「Diffusion」に関連した英語例文の一覧と使い方(316ページ目) - Weblio英語例文検索

Now, the changes in the terms of trade diffusion index (D.I.) (sales price D.I. deducted by purchase price D.I.34) show that the disparity between the D.I. of the basic materials industry and the processing industry became evident sometime around 2004, when the deterioration in the terms of trade began (see Figure 2-2-26).例文帳に追加

そこで、製造業の素材業種と加工業種の交易条件D.I.（販売価格D.I.－仕入価格D.I.34）の推移を見ると、交易条件の悪化が始まった2004年頃から素材業種と加工業種のD.I.の格差が拡大していることが分かる（第2-2-26図）。 - 経済産業省

The blanket device 4 provided with a blanket 5 having separated segment parts restricts the diffusion of the processing liquid 11 by the blanket 5 to the direction in parallel with the delivery direction of the blanket 5 to uniformly distribute along the direction parallel with the rotating shaft 12.例文帳に追加

セグメント分割部を有するブランケット５を備えたブランケット装置４により、ブランケット５における処理液１１の拡散が、ブランケット５の給送方向と平行な方向に制限され、処理液１１が回転軸１２と平行な方向に均一に分配される。 - 特許庁

To reduce the amount of impurities being diffused from a lower clad layer to a luminous layer by stabilizing the Vf of an LED, and suppressing the diffusion of the impurities contained in a DBR layer to the lower clad layer, to prevent the luminous intensity of the LED from decreasing.例文帳に追加

ＬＥＤのＶｆの安定化を達成し、またＬＥＤの発光強度が低下するのを防ぐために、ＤＢＲ層に含有される不純物が下部クラッド層に拡散するのを抑制し、下部クラッド層から発光層に拡散する不純物の量を低減する。 - 特許庁

A protective film is deposited before high temperature annealing on the surface where a mask and oxide film 3, etc., are removed after impurity ions 5 are implanted in the surface layer, so that a surface roughening is prevented while impurity atoms are suppressed form being desorbed from surface due to out-diffusion.例文帳に追加

表面層に不純物イオンを注入し、マスク、酸化膜等を除去した表面に、保護膜を堆積して高温アニールをおこなうことにより、表面荒れを防ぐとともに不純物原子の外方拡散による表面からの脱離を抑制する。 - 特許庁

here, the diffused reflection mechanism is formed by a silk printing 6 or a V-shaped grooves 7 formed on a face 2b opposite to the side face 2c for emitting the light of the light guide plate 2, or a light diffusion material 8 mixed in the light guide plate 2.例文帳に追加

ここで、乱反射機構は、例えば導光板２の光を出射する側面２ｃと反対側の面２ｂに形成されたシルク印刷６若しくはＶ字状溝７、または導光板２内に混入された光拡散材８から構成することができる。 - 特許庁

When an illuminating light which is not perfectly uniformed is incident on a liquid crystal panel 41a by diffusing effect of a light diffusion member 44a disposed in a stage prior to the liquid crystal panel 41a, the range or distribution of incident angle of the light is properly uniformed.例文帳に追加

完全には一様となっていない照明光が、液晶パネル４１ａ前段に配置された光拡散部材４４ａでの拡散作用によって、液晶パネル４１ａに入射する際に、光の入射角度の範囲や分布が適度に均一化されたものとなる。 - 特許庁

Then insulating films 21 and 22 for a reserver pattern and a barrier insulating film 29 are formed, and an insulating film 31 having a function of suppressing or preventing diffusion of copper is formed on an upper surface and a side surface of the wiring 26 and on the insulating film 17 and insulating film 29.例文帳に追加

それから、リザーバーパターン用絶縁膜２１、２２及びバリア絶縁膜２９を形成し、配線２６の上面および側面上と絶縁膜１７及び絶縁膜２９上に銅の拡散を抑制または防止する機能を有する絶縁膜３１を形成する。 - 特許庁

The inverse diffusion timing control means judges the situation of path fluctuation based on delay profile generation result information and SIR information, outputs delay profile generation means control information 122 and controls the operation/stop of the delay orofile generation means.例文帳に追加

逆拡散タイミング制御手段はまた、遅延プロファイル作成結果情報とＳＩＲ情報とに基づいてパス変動の状況を判定し遅延プロファイル作成手段制御情報１２２を出力して遅延プロファイル作成手段の動作・停止を制御する。 - 特許庁

The device is equipped with at least one light source (S) which irradiates a light guide having a diffusion region which diffuses the light propagating inside toward the outside locally, or a reflecting region which reflects the light, or both regions at a part of the faces.例文帳に追加

内部を伝搬する光が外部に向かって局部的に拡散するような拡散領域、若しくは反射するような反射領域、又は両方の領域を面の一部に有している光ガイドを照射する少なくとも１つの光源（Ｓ）を備えている。 - 特許庁

Material gas via the diffusion relay pipe 132 is introduced to a gas discharge pipe 133 through a communicating part 138, is discharged to a side of the substrate W in a deposition room 101 from the gas discharge port 134, and is supplied onto the substrate W.例文帳に追加

これらの拡散中継管１３２を経由した原料ガスは、最後に、連通部１３８を通ってガス吐出管１３３に導入され、ガス吐出口１３４より成膜室１０１内の基板Ｗの側に吐出されて基板Ｗの上に供給される。 - 特許庁

To provide a method and a device where, in the case a semiconductor wafer or the like is plated with a metal film, for the purpose of solving the problem that ununiform electrodeposition occurs by the diffusion of plating current and the ununiformity of a fluid distribution, an electric field distribution and a fluid flow are controlled.例文帳に追加

半導体ウェーハなどに金属フィルムをメッキする場合、メッキ電流の拡散や、流体分布の不均一によって、不均一な電着を生じる問題を解決するために、電界分布や流体フローを制御する方法および装置を提供する。 - 特許庁

Compressed air is sent into the lower part of the polluted area 2 surrounded by the cut-off wall 3 and the air mixed with the organochlorine compound contained in the soil of the polluted area 2 is expelled to ground surface to be collected by the air diffusion preventing sheet 10.例文帳に追加

エアーパイプ８を介して止水壁３で囲われた汚染エリア２の内部下方に対して圧縮空気を送り込み、汚染エリア２の土中に含まれている有機塩素系化合物が混合した空気を地表に追い出し、空気拡散防止シート１０に収集する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical element using a thin plate having a rugged part formed on the surface of a substrate by dry etching and the like, wherein the surface of the substrate which lacks Li by its external diffusion is repaired and breakage of the substrate is suppressed.例文帳に追加

ドライエッチングなどにより基板表面に凹凸部を形成した薄板を使用する光学素子の製造方法において、Ｌｉの外拡散で欠乏した基板表面を補修すると共に、基板の破損を抑制した光学素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a backlight unit for a liquid crystal display device capable of preventing a lift of a liquid crystal panel caused by the displacement of a diffusion film or an optical film arranged in the backlight unit, having the high efficiency of assembling work and excelling in reworkability.例文帳に追加

バックライトユニット内に配置された拡散フィルムや光学フィルムフィルムのずれに起因する液晶パネルの浮きを防止することができるとともに、組み立て作業の効率が良く、しかもリワーク性に優れた液晶表示装置用バックライトユニットを提供する。 - 特許庁

In the reverse blocking insulated gate type bipolar transistor of which the substrate thickness is equal to 150 μm or less, a trench 23 formed on a first main surface side is used to form an isolation diffusion region 32.例文帳に追加

基板の厚さが１５０μｍ以下の逆阻止型絶縁ゲート形バイポーラトランジスタにおいて、第一主面側に形成した分離領域形成用トレンチ溝２３を利用して分離拡散領域３２が形成されている逆阻止型絶縁ゲート形バイポーラトランジスタとする。 - 特許庁

The element isolation region is a deep trench 15, consisting of a forward taper profile 13 and a bowing profile connecting to a lower part, and a boundary surface between the forward taper profile 13, and the bowing profile is arranged in the high concentration impurity diffusion semiconductor layer 1.例文帳に追加

素子分離領域は、順テーパ形状部１３及び下部に繋がるボーイング形状部からなるディープトレンチ１５であり、前記順テーパ形状部と前記ボーイング形状部との境界面は高濃度不純物拡散半導体層１内に配置されている。 - 特許庁

To provide a Group-III nitride semiconductor light-emitting device having high light-emission intensity, by making a hetero-junction light-emitting region and a current diffusion layer disposed on a silicon single crystal substrate from a good-quality Group-III nitride semiconductor crystalline layer with low crystal defect density.例文帳に追加

珪素単結晶基板上に設けるヘテロ接合発光部及び電流拡散層を、結晶欠陥密度の少ない良質のＩＩＩ族窒化物半導体結晶層から構成することにより、高発光強度のＩＩＩ族窒化物半導体発光素子を得る。 - 特許庁

This particulate preparation apparatus has such a construction that a gas inflow means for causing a gas to flow around the jet stream of a matter jetted from the spray nozzle 3 is installed so as to bring the jet stream into contact with the flowing gas to conduct the jet stream control such as diffusion prevention.例文帳に追加

スプレーノズル３から噴出された噴流物の噴出流周りに、気体を流入せしめる気体流入手段を設けて、噴出流を、前記流入気体と接触させて保温、拡散防止等の噴流制御が行われるよう構成する。 - 特許庁

An impurity diffusion region for forming an element is formed on one surface of a water-shaped semiconductor substrate 30, and the substrate 30 is formed with a predetermined thickness being ground from the opposite face, and etched to a predetermined depth so as to be made thin excluding the outer periphery.例文帳に追加

ウエハ状の半導体基板３０における一方の面の表層部に素子形成用不純物拡散領域を形成し、その反対の面から研削加工して基板３０を所定の厚さにし、外周部を残して所定深さまでエッチングして薄膜化する。 - 特許庁

A buffer layer 12, a first electron supply layer 13, a channel layer 14, a second electron supply layer 15, a diffusion layer 16, and a cap layer 17 are laminated in order on a substrate 11 consisting of a semi-insulation single crystal GaAs to form a semiconductor lamination part 10.例文帳に追加

半絶縁性単結晶ＧａＡｓよりなる基板１１上に、バッファ層１２、第１電子供給層１３、チャネル層１４、第２電子供給層１５、拡散層１６、キャップ層１７が順次積層されて半導体積層部１０が形成される。 - 特許庁

To form a high-concentration impurity diffusion region, and to provide measures against dishing in CMP treatment without adding any photolithography processes with a configuration, where transistors having gate insulation films with different film thicknesses are provided and a guard ring is provided around an element formation region.例文帳に追加

膜厚の異なるゲート絶縁膜のトランジスタを備えると共に素子形成領域の周囲にガードリングを設ける構成で、フォトリソグラフィ工程を追加することなく、高濃度の不純物拡散領域の形成とＣＭＰ処理のディッシング対策を行えるようにする。 - 特許庁

Next, the sealing material 40D is heated at a temperature or higher at which the viscosity of the sealing material 40D is lowered, a temperature at which the hardening reaction of the sealing material 40D starts, and a temperature lower than the temperature at which the diffusion preventing part 20 starts to be deformed (step S4).例文帳に追加

次に、封止材料４０Ｄの粘性が低下し始める温度以上、封止材料４０Ｄの硬化反応が始まる温度および流出防止部２０が変形し始める温度よりも低い温度で、封止材料４０Ｄを加熱する（ステップＳ４）。 - 特許庁

The projecting parts 10 are formed near both the ends with respect to the longitudinal direction so that a maximum warped position 4d is not brought into contact with a display region 2d of the LCD 2 through the diffusion sheet 3, when the lighting plate 4 is cased in the holder 8 in a warped state.例文帳に追加

突出部１０は、採光板４が反った状態でホルダ８内に収納された際に、ＬＣＤ２の表示領域２ｄに最大反り位置４ｄが拡散シート３を介して接触しないように、長手方向の両端部近傍に設けられている。 - 特許庁

A reference value calculating section 61 obtains a reference value in accordance with density of the target pixel, and an inversion processing section 55 compulsorily inverts the processing result of the error diffusion processing on the target pixel based on the count value and the reference value, and outputs the output data.例文帳に追加

また、基準値算出部６１により、注目画素の濃度に応じて基準値を取得し、反転処理部５５において、カウント値と基準値とに基づいて、注目画素についての誤差拡散処理の処理結果を強制的に反転し、出力データを出力する。 - 特許庁

To provide an ammonia removal equipment for wastewater achieving the reduction of NPSH (net positive suction head) and the installation height of a diffusion column on the basis of the lowering of the water temperature on the suction side of a treated water pump, low in equipment cost and installation cost and having good maintenance properties.例文帳に追加

処理水ポンプの吸込み側水温の低下に基づき、ＮＰＳＨの低減および放散塔の設置高さの低減を図り、設備費用およびその設置費用が安価で、かつメンテナンス性が良好な排水中のアンモニア除去装置を提供する。 - 特許庁

To provide an underground water drainage structure which is cost effective both in terms of construction and maintenance and makes efficient water collection and drainage possible even when an ambient underground water level is low in an original position confinement construction method for surely preventing the diffusion of polluted soil.例文帳に追加

汚染土壌の拡散を確実に防止するための原位置封じ込め工法において、施工面、維持管理面の両者において経済的であり、周辺地下水位が低い場合でも効率的な集排水が可能な地下水集排水構造を提供する。 - 特許庁

To provide such a field-effect transistor having an active layer composed of an oxide semiconductor that is capable of suppressing diffusion of electrode material into the active layer, achieving low electric resistance of the electrode material, and reducing damage to the active layer, and to provide a method of manufacturing the field-effect transistor.例文帳に追加

活性層中への電極材の拡散の抑制、電極材の低電気抵抗化、さらには活性層へのダメージ低減を図ることができる、酸化物半導体からなる活性層を有する電界効果型トランジスタ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The die becomes more easily releasable caused by a good lubricity of the amorphous boron nitride, is enhanced in mechanical strength of the shaping face caused by an extremely high hardness of the cubic lattice boron nitride particle, and the ultra-hard coating film can inhibit diffusion of the metal element of the die base.例文帳に追加

金型は、非晶質窒化ホウ素の良好な潤滑性により離型し易くなり、立方格子窒化ホウ素粒子の極高の硬度により成形面の機械強度が増加し、また、該超硬被膜は金型ベースの金属元素の拡散を防止することができる。 - 特許庁

To form a drilled hole without loosening a stratum or making a void, by suppressing the diffusion of air into the surrounding stratum, even when cuttings are discharged by discharging the compressed air to the leading end side of a tool body in the excavation of highly-permeable stratum.例文帳に追加

透過性の高い地層を掘削する際に、圧縮空気を工具本体の先端側に排気することにより繰り粉を排出する場合でも、周囲の地層への空気の放散を抑制して、地層を緩めたり空隙を生じたりすることなく削孔を形成する。 - 特許庁

Since the flash light emitting member (71) is arranged in the vicinity of the photographing lens 6 and the light diffusion member 9 is integrally formed into the mold member 8 around the photographing lens 6, the photographing lens 6 and the flash light emitting member (71) can be packaged at high density on the most-approached positions.例文帳に追加

撮影レンズ６の近傍にフラッシュ用発光部材（７１）を配置して、撮影レンズ６周囲のモールド部材８に光拡散部材９を一体に設けたので、撮影レンズ６及びフラッシュ用発光部材（７１）を最接近位置に高密度実装できる。 - 特許庁

The front face substrate and the back face substrate are sealed through a sealing layer 33 at peripheral parts, and a diffusion layer including components of the sealing layer is formed on the plate side of the interface between at least one of the front face substrate and the back face substrate and the sealing layer.例文帳に追加

前面基板および背面基板は封着層３３を介して周辺部が封着され、前面基板および背面基板の少なくとも一方と封着層との界面の上記板側に、封着層の成分を含有した拡散層が形成されている。 - 特許庁

By such a constitution, ventilation action by introduction of fresh air and temperature control action by diffusion of air-conditioned air are parallelly performed by operating the air blower fan X, and a more comfortable air conditioning characteristics are obtained as compared with, for example, the case of a sole temperature control action.例文帳に追加

かかる構成によれば、上記送風ファンＸの運転により、外気導入による換気作用と空調空気の吹吹き出しによる温調作用とが並行して行われ、例えば温調作用のみの場合に比して、より快適な空調特性が実現される。 - 特許庁

The diffusion angle θ, at which the gain of diffused light passing through the diffusing layer 5-2, becomes half the peak gain, pitch fp of the Fresnel lens 5-1, and length L of a light path between the diffusing layer 5-2 and the lenticular lens 5-4 are set to satisfy the relation θ≥tan^-1(fp/2L).例文帳に追加

拡散層５−２を通過する散乱光のゲインがピークゲインの２分の１になる散乱角度θと、フレネルレンズ５−１のピッチｆｐと、拡散層５−２・レンチキュラーレンズ５−４間の光路長Ｌとを、θ≧ｔａｎ^−１（ｆｐ／２Ｌ）の関係にする。 - 特許庁

A functional fabric comprises a water absorbing processing agent and a water repellent processing agent applied to one surface of a fiber fabric, and the surface applied with these processing agents has a water absorption performance (measured by a dropping method according to JIS L 1097) of 5 to 30 seconds and a water absorption diffusion ratio of 1:1 to 1:3.例文帳に追加

繊維布帛の同一面に、吸水性加工剤と撥水性加工剤を付与させてなり、該加工剤が付与されている面の吸水性能（ＪＩＳ Ｌ １０９７ 滴下法）が５〜３０秒であり、吸水拡散比率が１：１〜１：３である機能性布帛。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel, an optical sheet set arranged and installed between the liquid crystal display panel and backlight units, and a support means which does not depend on individual components in order to support a light diffusion plate in a thin type display device which has the liquid crystal display panel as a screen display element.例文帳に追加

液晶表示パネルを画面表示素子とする薄型表示装置において、該液晶表示パネルおよびバックライトユニット間に配設する光学シートセットおよび光拡散板を支持するための個別部品によらない支持手段を提供する。 - 特許庁

The optical diffusion plate consists of a birefringent film comprising a matrix in which micro regions with refraction characteristics in the thickness direction different from those of the matrix material are dispersed and distributed and is characterized by having the matrix material containing a homeotropically aligned liquid crystal material.例文帳に追加

マトリクス中に、マトリクス材料とは厚さ方向の屈折特性が相違する微小領域が分散分布した複屈折性フィルムからなる光拡散板であって、マトリクス材料がホメオトロピック配向液晶材料を含んでなることを特徴とする光拡散板。 - 特許庁

When an optical disk having three recording layers is a target, the laser beam is converged on the middle second recording layer in the parallel driving state of the liquid crystal lens, and on the first and second recording layers in the convergence/diffusion driving state.例文帳に追加

記録層を３層有する光ディスクを対象とする場合、レーザ光は、液晶レンズが平行駆動状態にあるときに真中の第２の記録層に収束され、収束／拡散駆動状態時には、それぞれ第１および第２の記録層に収束される。 - 特許庁

At this time, the OH group on the glass surface of the optical fiber 11 is substituted with a halogen element, and therefore the occurrence of defects by the generation and diffusion of the OH group during the heat treatment is lessened and the degradation in the mechanical strength of the optical fiber is suppressed.例文帳に追加

このとき、光ファイバ１１のガラス表面上のＯＨ基がハロゲン元素に置換されるので、加熱処理時にＯＨ基が発生及び拡散されることによる欠陥の発生を低減して、光ファイバの機械的強度の低下を抑制することができる。 - 特許庁

To decrease a diffusion resistance of each gas flowing toward each electrode in each electrochemical cell, and also to control deterioration of material for connecting parts of the electrochemical cells next to each other in an electrochemical device which has a structure consisted of plural electrochemical cells connected electrically to each other.例文帳に追加

複数の電気化学セルを電気的に接続してなる構造の電気化学装置において、各電気化学セルの各電極に至るまでの各ガスの拡散抵抗を減らし、かつ、隣接する電気化学セルの接続部分の材質の劣化を抑制する。 - 特許庁

Therefore, when the impurity region 132 is subjected to heat treatment process after ion implantation, the occurrence of potential decline in the readout gate section 140 is suppressed, and the blooming of the section 140 can be prevented so that the thermal diffusion in the impurity region 132 does not effect the gate section 140.例文帳に追加

したがって、Ｎ^- 型不純物領域１３２をイオン注入して熱工程にかける際に、熱拡散の影響が読み出しゲート部１４０に及ばないようにし、読み出しゲート部１４０のポテンシャル低下を抑制し、この部分のブルーミングを防止する。 - 特許庁

To provide a polarographic apparatus for measuring a concentration of residual chlorine which can easily and always stably detect a diffusion current by a reduction reaction of the residual chlorine, even when a fluid state of a sample solution with a wide range concentration to be measured changes.例文帳に追加

広範囲の濃度を持つ被測定試料液の流動状態が変化しても、容易にかつ常に安定して残留塩素の還元反応による拡散電流を検出できるポーラログラフ式の残留塩素濃度測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A liquefied impurity source 3, composed of a mixture of aluminum, boron, and an organic solvent, is coated on the silicon oxide film 2, and this is heated at temperatures lower than the diffusion temperatures of aluminum, and the organic solvent is evaporated to form a layer containing aluminum and boron.例文帳に追加

シリコン酸化膜２の上にアルミニウムとホウ素と有機溶剤との混合物から成る液状不純物源３を塗布し、これをアルミニウムの拡散温度よりも低い温度で加熱して有機溶剤を蒸発させてアルミニウムとホウ素を含む層を形成する。 - 特許庁

The backlight assembly 40 includes a light source 41 which emits light, and an incident face 101 of the light onto which the light emitted from the light source 41 is made incident, and which guides the light, and a diffusion region of the light is formed on the incident face 101 of the light.例文帳に追加

バックライトアセンブリー４０は、光を出射する光源４１、及び光源４１から出射された光が入射されて、当該光を案内する光の入射面１０１を含み、前記光の入射面１０１には光の拡散領域が形成される。 - 特許庁

A p-n joint part between a p-type diffusion layer 2 and an n-type silicon substrate 1 is formed in an element formation area divided by an element isolation area 5 on the surface of a semiconductor substrate 1, and a radiation sensitive area is formed by the p-n joint part.例文帳に追加

半導体基板１の表面の素子分離領域５により区画された素子形成領域に、ｐ型拡散層２とｎ型シリコン基板１とのｐｎ接合部が形成されており、このｐｎ接合部により放射線有感領域が構成されている。 - 特許庁

To provide a complex plasma surface reforming process by which the surface hardness is enhanced without deteriorating corrosion resistance of austenitic stainless steel and the wear resistance is improved by making a hardened layer deeper; and a process for successively performing the penetration-diffusion of each of carbon and nitrogen by using plasma.例文帳に追加

オーステナト系ステンレス鋼の耐食性を損なわずに表面硬さを高くし、かつ硬化層を深くして耐摩耗性を向上させる複合プラズマ表面改質法および連続的にプラズマにより炭素および窒素の浸透拡散を行う方法の提供。 - 特許庁