「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(286ページ目) - Weblio英語例文検索

After installing coaxial cables 19a-19h and 24a-24h, and vacuum cables 20a-20h and 25a-25h having a standard length, and actually providing high frequency power to form a film on a substrate, the state of vapor deposition such as film thickness and the like is observed.例文帳に追加

基準長さを有する同軸ケーブル１９ａ〜１９ｈ及び２４ａ〜２４ｈ、真空ケーブル２０ａ〜２０ｈ及び２５ａ〜２５ｈを配設し、実際に高周波電力を供給して基板上に製膜させた後、膜厚等の蒸着状態を観察する。 - 特許庁

A substrate film 12 comprising a fluorine-based resin is formed on the surface of constituent fibers of the fiber sheet 11 composed of the synthetic fibers and a transparent outer surface film 13 composed of ceramics consisting essentially of SiO2 is then formed on the substrate film 12 by physical vapor deposition.例文帳に追加

合成繊維からなる繊維シート１１の構成繊維表面にフッ素系樹脂からなる下地被膜１２を形成し、この下地被膜１２の上にＳi Ｏ_2 を主成分とするセラミックスからなる透明な外面被膜１３を物理蒸着により形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing a stimulable phosphor panel of this invention is provided with a humidifying process for humidifying a phosphor panel 4 where a stimulable phosphor layer 3 is formed by the vapor deposition method on a specific substrate 2 under a humidity environment of 30 to 60%.例文帳に追加

本発明に係る輝尽性蛍光体パネルの製造方法は、所定の基板２上に気相堆積法で輝尽性蛍光体層３が形成された蛍光体パネル４を相対湿度３０〜６０％の湿度環境下で加湿する加湿工程を備えている。 - 特許庁

Further, the vacuum vapor deposition surface of the nonwoven fabric is coated with a hybrid resin of an ultraviolet curable resin and an isocyanate curing resin using a lip coater by a thickness setting of Wet 25μm, an ultraviolet curing resin layer is formed, and a fiber-tone decorative sheet is obtained.例文帳に追加

さらに、上記不織布の真空蒸着した面に紫外線硬化性樹脂とイソシアネート硬化樹脂のハイブリット樹脂をリップコーターを用いてWet２５μｍの膜厚設定でコーティングを行なって紫外線硬化樹脂層を形成し、繊維調加飾シートを得た。 - 特許庁

In a method for forming a polysilicon film 11 on the surface of a glass substrate 100 with a chemical vapor deposition method using the plasma of SiH4 gas and H2 gas, the method includes intermittently supplying the SiH4 gas to the apparatus while supplying the H2 gas thereto.例文帳に追加

ＳｉＨ４ガスおよびＨ２ガスのプラズマを用いた化学気相成長法によりガラス基板１００の表面にポリシリコン膜１１を形成するポリシリコン膜形成方法において、上記Ｈ２ガスの供給中に上記ＳｉＨ４ガスを断続的に供給する。 - 特許庁

The atomic-layer deposition method includes controlling the amount of the gases to be introduced into the inner channel 8A and the outer channel 8B when supplying the gases onto the substrate 6, so that one of the gases pass through the inner channel 8A constantly at the same flow rate as the other gas passing through the outer channel 8B.例文帳に追加

基板６に対するガス供給時に、内側流路８Ａを通過するガスの流量と外側流路８Ｂを通過するガスの流量が常に同じになるように、内側流路８Ａおよび外側流路８Ｂへのガス導入量を制御する。 - 特許庁

To obtain a method for manufacturing lead powder by a burton pot process, by which lead powder is manufactured while controlling the temperature of a reaction pot to a constant value with rapid responsiveness, suppressing the deposition of molten lead to the inner wall of the reaction pot, and preventing the excessive oxidizability of the resulting lead powder.例文帳に追加

速い応答性で反応釜の温度を一定に制御しつつ、反応釜の内壁に対する溶融鉛の付着を抑制し且つ鉛粉の酸化度が過度にならないようにしつつ鉛粉を製造するバートンポット方式の鉛粉製造方法を得る。 - 特許庁

By splashing the vapor deposition material 11 for surface treatment to the surface of the MgO protective film 13, each cavity 13a with the average hole diameter of 50 to 10,000 nm is formed, and also, each particle 13b with the average particle diameter of 50 to 10,000 nm is stuck thereto.例文帳に追加

この表面処理用蒸着材１１をＭｇＯ保護膜１３の表面にスプラッシュさせることにより、平均穴径５０ｎｍ〜１００００ｎｍの窪み１３ａが形成され、かつ平均粒径５０ｎｍ〜１００００ｎｍの粒子１３ｂが付着される。 - 特許庁

The production method for the light shielding film uses a transferable silver complex salt as at least a portion of silver halide emulsion, and comprises diffusing the silver halide emulsion into an image receiving layer containing a silver deposition agent to form silver fine particles, then forming an image by exposing the image receiving layer, and removing the non-image part.例文帳に追加

ハロゲン化銀乳剤の少なくとも一部を転写性銀錯塩として、銀沈積剤を含有する受像層に拡散し銀微粒子を形成させ、次いで該受像層を露光し画像を形成した後、非画像部を除去する遮光膜の製造方法。 - 特許庁

To reduce the cost in comparison with a conventional method by providing a new substrate holder capable of checking the condition by a simple method without disturbing the film deposition condition during a normal production in a condition checking process in manufacturing a thin film on a large substrate.例文帳に追加

大型基板への薄膜製造における条件確認プロセスにおいて、通常の生産時の成膜条件を乱すことなく、簡便な方法で条件確認ができるように、新たな基板保持具を提案し、従来の方法よりコストダウンを図ること。 - 特許庁

To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus which uses a gas jet plate used for the production of a titanium nitride thin film or the like, the CVD apparatus suppressing the generation of deposits formed on the gas jet plate, and to provide a thin film production method.例文帳に追加

窒化チタン薄膜などの作製に使用されるガス噴出板を用いたＣＶＤ装置において、ガス噴出板に形成される付着物の発生を抑制することができるＣＶＤ装置及び薄膜製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A first optical displacement meter 10_1 facing the substrate surface and a second displacement meter 10_2 facing the substrate rear face are disposed at parts of a downstream-side substrate conveyance path of the film deposition section 4 so as to locate the mutual optical axes on a same straight line.例文帳に追加

成膜処理部４の下流側の基材搬送路の部分に、基材表面に対向する第１の光学式変位計１０_１と基材裏面に対向する第２の光学式変位計１０_２とを互いの光軸が同一直線上に位置するように配置する。 - 特許庁

In the deposition step S2, the mean density of fine glass particles deposited around the starter rod 11 is preferably ≥0.2 and <0.4g/cc and the mean density of fine glass particles deposited around the seed bar pipe 12 is preferably ≥0.4g/cc.例文帳に追加

堆積工程Ｓ２において、出発棒１１の周囲に堆積されるガラス微粒子の平均密度を０.２ｇ／ｃｃ以上０.４ｇ／ｃｃ未満とし、種棒パイプ１２の周囲に堆積されるガラス微粒子の平均密度を０.４ｇ／ｃｃ以上とすることが好ましい。 - 特許庁

The using method of the vertical film deposition device includes a step for coating at least the inner wall of a treatment container with first treatment gas and second treatment gas, and a step for depositing a film on the treatment object by the first treatment gas and second treatment gas.例文帳に追加

縦型成膜装置の使用方法は、第１の処理ガスおよび第２の処理ガスにより少なくとも処理容器の内壁をコーティングする工程と、第１の処理ガスおよび第２の処理ガスにより被処理体に膜を形成する成膜工程とを有する。 - 特許庁

To provide a confirmation method for electrodeposited coating film deposition in a marine structure by which corrosion prevention performance of an electrodeposited coating film can be evaluated at high precision without measuring the film thickness of a corrosion prevention electrodeposited coating film by a diver, and a corrosion prevention electrodeposited coating film can be securely formed on the whole of a submerged part.例文帳に追加

ダイバーによる防食電着被膜の膜厚計測を行うことなく、防食性能を精度良く評価し得、水没部全体に防食電着被膜を確実に形成し得る海洋構造物における電着被膜形成確認方法を提供する。 - 特許庁

To provide a marking tool for accurately specifying the insertion length of a flexible pipe (5) into a joint to enable safe marking while preventing damage to the outside face of the flexible pipe (5) and inconveniences such as the deposition of grit and dust or the entry of foreign matters into the flexible pipe (5) during marking.例文帳に追加

フレキ管(5)の継手への挿入長さを正確に規定するマーキング治具に関し、マーキングが安全に行なえ、マーキング時にフレキ管(5)の外側面部に傷をつけたり、塵や埃が付着したりする不都合や、フレキ管(5)内に異物が侵入する不都合を防止する。 - 特許庁

To provide a liquid ejection device that effectively prevents the deposition of a dissolved substance of liquid on a circumferential surface of a rotational roller which may occur when the liquid adhering to the rotational roller by flushing is dried, and thereby prevents a nozzle forming face of a liquid ejection head from being damaged or contaminated.例文帳に追加

フラッシングにより回転ローラーに付着した液体が乾燥し、液体の溶質が回転ローラーの周面に堆積することを効果的に防ぎ、液体噴射ヘッドのノズル形成面を傷つけたり汚してしまうことのない液体噴射装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a magnesium oxide sintered compact which can suppress the occurrence of splashing during film formation and rarely causes clogging at a supply inlet of a film-forming device, a deposition material for a PDP-protecting film, which comprises the sintered compact, and a method for producing the sintered compact.例文帳に追加

成膜時にスプラッシュ発生の抑制が可能であり、成膜装置の供給口での詰まりが発生しにくい酸化マグネシウム焼結体、及び、これを用いたＰＤＰの保護膜用蒸着材、並びに、前記焼結体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique which is useful when a thin film of a superconductor or the like is deposited using a solution vaporization type CVD system and evades the inhibition in the deposition of a thin film of high quality caused by the abnormality of a vaporized state in a vaporizer.例文帳に追加

溶液気化型のＣＶＤ装置を用いて超電導体等の薄膜を形成する際に有用な技術であって、気化器における気化状態の異常により良質な薄膜の形成が阻害されるのを回避するための技術を提供する。 - 特許庁

A main control part is configured to execute a color reproduction accuracy improving process when a colorimetric adapting area suitable for measuring a multi-dimensional color is found in images, and to execute a deposition amount stabilizing process when a colorimetric adapting area is not found.例文帳に追加

画像の中から多次色を測色するのに適した測色適応領域が見つかった場合には、色再現精度向上処理を実施する一方で、見つからなかった場合には付着量安定化処理を実施するように、メイン制御部を構成した。 - 特許庁

Ceramic layers 27a and 27b are formed by means of vapor deposition, on the first side surface 13e and the second side surface 13f, respectively, of the ceramic member 13, and thereby, an electronic component body 43 that is constituted of the ceramic member and the ceramic layers 27a and 27b is formed.例文帳に追加

セラミック部材１３の第１及び第２の側面１３ｅ、１３ｆのそれぞれの上に、蒸着によりセラミック層２７ａ、２７ｂを形成することにより、セラミック部材１３とセラミック層２７ａ、２７ｂとからなる電子部品本体４３を形成する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition polymerizer in which two raw material monomer gases are made to flow into a treatment chamber 1 to deposit a polymer film on the surface of a substrate S, which can deposit a polymer film having a uniform compositional distribution and a uniform film thickness distribution, and also, has excellent productivity.例文帳に追加

処理室１に２種類の原料モノマーガスを流入させ、基板Ｓの表面に高分子膜を形成する蒸着重合装置であって、組成分布及び膜厚分布の均一な高分子膜を形成でき且つ生産性に優れた装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate holding member for eliminating the attaching/detaching work of a back plate in a film forming process, facilitating uniform raising of the temperature of the plane of a substrate, and permitting efficient chemical vapor deposition of thin films, and provide a method for manufacturing thin films.例文帳に追加

成膜工程における背板の着脱作業を解消し、基板の面の温度を均一に昇温することが容易であり、効率のよい薄膜の化学蒸着を可能にすることができる基板保持部材及び薄膜の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a burner for manufacturing a porous glass preform which enhances gas mixing efficiency, improves deposition efficiency and reduces a thermal load applied to the device without increasing quantity of use of combustible gas and combustion supporting gas and without causing turbulence of a flame flow.例文帳に追加

可燃性ガス及び助燃性ガスの使用量を増やすことなく、火炎流を乱さず、ガスの混合効率を高め、堆積効率を向上させるとともに、装置にかかる熱負荷を低減させることのできる多孔質ガラス母材製造用バーナを提供する。 - 特許庁

A coil is conductively coupled with the metallic plate at a connecting position configured to generate such a peak-to-peak voltage that optimally reduces the sputtering of the internal surface of the window and substantially simultaneously prevents deposition of by-products of etching on the internal surface of the window.例文帳に追加

コイルは、窓の内面がスパッタリングされるのを最適に低減し、それと実質同時に、窓の内面上にエッチング副産物が堆積されるの防ぐような、ピークトゥピーク電圧を生成するように構成された接続位置において、金属板に導電結合される。 - 特許庁

To provide a glass film cutting device capable of securely preventing deposition of a glass powder onto a product glass part, provided that the glass powder is produced when crushing and recovering an unnecessary glass part after dividing a glass film into the product glass part and the unnecessary glass part.例文帳に追加

ガラスフィルムを切断して製品ガラス部と不要ガラス部とに分割した後に、その不要ガラス部を破砕して回収する際に生じるガラス粉が製品ガラス部に付着する事態が発生することを確実に防止するガラスフィルム切断装置を提供する。 - 特許庁

The thin film deposition device includes: a holder 102 supporting a substrate 110; a mask 103 arranged oppositely to one side of the substrate; and a static electricity removal part 120 removing the static electricity generated between the substrate and the mask by causing electric current to flow in the mask.例文帳に追加

基板１１０を支持するホルダー１０２と、基板の一面に対向するように配されるマスク１０３と、基板とマスクとの間に発生した静電気をマスクに電流を流して除去する静電気除去部１２０と、を備える薄膜蒸着装置とする。 - 特許庁

When the tungsten member is embedded in nonthrough-hole for forming a through via, a deposition is conducted by positioning an extensive part of the tungsten member at the inner side from the extensive part of a barrier metal film of the base material at the peripheral part of the wafer.例文帳に追加

本願発明は、貫通ビアを形成するための非貫通孔をタングステン部材で埋め込むに当たり、ウエハの周辺部において、下地のバリアメタル膜の外延部より内側に、タングステン部材の外延部を位置させるように成膜を実行するものである。 - 特許庁

A second terminal forming surface opposite to the first terminal forming surface is tilted to the irradiation surface of the target, and the second terminal forming surface is subjected to dry deposition by using the target with at least a periphery of the second terminal forming surface surrounded (step S107).例文帳に追加

そして、第１端子形成面と対向する第２端子形成面をターゲットの照射面に対して傾斜させるとともに、第２端子形成面の周囲を少なくとも囲んだ状態で、ターゲットを用いて第２端子形成面に乾式成膜する（ステップＳ１０７）。 - 特許庁

At the coating step, a temperature in the treatment container is set at a second temperature higher than a first temperature during film deposition, and coating is conducted by introducing the first treatment gas and the second treatment gas alternately for the treatment container without causing plasmatization.例文帳に追加

コーティング工程は、処理容器内の温度を成膜の際の第１の温度よりも高い第２の温度に設定し、処理容器に対し、第１の処理ガスの導入と、第２の処理ガスの導入とをいずれもプラズマ化せずに交互的に行ってコーティングを行う。 - 特許庁

The power supply comprises a power source configured to bias the target with a sputtering voltage relative to the substrate support and configured to bias the target with a reverse voltage about 10 or more times for a period of about one second after an arc is detected inside the physical vapor deposition chamber.例文帳に追加

基板支持部に対しスパッタリング電圧でターゲットをバイアスし、物理気相蒸着チャンバ内でアーク放電が検出された後、約１秒間に約１０回又はそれ以上、逆方向電圧でターゲットをバイアスするように構成された電源を備えている。 - 特許庁

In a vacuum tank 1, a tray 6 storing a powdery target material 5 is installed on a heater 3 for heating a target, the tray 6 is heated by the heater 3 before film deposition, and the target material 5 is preliminarily heated so as to perform adsorbed moisture removal thereto.例文帳に追加

真空槽１内において、粉末状のターゲット材料５を収納するトレー６をターゲット加熱用のヒータ３の上に設置し、前記トレー６を成膜前にヒータ３により加熱し、ターゲット材料５を予備加熱して吸着水分除去などを行う。 - 特許庁

To provide a method for estimating with high accuracy the film thickness distribution of a thin film to be formed by a vacuum vapor deposition method and the optical characteristic distribution only by a simple calculation through a simple and appropriate modeling of a vapor source without actually forming the film.例文帳に追加

実際に成膜を行なわなくても、蒸発源の単純且つ適切なモデル化による簡便な計算のみによって、真空蒸着法により形成される薄膜の膜厚分布及び光学特性分布を高精度に予測する方法を提供することである。 - 特許庁

A heater with relatively small critical dimensions (CD) which has a sloped linear side wall is provided through a process of adjusting one or more physical parameters (for example, pressure, high frequency (RF) power 1010 and/or temperature) during etching and/or deposition.例文帳に追加

エッチングおよび／または堆積の間、一つ以上の物理的パラメータ（例えば圧力、高周波（ＲＦ）電力１０１０および／または温度）を調整するプロセスにより、傾斜した直線側壁を有する比較的小さい限界寸法（ＣＤ）のヒーターを実現できる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metalized film, which can suppress dissipation (membrane retraction) of a metal deposition layer caused by oxidation deterioration of the metalized film without degrading a winding property of a film, and to provide the metalized film, and a capacitor using the metalized film.例文帳に追加

フィルムの巻取り性を低下させることなく、金属化フィルムにおける酸化劣化による金属蒸着層の消失（膜後退）を抑制することができる金属化フィルムの製造方法、該金属化フィルム、および該金属化フィルムを用いたコンデンサを提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition apparatus which can achieve, at the outside of a molding machine, energy saving wherein the occlusion of moisture in a product to be film-deposited discharged from the molding machine is suppressed to reduce energy consumed for evacuation and which can consequently utilize the existing molding machine.例文帳に追加

成形機から取り出された被成膜製品の水分吸蔵を抑制して真空引きに消費するエネルギを低減できる省エネルギ化を、成形機の外で実現できるようにして、既設成形機の利用を可能にした真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for metal surface treatment capable of depositing a surface-treated coating film having storage property, excellent corrosion resistance, and excellent deposition property on a coating film to be formed by the subsequent coating process, and a base metal having the surface-treated coating film.例文帳に追加

貯蔵性に優れ、そして耐食性に優れ且つ後の塗装工程によって形成される塗膜との付着性にも優れた表面処理皮膜を形成できる金属表面処理用組成物、並びに表面処理皮膜を有する金属基材を提供すること。 - 特許庁

An extrusion molding apparatus equipped with a pressure roll 16, a pattern roll 15, and a temperature conditioning roll group 17 is used, a molten resin in the shape of a sheet is discharged from a T-die 13, the discharged resin sheet 14 is pressurized by the pattern roll 15 for molding the shape of a pattern and the pressure roll 16, and the deposition of the pattern is carried out.例文帳に追加

加圧ロール16、パターンロール15と温調ロール群17を備えた押出成形装置を用い、Tダイ13からシート状に溶融樹脂を吐出し、吐出した樹脂シート14をパターン形状を成形するためのパターンロール15と加圧ロール16により加圧し、パターンを成膜する。 - 特許庁

The metal-containing fabric is manufactured by forming the thin metal film layer on at least one surface of the fabric by metal vapor deposition, and applying a treating liquid of a coloring agent-containing resin to the yarn portion of the thin metal film layer.例文帳に追加

布帛の少なくとも片面に、金属蒸着によって金属薄膜層を形成し、次いでその金属薄膜層の糸条部に着色剤含有樹脂からなる処理液を塗布した後、乾燥させることを特徴とする金属含有布帛の製造方法。 - 特許庁

Moreover, in the case of performing a process of carrying out a wafer by evacuating the inside of the reaction vessel after depositing the silicon germanium film, the silicon germanium film is annealed by hydrogen gas while lowering the temperature inside the reaction vessel from the deposition temperature, so as to suppress the migration at the time of evacuation.例文帳に追加

またシリコンゲルマニウム膜を成膜後に反応容器内を真空引きしてウエハを搬出する工程を行う場合には、反応容器内を成膜温度から降温させながら水素ガスによりシリコンゲルマニウム膜をアニールし、真空排気時のマイグレーションを抑える。 - 特許庁

To provide a glycolipid-containing emulsified composition having excellent stability with time of the emulsified composition itself without causing a trouble such as deposition of insoluble materials or formation of neck rings by long-term preservation even when used for an acidic water-based food.例文帳に追加

乳化組成物それ自身が経時的安定性に優れ、かつ酸性の水系食品に使用しても、長期保存によって不溶物が析出したり、ネックリングが生成する等といった不都合が生じることのない糖脂質含有乳化組成物を提供する。 - 特許庁

The epitaxial wafer has a silicon epitaxial layer formed by deposition on a surface of a silicon substrate cut out from a silicon single crystal, and an oxygen concentration of a surface of the silicon epitaxial layer ranges from 1.0×10^17 to 12×10^17 atoms/cm^3.例文帳に追加

シリコン単結晶から切り出されたシリコン基板表面にシリコンエピタキシャル層が成膜堆積されたエピタキシャルウェーハであって、 前記シリコンエピタキシャル層表面の酸素濃度が１．０×１０^１７〜１２×１０^１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３ とされてなる。 - 特許庁

To provide an image reading apparatus capable of preventing deposition of dust and dirt to each mirror provided to an optical system movement unit and preventing image deterioration by preventing the dust and dirt from endering the inside of the housing of the image reading apparatus.例文帳に追加

本発明は、ゴミや埃等の内部筐体への侵入を防ぎ、光学系移動ユニットが備える各ミラーに対するゴミや埃等の付着を防止できるとともに、画像の劣化を防止することができる画像読取装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The introduction of carbon-containing gas and gaseous hydrogen each necessary for the deposition of the graphite nanofiber thin film is performed via a gas injection nozzle means 19 which is located in a position at a height below the position of the substrate S in a manner to surround the substrate in the vicinity of its outside periphery.例文帳に追加

グラファイトナノファイバー薄膜の形成に必要な炭素含有ガスと水素ガスとの導入は、基板Ｓの高さ位置より下側であって、被処理基板をその外周の近傍で囲繞するように設けられたガス噴射ノズル手段１９を介して行う。 - 特許庁

In the method for manufacturing a capacitor dielectric layer which is performed in the deep trench of the semiconductor substrate, a washing process is first performed and thereafter a silicon nitride deposition process is performed to form an SiN layer on the side wall and the bottom of the deep trench.例文帳に追加

本発明は、半導体基板のディープトレンチで実施されるキャパシタ誘電層の製作方法に関わり、この製作方法では先ず、プレ洗浄工程が実施され、その後窒化シリコン堆積工程が実施されて、ディープトレンチの側壁と底部にＳｉＮ層が形成される。 - 特許庁