas and inactive gas are made to flow into a deposition chamber at a first temperature, and thereby a polycrystalline silicon film 408 is formed on the amorphous silicon film.例文帳に追加

シリコンソースガスを備える第１のプロセスガス混合物と、Ｈ_２及び不活性ガスを備える第１の希釈ガス混合物とを第１の温度で堆積チャンバ内に流入させることによって、多結晶シリコン膜４０８が該非晶質シリコン膜上に形成される。 - 特許庁

The image forming apparatus forms a toner pattern on an image carrier 202 and adjusts a charging bias, an exposure amount and a developing bias based on a toner deposition amount of the toner pattern so as to have a ratio of a background potential to a development potential being a predetermined first target ratio.例文帳に追加

画像形成装置は、像担体２０２上にトナーパターンを形成し、トナーパターンのトナー付着量を基に、現像ポテンシャルに対する地肌ポテンシャルの比率が所定の第１の目標比率となるように、帯電バイアスと露光量と現像バイアスとを調整する。 - 特許庁

In the aluminum stabilized laminate, a stabilizing layer composed of metal and having 0.001 to 1μm thickness is laminated by sputtering, vapor deposition or ion plating on the whole surface of a thin film whose surface is composed of at least aluminum.例文帳に追加

表面が少なくともアルミニウムで構成される薄膜の全面に、金属で構成される厚み０．００１〜１μｍの安定化層をスパッタリング法、蒸着法またはイオンプレーティング法のいずれかの方法により積層してなるアルミニウム安定化積層体に関する。 - 特許庁

The manufacture apparatus of conductive catalyst particle comprises a vibration means 2 for vibrating the conductive powder 1, a cooling means 5 for cooling the conductive powder 1 and a physical vapor deposition means for sticking the catalyst material to the surface of the conductive powder 1.例文帳に追加

導電性粉体１を振動させる振動手段２と、導電性粉体１を冷却する冷却手段５と、導電性粉体１の表面に触媒物質を付着させる物理的蒸着手段とを有する、導電性触媒粒子の製造装置。 - 特許庁

To provide a material for forming an insulation film containing high quality and high purity lithium or an insulation film containing lithium silicate on a surface of various substrates by spin coating method, mist deposition method or CVD method and to provide a film forming method using the same.例文帳に追加

スピンコーター法、ミストデポジション法、またはＣＶＤ法により、各種基板の表面に、高品質、高純度のリチウムを含む絶縁膜、あるいはリチウムシリケートを含む絶縁膜を成膜するための絶縁膜成膜用原料、及びそれを用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

The substrate is conveyed in vacuum, with its deposition facing upward and with the substrate held so that its conveying face does not slide, at least when it moves and delivered inside a vacuum chamber; and later the substrate is held vertical and evaporated.例文帳に追加

真空内を基板の蒸着面を上面にして搬送し、少なくとも前記基板が移動する場合には前記基板の搬送面が摺動しないように保持し、前記真空チャンバ内で前記基板を受渡し、その後前記基板を垂直にたてて蒸着する。 - 特許庁

To provide a barrier film enhanced in the close adhesiveness with a vapor deposition film of inorg. oxide, enhanced in gas barrier properties to oxygen gas and steam and enhanced in transparency, heat resistance, flexibility or laminate strength and a laminated material using the same.例文帳に追加

無機酸化物の蒸着膜との密接着性を改良し、その酸素ガスおよび水蒸気等に対するガスバリア性に優れ、更に、透明性、耐熱性、柔軟性、ラミネ−ト強度等に優れたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for producing a carbon fiber precursor acrylic fiber bundle, by which fusion between single fibers in a flame-resisting step and the deposition of scales originated from silicones in a spinning step and in a baking step can be prevented, and step passableness can be improved.例文帳に追加

耐炎化工程における単繊維間の融着を抑制でき、かつシリコーン由来の紡糸工程、焼成工程でのスケールの堆積を抑制し、工程通過性を改善することができる炭素繊維前駆体アクリル繊維束の製造方法を提供する。 - 特許庁

The aluminum-added zinc oxide-based transparent conductive film is deposited on a substrate by a vacuum vapor deposition method while a zinc oxide sintered body containing at least 0.01-10 wt.% aluminum fluoride as impurity dopant is a target material.例文帳に追加

不純物ドーパントとして少なくともフッ化アルミニウムを０．０１〜１０重量％の割合で含む酸化亜鉛焼結体をターゲット材料とした真空蒸着法により、基板上に成膜されることを特徴とするアルミニウム添加酸化亜鉛系透明導電膜。 - 特許庁

To provide a composition which can be compounded with ceramide in a large amount to well express the water-holding function of the ceramide, can stably exist in a product without causing a problem such as crystal deposition, and is excellent in safety.例文帳に追加

セラミドの有する水分保持機能をより発現するための、これを多量に配合することが可能で、かつ製品中に安定に存在して、結晶析出等の問題を生じることのない安定性並びに安全性に優れた組成物を提供すること。 - 特許庁

An oxygen absorbable packaging material is constituted by successively laminating a polyolefin inner surface material, an oxygen absorbing layer comprising a compsn. of polyolefin and a ferrous oxygen absorbent, a polyolefin cushioning layer, an aluminum foil and a stretched film or an inorg. vapor deposition plastic film.例文帳に追加

ポリオレフィン内面材／ポリオレフィンと鉄系酸素吸収剤との組成物から成る酸素吸収層／ポリオレフィン緩衝層と、アルミニウム箔／延伸フィルム、或いは無機蒸着プラスチックフィルムが順次積層されていることを特徴とする酸素吸収性包装材。 - 特許庁

The invention relates to the brilliant coating composition comprising a double layered color aluminum flake pigment coated with a metal oxide layer formed by a chemical vapor deposition method as a first layer and a second layer coated with a color pigment and a polymer, and a vehicle.例文帳に追加

第一層が化学気相蒸着法により形成された金属酸化物層により被覆され第二層が着色顔料およびポリマーにより被覆されてなる複層着色アルミニウムフレーク顔料、およびビヒクルを含有する光輝性塗料組成物。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing the conductive catalyst particles having vibrating means 5 for vibrating the conductive powder 1, physical vapor deposition means of depositing the catalyst material 18 to the surfaces of the conductive powder 1, and the balls 3, etc., as the means for amplifying the vibrations.例文帳に追加

導電性粉体１を振動させる振動手段５と、この導電性粉体１の表面に触媒物質１８を付着させる物理蒸着手段と、前記振動の増幅手段としてのボール３等とを有する、導電性触媒粒子の製造装置。 - 特許庁

A hydrogen permeable structure 3 has the porous base material 2 and the hydrogen permeable film 1 of 1 μm or below thickness which is formed on the surface of the base material 2 by applying an electric potential difference pulsewise between the base material 2 and a deposition raw material by an ion plating method.例文帳に追加

水素透過構造体３は、多孔質の基材２と、基材２と蒸着原料との間に電位差をパルス的に印加してイオンプレーティング法で基材２の表面上に形成された厚みが１μｍ以下の水素透過性膜１とを備える。 - 特許庁

In the method for manufacturing alignment layer by depositing an inorganic alignment layer on a substrate inside a chamber with predetermined atmosphere, the method includes alkylation treatment and deposition process S4a to alkylate an inorganic material flying from an inorganic material supplying means and deposit it on the substrate.例文帳に追加

所定雰囲気のチャンバ内において基板上に無機配向膜を成膜する配向膜の製造方法において、無機材料供給手段から飛来する無機材料をアルキル化して基板上に堆積させるアルキル化処理・堆積工程Ｓ４ａを含む。 - 特許庁

The carrying means has a plurality of dust collection hole parts 208 and can suck the sheet-like absorption means by collecting dust from the dust collection hole parts, thereby preventing the wrinkling of the sheet-like absorption means due to elongation and the deposition of stain to the back side.例文帳に追加

搬送手段は、複数の集塵用穴部２０８を有し、集塵用穴部から集塵することにより、シート状吸着手段を吸引し、シート状吸着手段が伸びて皺になったり、裏側に汚れが蓄積するのを防止することもできる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a vapor deposition tape capable of coping with narrowing of the track pitch of a next generation magnetic tape, in which a contraction amount generated in a tape longitudinal direction is reduced, a dimension change over aging is little and an off-track amount is half the track width or less.例文帳に追加

次世代磁気テープの狭トラックピッチ化に対応できる、テープ長手方向に生じる収縮量が緩和されて経時においても寸法変化が小さく、オフトラック量がトラック幅の半分以下である蒸着テープの製造方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, the deposition of tar in the vaporizing chamber 26 can be suppressed when quality-changed oil, etc., is used, because the flow velocity of the mixed gas increases and the staying time of the mixed gas in the chamber 26 becomes shorter.例文帳に追加

また、気化室２６に燃料と空気を混入して燃料の気化を促進し気化器１を小さくでき、混合ガスの流速が増加し燃料ガスの滞留時間が短くなり、変質油などを使用した際気化室２６内でのタ−ル化を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a bearing lubricating oil collecting device, eliminating the need for arranging extra collecting equipment around the end of a spindle without causing the deposition of used lubricating oil on a work after dropping down, even when applied to a spindle device for a machine tool.例文帳に追加

工作機械の主軸装置に適用した場合にも、使用済み潤滑油が下方に滴下してワークに付着することがなく、しかも主軸先端部の周囲に余分な回収用の機器を配置する必要のない軸受潤滑油回収装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic developer which comprises a toner having a glass transition temperature of 20-45°C and a carrier, and does not cause fogging, deterioration in transferability, carrier deposition and toner and carrier scattering even after printing on a large number of sheets (e.g., 200,000 sheets) using the electrophotographic developer.例文帳に追加

ガラス転移点が２０〜４５℃のトナーとキャリアからなる電子写真現像剤を用いて、多数枚（例えば２０万枚）プリントを行っても、かぶりの発生、転写性の低下、キャリア付着やトナー・キャリア飛散が発生しない電子写真現像剤の提供。 - 特許庁

Since the reformer for the fuel cell includes the reaction board in which the minute air pores are formed in the flow passage channel, and has the large specific surface area of the activity, and the catalyst layers are formed by a vapor deposition method, the reformer has an advantage that it is down-sized.例文帳に追加

本発明の燃料電池用改質器は、流路チャンネルに微細気孔が形成された反応基板を含んでおり、活性比表面積が大きく、蒸着法で触媒層を形成させるので、改質器を小型化することができるという長所がある。 - 特許庁

To provide a melting heat transfer ribbon for a metallic print having a metal vapor deposition layer which can be used while the setting thereof as having no metallic luster is left as it is, in a melting heat transfer printer wherein a reflection type photosensor is used for detecting a ribbon end.例文帳に追加

反射型の光センサーをリボンエンド検知に使用する溶融熱転写プリンターにおいて、金属光沢を有しない溶融熱転写リボンの設定のまま使用できる金属蒸着層のあるメタリック印画用の溶融熱転写リボンを提供するものである。 - 特許庁

To provide a plasma treating device capable of maintaining reproducibility and reliability of a process at a low cost over a long period time without producing secular change on etching characteristics by controlling a temperature of a reactor inside and a deposition state of a reactive organism to a wall face.例文帳に追加

リアクタ内部の温度と壁面への反応性生物の堆積状態を制御して、エッチング特性に経時的な変化を生じさせることなく、プロセスの再現性・信頼性を、長期間にわたって低コストで維持できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

On a housing 9 of a circuit breaker 4, a terminal cover 17 forming a mounting seat 20 is placed, and an earth wire 24 to be led into a distribution board is provided through a mounting screw 23 under the condition where a pressure-deposition terminal 25 is set on a mounting seat 20 of the terminal cover 17.例文帳に追加

回路遮断器４のハウジング９上には、取付座２０を形成した端子カバー１７が載置され、分電盤内に引き込まれるアース線２４は、圧着端子２５を端子カバー１７の取付座２０にセットした状態で、取付ネジ２３に貫通される。 - 特許庁

To provide a composite tube of a three-layered structure which is used as a fixing belt and has a heat resistant base, an elastic layer, and a release layer, and which is free of mud cracks in the release layer, has reduced carbide residues of a film deposition agent, is smooth and is high in releasing property.例文帳に追加

定着ベルトとして用い、耐熱性基材と弾性層と離型層を有する３層構造の複合管状物において、離型層にマッドクラックがなく、成膜剤の炭化物残渣が少なく平滑で離型性の高い複合管状物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the fibrous carbon by the chemical vapor deposition method comprises using a material in which at least a melamine derivative is dissolved in an organic solvent as a raw material, and spraying and introducing the raw material into the reaction container.例文帳に追加

化学気相成長法による繊維状炭素を製造する方法において、有機溶剤に少なくともメラミン誘導体を溶解したものを原料として用いて、該原料を反応容器内へ噴霧導入することを特徴とする繊維状炭素の製造方法。 - 特許庁

To suppress a deposition of a gelled material and a cured material near a mechanical seal 2b of an upper part of a rotor 3 near a rotor rotary shaft 5, in the case of manufacturing a heat curing urethane rubber composition used to manufacture a cleaning blade or a developing blade for an electrophotography.例文帳に追加

電子写真用クリーニングブレード又は現像ブレードの作製に使用される熱硬化ウレタンゴム組成物を製造する際に、ローター回転軸５付近でローター３上部のメカニカルシール２ｂ付近におけるゲル化物および硬化物の堆積を抑制する。 - 特許庁

To provide a method and a device for controlling the temperature of a molten zinc pot, the method and the device suppressing fluctuation in a zinc discharging flow attributable to an inductor in a molten zinc bath thereby suppressing deposition of floating substances or the like in the bath onto a steel sheet.例文帳に追加

溶融亜鉛浴内のインダクタによる亜鉛吐出流の流動変動を最小限に抑制し、鋼板に浴内の浮遊物質等が付着することを抑制する溶融亜鉛ポットの浴温制御方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a shape calculator for highly accurately measuring a shape by performing phase connection processing based on phase data obtained by an optical interferometer even concerning an object to be measured in which a singular part of a dust deposition part, a damaged part or the like partially exists, and to provide its program, its method and a shape-measuring device.例文帳に追加

ゴミの付着部や傷の生じた部分等の特異部が一部に存在する被測定物についても，光干渉計により得られる位相データに基づく位相接続処理を行うことによって高精度で形状を測定できること。 - 特許庁

To seek and a cause easily by monitoring the amount of warp of a substrate indirectly when processing of a substrate, e.g. deposition of a film or the like, is performed under a state of uneven in-plane temperature of the substrate and incomplete characteristics of the substrate, e.g. uneven film thickness or the like, occur.例文帳に追加

基板の反り量を間接的に監視することで、基板面内温度が不均一な状態で成膜等の基板処理が行われ、膜厚均一性等の基板特性不良が発生した時の、原因追及を容易に行うことを可能にする。 - 特許庁

After forming a dummy gate resist pattern 24 on a GaAs substrate 11 for which a buffer layer 12, a channel layer 13, an electron supply layer 14, a Schottky layer 15 and a cap layer 16 are laminated, an SiO2 film 26 provided with a gate-opening part 25 is formed by vapor deposition and lift-off.例文帳に追加

バッファ層１２とチャネル層１３と電子供給層１４とショットキ層１５とキャップ層１６とを積層したＧａＡｓ基板１１上にダミーゲートレジストパターン２４を形成後、蒸着、リフトオフによりゲート開口部２５を持つＳｉＯ_2膜２６を形成する。 - 特許庁

An alloy obtained by incorporating a CuAg alloy obtained by incorporating, by weight, 0.3 to 10.0% Ag into Cu, e.g. with Ti of 0.01 to 5.0% as a corrosion resistance improving material is used as a sputtering material for thin film deposition, and a thin film is produced thereby.例文帳に追加

Ｃｕに、Ａｇが、０．３〜１０．０重量％含有されたＣｕＡｇ合金に、耐食性向上材料として、例えばＴｉであれば０．０１〜５．０重量％含有されてなる合金を薄膜形成用スパッタリングターゲット材とし、これにより薄膜を作製する。 - 特許庁

A film deposition device comprises a reactor 420, which is internally equipped with a portion for holding a substrate; an atomizer head 408 for atomizing a liquid material solution at normal temperature, and a vaporization portion 409, which supplies the reactor with the atomized material solution while vaporizing.例文帳に追加

内部に基板を保持する基板保持部を備えた反応容器４２０と、常温で液体の材料溶液を霧状にする霧化部４０８と、霧状の材料溶液を気化させて反応容器に供給する気化部４０９とを有する成膜装置とする。 - 特許庁

A W-film 2 is deposited on the substrate 1 to be treated by CVD (Chemical Vapor Deposition) using gaseous W(CO)_6 (stage 1), and a part or the whole of the W-film 2 deposited in this way is subjected to nitriding by plasma comprising gaseous N_2 (stage 2), so that the W-based film is obtained.例文帳に追加

被処理基板１上にＷ（ＣＯ）_６ガスを用いたＣＶＤによりＷ膜２を成膜し（工程１）、そのようにして成膜したＷ膜２の一部または全部をＮ_２ガスを含むプラズマで窒化してＷＮ膜３とし（工程２）、Ｗ系膜を得る。 - 特許庁

To provide epitaxial growth apparatus in which flow of purge gas to be flown into a communication channel is controlled, deposition of bi-products on an upper wall face of the communication channel is suppressed, and amount of generation of particles on a semiconductor wafer is reduced, and consequently amount of generation of LPD is reduced.例文帳に追加

連通路に流すパージガスの流れを制御し、連通路の上壁面に堆積する副生成物を抑制し、半導体ウェーハ上のパーティクルの発生量を低減してＬＰＤの発生量を低減可能なエピタキシャル成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic head wherein a high density and a large capacity are achieved by using an oblique deposition magnetic tape for a linear magnetic recording/reproducing device and increasing an SN ratio in both of forward and backward directions, and a magnetic recording/reproducing device incorporating the magnetic head.例文帳に追加

リニア方式の磁気記録再生装置に斜方蒸着型磁気テープを用い、順方向および逆方向の両方向でＳＮ比を高めて、高密度、大容量化を実現できる磁気ヘッドおよびこれを組み込んだ磁気記録再生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a silica film which prevents excessive diffusion of source and drain layers and has a high crack limit, in place of a chemical vapor deposition method which has been so far used when it is desired to provide a flattened film or an insulating film on a wiring layer having a high heat resistance.例文帳に追加

これまで高耐熱性配線層上に、平坦化膜又は絶縁膜を設ける際に用いられていた化学蒸着法に代わる、ソース層及びドレイン層の過度の拡散を生じない、かつクラック限界の高いシリカ被膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The intake part 30 is provided with a hollow cylindrical outer wall 34a and an inner cylinder 38, and is provided with a deposition space 31b formed between an outer peripheral surface of the outer wall 34a and an outer peripheral surface 38o of the inner cylinder 38 in a suction chamber 31 in a case 34.例文帳に追加

吸気部３０は、中空円筒状の外壁３４ａおよび内筒３８を備え、また、ケース３４内の吸入室３１において、外壁３４ａの外周面と内筒３８の外周面３８ｏとの間に形成される、堆積空間３１ｂを備える。 - 特許庁

To prevent deposition of dust or the like on a magnetic disk in a magnetic disk cartridge or the like, and to improve durability of an MR head or the like that conducts recording and reading for the magnetic disk, in a magnetic disk cartridge where a high recording density magnetic disk or the like is stored.例文帳に追加

高記録密度化された磁気ディスクなどが収容された磁気ディスクカートリッジにおいて、磁気ディスクなどにおける塵埃などの付着を抑制するとともに、磁気ディスクに対し記録および読取りを行うＭＲヘッドなどの耐久性を向上させる。 - 特許庁

Thus, equal pressing is always applied to the laser bars 93, and generations of a displacement and a gap of deposition surfaces of the laser bars are prevented by the pressing force of the flat elastic member 20 even if thermal expansion and thermal deformation due to high temperature of a laser bar holding device (fixture) occur.例文帳に追加

これにより、レーザバー９３には常に均等な押圧が付与されて、レーザバー保持装置（治具）の高温による熱膨張や熱変形が発生しても、板状弾性部材２０の押圧力によりレーザバーの成膜面のずれや隙間の発生が抑制される。 - 特許庁

To provide a facing target sputtering system in which the exchanging frequency of targets can be reduced by increasing the total quantity of erosion to one target, and, also, in reactive sputtering, stable sputtering is maintained, and film deposition can smoothly be performed.例文帳に追加

一つのターゲットに対する総エロージョン量を増やすことで、該ターゲットの交換頻度を少なくすると共に、反応性スパッタにおいても、安定したスパッタを持続させて、成膜を円滑に行なうことができる対向ターゲット式スパッタ装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

A porous film 7 is directly formed on a back surface of a semiconductor device 3 mounted on a circuit board 2 by using such as a fine particle jetting method, namely a gas deposition method to form a sealed space 13 which has the porous film 7 and one side configured of the circuit boad.例文帳に追加

回路基板２上に搭載された半導体素子３の背面上に直接、例えば微粒子噴射法、即ちガスデポジション法により多孔質膜７を形成し、これを含み回路基板を一方の面とする密閉空間１３を構成する。 - 特許庁