「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

The tile carpet is preferably irradiated with ultrasonic waves after immersion in the washing liquid.例文帳に追加

タイルカーペットを洗浄液に浸漬させた後に、タイルカーペットに超音波を照射することが好ましい。 - 特許庁

COATING COMPOSITION FOR PROTECTIVE LAYER OF PHOTORESIST FILM FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The inside of a space between a lens and a substrate is supplied with the fluid during an immersion lithographic process.例文帳に追加

流体は、液浸リソグラフィプロセス中にレンズと基板との間の空間内に供給される。 - 特許庁

At the sterilization, a reflection mirror 30 is shifted to the optical axis (L1) of the liquid-immersion objective lens 8.例文帳に追加

殺菌時には、反射ミラー３０を、液浸対物レンズ８の光軸（Ｌ１）位置に移動させる。 - 特許庁

The wafer chuck 402 fixes a wafer 406 onto the top thereof, and performs processing by liquid immersion lithography.例文帳に追加

ウェーハチャック４０２は、ウェーハ４０６をその上に載置してから液浸リソグラフィにより処理を行う。 - 特許庁

The laser beam is guided by use of a reflection mirror 8 and condensed by use of a liquid immersion lens 9.例文帳に追加

レーザー光の導光には反射鏡８を用い、集光には液浸レンズ９を用いる。 - 特許庁

The silicone resin 24 is immersed in the inorganic fiber cloth 23 with an immersion rate of 50% to 100%.例文帳に追加

シリコーン樹脂２４は、50％〜100％の含浸率で無機繊維布帛２３に含浸されている。 - 特許庁

FLUID HANDLING STRUCTURE BODY, MODULE FOR IMMERSION LITHOGRAPHY APPARATUS, LITHOGRAPHY APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

流体ハンドリング構造体、液浸リソグラフィ装置用モジュール、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a compact immersion flat membrane separation device capable of sufficiently washing separation membranes.例文帳に追加

濾過膜を十分に洗浄することのできるコンパクトな浸漬平膜濾過装置を提供する。 - 特許庁

Reverse face analysis of high resolution is conducted using the semiconductor hemisphere 1c as a solid immersion lens.例文帳に追加

この半導体半球１ｃを固体浸レンズとして高分解能の裏面解析を行う。 - 特許庁

The float 36 is arranged movably inside the immersion pipe 39, and includes a permanent magnet 38.例文帳に追加

浮き３６は、浸水用配管３９内に移動可能に配置され、永久磁石３８を含む。 - 特許庁

The water purge agent includes the nonaqueous solvent for removing exposure water in the immersion lithography process.例文帳に追加

液浸リソグラフィプロセスにおける露光用水を除去するための非水溶剤を含む水パージ剤。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern of a semiconductor device using an immersion lithography process.例文帳に追加

液浸露光工程を利用した半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Because the method does not require heating or shaking of the immersion solvent, complication of work steps is avoided.例文帳に追加

また、浸漬溶剤を加温したり、振動させたりしないので、作業工程が複雑にならない。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus which can easily monitor a status of fluid used for immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光に使用される流体の状態を容易にモニタリングできる露光装置を提供する。 - 特許庁

To reduce the erosion of a immersion nozzle at the continuous casting time, without needing a significant facility investment.例文帳に追加

大きな設備投資を行わずに、連続鋳造時における浸漬ノズルの溶損を低減すること。 - 特許庁

In the immersion tank 7, upper and lower two-step type reciprocating immersion channel is formed and a loading inlet also working as a taking outlet 31 for a roll-like long strip is formed in an upper part of one end in the transportation direction.例文帳に追加

浸漬槽７には、上下二段式の往復浸漬通路を形成すると共に、搬送方向の一方端の上部にロール状長尺帯状体の投入兼取出口３１を形成する。 - 特許庁

A liquid immersion member is disposed, in a liquid immersion exposure apparatus, on an optical member and at least a part of a periphery of a light path of exposure light that passes through a liquid between the optical member and an object.例文帳に追加

液浸部材は、液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される。 - 特許庁

A liquid immersion member 3 is disposed, in a liquid immersion exposure apparatus, on an optical member and at least a part of a periphery of a light path of exposure light that passes through a liquid between the optical member and an object.例文帳に追加

液浸部材３は、液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される。 - 特許庁

To provide a cleaning method and a cleaning device of exposure apparatus which remove contaminants deposited on the surface of a last optical element touching immersion liquid by using the immersion exposure apparatus over a long term.例文帳に追加

液浸露光装置の長期に亘る使用により、最終光学素子の液浸液と接する表面に堆積した汚染物質を除去する露光装置の洗浄方法および洗浄装置を提供する。 - 特許庁

Since the tilting device is shifted together with truck 10, the facility can be minimized, and when the immersion nozzle 4 is inserted into the mold M, it is no care that the immersion nozzle 4 and the mold M are broken.例文帳に追加

傾転装置が台車１０とともに移動するので、設備を小型化することができ、浸漬ノズル４をモールドＭに挿入するときに、浸漬ノズル４およびモールドＭを破損する心配がない。 - 特許庁

A function of the liquid flow dividers is to prevent formation of one or a plurality of recycle zones of an immersion liquid which often produce change in refractive index of the immersion liquid in the space, or consequently sometimes produce mapping error.例文帳に追加

液体分流器の機能は空間内の液浸液の屈折率の変化、ひいては写像エラーを生ずることがある液浸液の１つ又は複数の再循環ゾーンの形成を防止することである。 - 特許庁

A film unit 4 having the immersion film 25 and a diffuser 26 for cleaning the immersion film 25 is arranged in the endless channel type aeration tank 1, and a flow cutoff wall 20 is arranged upstream from the film unit 4.例文帳に追加

浸漬膜２５と浸漬膜２５を洗浄する散気装置２６とを有する膜ユニット４を無終端水路式曝気槽１内に配置し、膜ユニット４の上流側に遮流壁２０を配置する。 - 特許庁

To finish cooking more closely to the desired end time and to cook rice corresponding to the actual immersion time, in a rice cooker for performing reserved rice cooking by a rice cooking sequence corresponding to the immersion time.例文帳に追加

浸漬時間に応じた炊飯シーケンスで予約炊飯を行う炊飯器において、より希望する終了時間近くに炊き上がるようにし、実際の浸漬時間に応じた炊飯を行うようにする。 - 特許庁

To provide a nonaqueous electrolyte secondary battery equipped with electrolyte immersion hole sealing structure with high reliability by cutting off infiltration of electrolyte solution into a welded part of a battery receptacle and an immersion hole sealing body.例文帳に追加

電池容器と注液孔封孔体との溶接部への電解液の浸透を低減し、信頼性が高い電解液注液孔封孔構造を備えた非水電解質二次電池を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for immersion exposure, the composition giving a preferable pattern shape and having an excellent depth-of-focus characteristic and a small amount of eluted material into water in contact with the composition during immersion exposure.例文帳に追加

得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、且つ液浸露光時に接触した水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The ratio (D_t/D_0) of an average thickness D_0 of the oxide film on the surface of the stainless plate before the immersion and an average thickness D_t of the oxide film on the surface of the stainless plate after the immersion is ≥1.1.例文帳に追加

また、浸漬処理前の鋼板表面の酸化皮膜の平均厚みＤ_０に対する浸漬処理後の鋼板表面の酸化皮膜の平均厚みＤ_ｔの比率Ｄ_ｔ／Ｄ_０は、１.１以上である。 - 特許庁

The liquid immersion member forms a liquid immersion space by holding a second liquid between the member and the object so that an optical path is filled with the second liquid, in at least a part of radiation of the exposure light to the object.例文帳に追加

液浸部材は、物体に対する露光光の照射の少なくとも一部において、光路が第２液体で満たされるように物体との間で第２液体を保持して液浸空間を形成する。 - 特許庁

A heat attenuating device 111 is provided, and is constituted to reduce variation induced by a temperature distribution TE of the liquid immersion elements by the liquid immersion medium 110.1.例文帳に追加

熱減衰装置１１１が設けられており、この熱減衰装置１１１は、液浸媒体１１０．１によって液浸素子の温度分布ＴＥに誘発される変動を減じるように構成されている。 - 特許庁

Liquid immersion liquid is supplied to an exposure part passage 22 between a projection optical lens 12 and a wafer 18 on a stage 14, and the projection optical lens 12 exposes the wafer 18 through the liquid immersion liquid.例文帳に追加

投影光学系レンズ１２とステージ１４上のウエハ１８の間の露光部流路２２に液浸液体が供給され、液浸液体を通して投影光学系レンズ１２がウエハ１８を露光する。 - 特許庁

The sampler 90 may be located on a surface of the immersion system so as to collect sample particles by contact of the collector surface 96 with a liquid or with a surface of the immersion system.例文帳に追加

サンプラ９０は、コレクタ表面９６を液体と、又は液浸システムの表面と接触させることによってサンプル粒子を採取するように、液浸システムの表面に配置することができる。 - 特許庁

In the immersion lithography apparatus in which immersion liquid is supplied to a localized space, a plate 24 is provided to divide a space between projection system PL and a substrate W into two parts.例文帳に追加

局所的空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、投影システムＰＬと基板Ｗの間の空間を２つの部分に分割するためのプレート２４が提供される。 - 特許庁

The total content of the metal impurities is less than or equal with 10 ppb, in an immersion liquid with which a gap is filled between an optical lens and a silicon wafer inside an immersion type exposure system for exposure.例文帳に追加

液浸型露光装置内の光学レンズとシリコンウェハ間を満たして露光する液浸水であって、その金属不純物の総含有量が１０ｐｐｂ以下であることを特徴とする液浸水。 - 特許庁

In the upper part box body 5, a rinsing water immersion tank 16 is installed in the inlet side of a container 10 transported into and a container guard 20 inserted in the rinsing water immersion tank 16 forms an upper part water sealing means.例文帳に追加

上部箱体５には搬送される容器１０の入口側にすすぎ水浸漬槽１６を設け、該すすぎ水浸漬槽１６内に挿入される容器ガード２０にて上部水封手段を形成する。 - 特許庁

To provide a technique capable of maintaining a final surface of a projection optical system, in an immersed state, or in a new and useful for generating the immersion state, in an exposure apparatus that uses immersion method.例文帳に追加

液浸法を適用した露光装置において、投影光学系の最終面を液浸状態に維持し、または当該液浸状態を生成するための新規かつ有用な技術を提供する。 - 特許庁

The temperature detection unit 20 has a stirring bar 21 being swingable with an immersion part 24 immersed in the oil in the oil pot 2, and a temperature detector 26 attached to the immersion part 24 of the stirring bar 21.例文帳に追加

温度検出手段２０は、浸漬部２４が油槽２の油内に浸漬された状態での揺動が可能な攪拌棒２１と、攪拌棒２１の浸漬部２４に付設される温度検出器２６とを備える。 - 特許庁

In the exposure device, an immersion area of a liquid LQ is formed between a projection optical system PL and a substrate P, and exposure of the substrate P is performed via the projection optical system PL and the liquid LQ in the immersion area.例文帳に追加

投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that is improved in line edge roughness by normal exposure and liquid immersion exposure and exhibits excellent conformability to water in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To moderate a defect induced by an immersion liquid in an immersion lithography projection apparatus where a liquid removal system surrounds a liquid supply system for providing liquid to a space between a projection system and a substrate.例文帳に追加

液体除去システムが投影システムと基板の間の空間に液体を提供する液体供給システムを囲む、液浸リソグラフィ投影装置において、液浸液により誘起される欠点を緩和する。 - 特許庁

To provide a molten metal holding device in which heating efficiency by an immersion heater can be improved, and a molten metal leakage prevention seal at the proximal end part of the immersion heater can be made needless.例文帳に追加

浸漬ヒータによる加熱効率を向上させることができるとともに、当該含浸ヒータの基端部の溶融金属漏れ防止シールを不要とすることができる溶融金属保持装置を提供する。 - 特許庁

The immersion lithographic device includes a curved surface that is curved so that drainage force of surface tension acts in a certain direction on a film of an immersion liquid on the curved surface.例文帳に追加

湾曲面であって、湾曲面上の液浸液の膜に対してある方向に表面張力の排流力が作用するように湾曲した湾曲面を備える液浸リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

The optical storage medium 68 has a recording layer placed on the other surface opposite to the one surface of an optical transmissible layer facing the solid immersion lens or solid immersion optical system 64.例文帳に追加

光学的貯蔵媒体６８は固体含浸レンズまたは固体含浸光学系６４に向い合う光学的透過層の一方の表面の反対になる他方の表面に置かれた記録層を備える。 - 特許庁

To provide a liquid immersion exposure resin of radiation sensitive composition which is good in pattern shape to be obtained, excellent in focus depth and small in the amount of elution during liquid immersion exposure.例文帳に追加

得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、且つ液浸露光時に接触した水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The immersion lithographic apparatus may comprise a substrate table for supporting a substrate and a fluid confinement structure for confining immersion fluid between a projection system and the substrate table and/or the substrate.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、基板をサポートするための基板テーブルおよび投影システムと基板テーブルおよび／または基板との間に液浸流体を閉じ込めるための流体閉じ込め構造を含んでもよい。 - 特許庁

Even when the first exposure and the second exposure are performed on the substrate by using the immersion method, a liquid immersion region can be excellently formed on the substrate with each exposure to excellently expose the substrate.例文帳に追加

液浸法を用いて基板の第１及び第２露光を行う場合にも、各露光において基板上に液体の液浸領域を良好に形成し、基板を良好に露光することができる。 - 特許庁